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时间:2019-02-06
《低温等离子体技术在玻璃片基表面活化修饰中的应用》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、摘要摘要本论文利用介质阻挡放电(DBD)这种低温等离子体技术对玻璃材料进行表面改性处理,用以改善生物分子固定能力,完成了对固定生物分子的玻璃载体的表面预处理和活化步骤的方法探讨。通过sEM、XPS、FT-喂以及接触角测定、酸性橙一7对氨基的定量反应检测和Uv-vis等方法表征了等离子体放电处理后的玻璃基片的表面形貌、表面羟基、氮基等基团的变化、亲水性的改善、活化后表面所连接的氨基含量和最后固定核酸的效率。研究了DBD等离子体处理对玻璃基片表面性质以及对氨基硅烷活化玻璃基片后表面连接氨基量和随后基片固定核酸效率的影响。分析表明,利用等离子体对材料表面的改性能力,以DBD等离子体技术代蛰常用的化学
2、试剂处理方法对玻璃基片进行预处理,可引起玻璃基片表面键合和基团的显著变化,使基片表面硅羟基团含量显著增加,同时亲水性增强,而表面粗糙度没有较大增加,增强了玻璃表面与活化试剂氨基硅烷的连接能力。硅羟基团与氨基硅烷形成共价结合使基片表面成为氨基化表面,增强了基片的活性,提高了表面的核酸固定效率。实验中对影响玻璃基片亲水性能和固定生物分子效果的多项工艺处理条件进行了分析与优化。结果表明,放电电压、频率、时间、气体放电间隙、玻璃基片厚度咀及氨基硅烷的浓度和处理时间对玻璃基片表面羟基和氨基基团以及核酸固定效率有着直接影响,并确定了最佳处理条件范围。实验证实,介质阻挡放电(DBD)等离子体技术完全可以应用
3、在改性、活化玻璃材料载体以固定生物分子的领域之中。并获得较好效果。关键词:介质阻挡放电(DBD)等离子体,表面改性,生物分子固定,玻璃基片,氮基硅烷,硅羟基团垒!!塑璺——___-_H-____--—————●—__——___________———__-_—————,——_-_____--_______________——AbstractAnovelmethodwasdevelopedforsurfacepretreatmentandactivationofglasscarrierforbiomolecularimmobilization.Toincreasethecapabilityofbi
4、omoleculatimmobilization,DielectricbarrierdischargemBD)plasmatechnologywasintroducedintosurfacemodificationofglassmaterial.Surfacetopography,grouppropertieschanges,hydrophilicpropertychange,aminogroupcontent,DNAimmobilizationeffectonthesurfaceofglasspretreatedandactivatedwerccharacterizedwithSEM,XPS
5、,FT-IR,Comactangleanalysis,quantitativedeterminationofAcidOrange-7foraminogroupcoutcnt,Uv-vis,etc.ItisinvestigatedthattheeffectDBDplasmatreatmentconditionsonglasssurfaceproperties,aminogroupcontentandDNAimmobilizationeffectofglassactivatedwithaminosilane.Asaresult,DBDplasmaforitsdesirablecapabilityo
6、fmaterialsurfacemodification,insteadofchemicalsolutiontreatment,maychangegroupproperties,increaseSi—OHco.cutandhydrophilicpropertieswithomsurfacetopographyworsenedandmakeiteasierforlinkagebetweenglassandaminosilaneontheSurfaceofglassslide,atlast,formamino-modifiedsurface.111detaJl.bymeansofanalysisa
7、ndoptimizationonthetreatmentconditions,theresultsindicatethedirecteffectofdischargevoltage,frequency,timeandgasdischargegapdistance,glassslidethickness,aminosilaneconcentrationandtreatmenttimeonhydrox
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