尼龙6纳米siolt2gt复合材料的制备、结构及性能研究

尼龙6纳米siolt2gt复合材料的制备、结构及性能研究

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时间:2019-02-06

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1、摘要本文采用熔融共混和原位开环聚合两种方法制备了尼龙6/纳米si02复合材料。前者用双螺杆挤出机,以工业级尼龙6切片为原料制备了含经表面处理和未表面处理的纳米Si02为2.5wto/o的尼龙6,纳米Si02复合材料;后者以己内酰胺为单体,水为开环剂,6一氨基己酸为催化剂,原位开环聚合制备了尼龙6,纳米si02复合材料,从分子量角度基本达到成纤聚合物的要求。用硅烷偶联剂KH一550作为纳米Si02的表面处理剂对纳米Si02进行表面处理,并用扫描电子显微镜(SEM)、热重分析(TG)、红外光谱(FT-IR)分析及沉降分析等手段对纳米Si02表面改性效果进行了研究,结果表明:经KH--550

2、表面处理后纳米si02的分散效果增强。用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、差示扫描量热(DSC)、偏光显微镜(POM)、X射线衍射(x-Ray)、热重分析(TG)、动态力学分析(DMA)以显微高温静动态试验机等对尼龙6,纳米Si02复合材料的结构与性能进行了研究。研究中发现,改性后的纳米Si02在尼龙6基体中的分散效果较好,随着用量的增多,纳米Si02部分团聚;纳米Si02的加入,提高了结晶速率却降低了尼龙6的热结晶温度和结晶度。加入纳米Si02后,球晶的尺寸变小,数量增多。经170℃退火后复合材料的x射线衍射结果表明,复合材料的晶型由纯尼龙6的a型转换为Y型:熔融共

3、混制备的复合材料的热稳定性增强,而原位聚合法制备的复合材料受制备方法的影响,热稳定性没有明显的变化。采用动态力学(DMA)方法进一步研究的结果显示,纳米Si02的加入提高了复合材料的储能模量,且提高量随纳米Si02的加入量增大,聚合物的Tg向低温方向移动。复合材料在显微高温静动态试验机上进行室温静态拉伸结果表明,尼龙6/纳米Si02复合材料的破坏基本上基于银纹理论和空化理论:纳米Si02粒子作为应力集中物引发与基体问的大量银纹,吸收大量能量,同时银纹间应力场相互干扰,降低了银纹端应力,阻碍了银纹的发展。当外应力场很大时,三轴应力使粒子周围引起空化,同样能吸收大量能量,阻碍材料的破坏。关

4、键词:熔融共混;原位聚合:尼龙6;纳米二氧化硅;复合材料;动态力学分析;拉伸破坏ABSTRACTNylon6/nanosilicacompositeswerepreparedbytwomethods:melt-·blendingandin—situring—openingpolymerization.Theformerwereproducedbytwo-screwextruderfromindustrynylon6slicesandthecontentofnanosilicaincludingsurfacetreatedanduntreatedseparatelywas2.5wt%;t

5、helatterweresysthesisedbyring—openingpolymerizationwhichusing£一caprolactamasmonomer,waterasring—openingagent,and6-aminocaproicacidascatalyzer.ThenanosilicawastreatedbysilianecouplingagentKH一550,thenresearchedbyScanningElectronicMicroscope(SEM),Thermogravimetricanalysis(TG),Fourier-transforminfra

6、redspectroscopy(FT-IR)andsedimentation.TheresultsshowedthatthesurfacemodificationofnanosilicabyK/-/一550waseffectual.Themeasures,suchasSEM,TransmissionElectronMicroscope(TEM),DifferentialScanningCalorimetry(DSC),PolarizingOpticalMieroscope(POM),X-Raydiffraction,TQDynamicmechanicsanalysis(DMA)andt

7、hemicro—high-temperaturestaticanddynamicstatetestingmachinewereusedforresearchingthestructureandthepropertiesofnylon6/nanosilicacomposites.ItWaSfoundthatthenanosilicadispersedwellinsidenylon6matrixafterbeingsurface—treatedby

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