ni纳米tiolt2gt复合电镀层的制备与性能研究

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1、Ni-纳米Ti02复合电镀层的制备与性能研究摘要在纯镍镀液中添加纳米Ti02粒子，采用复合电镀的方法下制备出Ni一纳米Ti02复合电镀层。系统地研究了Ni．纳米Ti02复合电镀过程中镀液组分浓度、表面活性剂、各工艺条件对镀层性能及表面形貌的影响。用x．射线衍射分析(Ⅺm)、金相显微镜研究了镀层的成分、结构和表面形貌。得出的优化镀液成分为NiS04-7H20：2409-L～，NiCl2·6H20：409．L～，H3803：409·L一，光亮剂：0．05～O．19．L-I，纳米Ti02添加量：249．L～，阳离子表面活性剂。优化的工艺条件如下：阴极电流密度：2．0～3A-dm一，搅

2、拌速率：675rImin～，pH值：3．5～4．5，施镀温度：30～55℃，施镀时间：2～3h，纳米Ti02超声波分散。在该配方和工艺条件下获得的复合镀层表面光亮、硬度高、与基体结合良好。研究表明，选择阳离子表面活性剂、超声波分散的方式对纳米Ti02粒子进行分散，所得复合镀层性能较佳。纳米Ti02粒子的加入使镀层的硬度明显提高，说明镀层中确实存在纳米Ti02的强化作用。但纳米Ti02粒子的加入不能显著改善镀层的耐蚀性。添加24g-LJ纳米Ti02的镀层性能较佳。xRD分析表明，纳米Ti02粒子的加入使镀层中的Ni特征峰宽化，但图谱中未见Ti02特征峰，说明纳米Ti02粒子参与了

3、Ni一纳米Ti02复合电沉积过程，但镀层中纳米Ti02含量较低。关键词：复合电镀，Ni，纳米Ti02，表面活性剂，耐蚀性STE秘YON零珏Ep薹t嚣默RA零薹oNANDp颡oP嚣髑嚣SoFNi—NANO-Ti02ELECTRODEPOSITEDCoATINGABSTRAC茧N主一n赚o-Ti媲de咖deposit￡}dco商ngwas郯paredbymea

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