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时间:2019-02-10
《不同清洗方法对金基底及其自组装膜表面性质影响的研究》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、摘要自组装膜是指以共价键或非共价键相互作用,在一定表面上形成的具有某种特定结构、性能的单层或多层超薄膜。由于这类超薄膜可以被赋予特殊的光、电、催化等性能,因而它们在分予器件、化学修饰电极、电化学传导、生物传感器、光学传感器、换能器以及商容量电池等方面有着广泛的应用价值。SAMs的结构是由基底表面特征、成膜分子与基底的作用方式、分子的结构和空间效应等因素综合平衡的结果。目前,文献报道的自组装膜制各过程中对基底表面的清洗处理方法主要有:表面等离子体清洗、UV/03清洗、Piranha清洗等。然而尚未见到有关这些处理方法
2、对自组装膜形成质量影响的系统研究报道。因此我们本文选择用等离子清洗的方法清洗基底,在清洗后的金基底上进行末端为烷基、羟基和羧基的巯基化合物自组装,并与Piranha清洗和UV/0。清洗方法的组装膜进行润湿性对比,利用接触角和表面能的测定来初步判断自组装膜的均匀性和致密性,进一步探究不同清洗方法处理的金基底对自组装膜形成的影响。本论文主要内容如下:1.对不同清洗方法的金表面进行静态接触角的测定与分析,测定出等离子体清洗所得的金表面对水的接触角最小,也就是说其润湿性最好,清洗效果最好。2.对比等离子体清洗、Pirhna
3、清洗和uV/03三种方法清洗所得的金基底的动态接触角和表面能,从而比较出不同清洗的基底表面均匀性及干净程度。3.对比等离子体清洗、Pirhna清洗和uv/03清洗所得的金基底组装十二烷基硫醇、11一巯基十一烷基酸、21—巯基十一烷基醇、1一己硫醇后所得的接触角,根据组装试剂的不同,判断它们对水亲和能力的大小,并与文献数值对比,可知等离子体清洗所得自组装膜具有较高的致密性和均匀性。4.测定等离子体清洗、Pirhna清洗和UV/03清洗所得的金基底组装后所得自组装膜的动态接触角和表面能。根据前进角与后退角之差越小,膜的
4、致密性和均一性越好的原理并将测得的表面能数据与文献值对比,进一步证明了等离子体清洗是i种清洗方法中最好的清洗方法,这种清洗方法对保证金基底上自组装膜的质量非常重耍。所得自组装膜的致密性和均一性较好。关键词:自组装膜氧等离子接触角表面能金基底⑧硕士举住论文MASTER’STHESISAbstractSeIf-assembledmonolayers(SAMs)iSreferredstoakindofmonomoleeularlayerwithsomespecialstructureandcapabilityformed
5、onacertainsurfaceowingtotheinteractionofCOYalentbondornon.coyalentbondbetweenmolccalesandthesubstratesurface.Duetotheabilitytobcendowedwitllspecialphotoelectronicorcatalyticalproperty,etc.,selfassembledmonolayershavesattractedgreatattentionfortheresearchonthea
6、pplicationfieldssuchasmoleculardevices,chemicallymodifiedelectrodes,electrochemicalconductivity,biosensor,opticstransducer,energytransformeraswellashigllcapabilitybatteries.ThestructuresofSAMsaredeterminedandbalancedbythecorrelatedinteractionofallfactorsinclud
7、ingthesurface吐aracters.1inkageformsbetweentheadsorbedmoleculesandthesubstratesurface,themolecularstructureandspatialeffect,etc.Uptoknow,manymethodsincludingoxygenplasmatreatment,Uv/03treatment,piranhacleaning,ctc,havebeenappliedtocleanvarioussubstratesurfacesf
8、ortheformationofselfassembledmonolayers.However,astoourknowledge,thereisnosystematicinvestigationontheinfluenceofdifferentcleaningmethodsonthequalityofformedselfassembledmonolayers
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