多晶硅纳米膜表层钝化的研究 毕业论文

多晶硅纳米膜表层钝化的研究 毕业论文

ID:318161

大小:2.22 MB

页数:59页

时间:2017-07-22

多晶硅纳米膜表层钝化的研究  毕业论文_第1页
多晶硅纳米膜表层钝化的研究  毕业论文_第2页
多晶硅纳米膜表层钝化的研究  毕业论文_第3页
多晶硅纳米膜表层钝化的研究  毕业论文_第4页
多晶硅纳米膜表层钝化的研究  毕业论文_第5页
资源描述:

《多晶硅纳米膜表层钝化的研究 毕业论文》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库

1、硕士学位论文(工程硕士)多晶硅纳米膜表层钝化的研究RESEARCHONOHMICCONTACTPROPERTIESOFPOLYSILICONNANOFILMS20年6月国内图书分类号:TN432学校代码:10213国际图书分类号:621.3.049.774密级:公开硕士学位论文(工程硕士)多晶硅纳米膜表层钝化的研究硕士研究生:郑海涛导师:谭晓昀教授申请学位级别:工程硕士学科、专业:微电子学与固体电子学所在单位:微电子科学与技术系答辩日期:2010年6月授予学位单位:哈尔滨工业大学ClassifiedIndex:TN432U.D

2、.C.:621.3.049.774ADissertationfortheMaster'sDegreeofEngineeringRESEARCHONOHMICCONTACTPROPERTIESOFPOLYSILICONNANOFILMSCandidate:ZhengHaitaoSupervisor:Prof.TanXiaoyunAcademicDegreeAppliedfor:MasterofEngineeringSpecialty:MicroelectronicsandSolid-StateElectronicsAffilia

3、tion:DepartmentofmicroelectronicscienceScienceandtechnologyDateofOralExamination:June,2010University::HarbinInstituteofTechnology哈尔滨工业大学工程硕士学位论文摘要多晶硅纳米膜凭借其优良的压阻特性及温度稳定性可广泛应用于压阻式传感器,而表层钝化的质量是影响传感器可靠性和稳定性的重要因素,因此表层钝化的改进对于传感器性能的提高及实用化有重要意义。课题主要研究多晶硅纳米薄膜的表层钝化。分析多晶硅表层钝化的

4、原理和种类,对几种钝化材料进行分析和比较,确定了利用低压化学气相淀积法(LPCVD)和等离子体气相沉积法(PECVD)来制作含有二氧化硅,氮化硅和聚酰亚胺树脂的单层或双层的钝化介质膜。利用低压化学气相淀积法(LPCVD)在表面有热氧化二氧化硅的(111)硅衬底上生长87.1nm厚多晶硅纳米膜,采用原子力显微镜对多晶硅纳米膜进行表征,纳米膜的晶粒大小均匀;采用X射线衍射(XRD)表征单晶硅与多晶硅界面的结晶学结构,得到多晶硅的XRD分析图;结合半导体制作工艺,并利用(LPCVD)和(PECVD)分别制作出不同组合的多晶硅钝化薄膜

5、。对表层钝化理论的少子平均寿命与表明复合速率的关系进行分析,利用微波光电导衰减仪对制备的多晶硅钝化样品的少子平均寿命进行测量。并对所测量的少子寿命平均分布图以及平均寿命的数据进行了分析,得出所制备的多晶硅钝化样品的最高少子寿命可达到99微秒,最低少子寿命为21微秒,且双层膜的钝化效果明显好于单层膜,其中二氧化硅的钝化效果要好于聚酰亚胺树脂,氮化硅的钝化效果在三种材料的对比中,效果较差。关键词:多晶硅纳米膜;表层钝化;薄膜钝化;少子平均寿命-III-哈尔滨工业大学工程硕士学位论文AbstractDuetotheirfavorab

6、lepiezoresistivepropertiesandgoodtemperaturestability,polysiliconnanofilmshavebeenappliedinpiezoresistivesensingdevices.Moreover,theohmiccontactofmetalelectrodesisoneoftheimportantfactorsdeterminingtheproformancesofsensors.Therefore,improvingtheohmiccontactpropertie

7、shasasignificantroleontheproformanceenhancementandapplicationofsensingdevices.Westudytheprincipleandcharacteristicofohmiccontactstopolysiliconnanofilms.Theenergybandtheoryandtransportmechanismofohmiccontactswereanalyzed,themeasuremethods.ofspecificcontactcsresistivi

8、tywhichreflectsmetal-semiconductor’scharacteristicwerecompared,weadopttransmissionlinemodel(TLM)andcirculardottransmissionlinemodel(CDTLM)

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。