amc在洁净室中的监测与控制

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1、AMC在洁净室中的监测与控制胡亚南美埃（中国）环境净化有限公司摘要:近年来科学技术的不断发展，半导体工艺得以全面升级发展，使得洁净室控制质量的要求越来越苛刻。由于AMC在生产进程中针对不同制程均会产生不良的影响，使得成品质量受到严重的影响，如何针对AMC进行监测与控制就成为当前亟需解决的重要课题。关键词：洁净室;AMC;监测;控制J;0引言在洁净室技术中，污染不仅包括严格意义上灰尘的微粒，述包括任何有干扰作用的固体、液体、气体、热、电磁UL大部分洁净室均会尽可能控制各种悬浮微粒污染，由于微粒属于大颗粒

2、类型，只需要HEPA/ULPA过滤器就能够进行有效地过滤。越来越多的学者提岀，洁净室空气中的悬浮分子污染物（AMC）会对不同制程产生不良的影响，甚至所引发产品存在致命缺陷。因此，如何监测并控制洁净室中的AMC就成为当前研究的重要内容。1洁净室AMC监测1.1直接监测技术一般來说，直接检测技术主要是利用自动监测设备來实现，通过设备及时显示洁净室AMC的变化情况。当前，NH3>NO’、也S、SO2都是当前使用较为普遍的气体，主要监测原理为电化学传感器、离子迁移谱、光离子化检测器、化学发光等。如利用化学发光

3、法，利用NO（—氧化氮）与03化学反应的发光现象检测NO*的浓度是一种先进方法。其化学发光机理可用下述反应式表示：NO+03->N0.*+0.n厶—N07*—NO,+hv反应化学发光和NO浓度成正比，具体的化学发光强度I能够表示为:I=uCno公式中5指的是NO浓度，U则指的是1个与化学反应二氧化氮效率相关的系统参量，在系统处在稳定工作的状态下，u可以视作常数。1.2间接监测技术1)表面分析技术。把需要测试的样片放置到半导体洁净室中，AMC能够在样品表面位置产生分子或者原子层级的沉积膜，然后通过表面分

4、析技术，针对AMC进行分析。2)压电晶体传感器。压电晶体传感器主要包含石英晶体质量传感器与表面声波传感器。两种传感器分别利用不同的物质来获取AMC情况。1.3采样分析技术所谓采样分析法，指的是在洁净室现场进行采样，并在实验室进行分析的测试方案。具体来说，应当根据实际情况选择对应的方案。比如，针对挥发性有机气体，通常选择不锈钢桶进行采样处理，采用气相色谱/质谱GC/MS进行分析;针对无机成分，则需要选择溶液吸收进行采样处理，采用电感耦合等离子体质谱(ICP/MS)与离子色谱(IC)进行组合分析。2洁净室

5、AMC控制分析1)洁净室内部的洁净空气是通过新风装置所获取，而这些新风则是通过外气所获取，外气当中会包含SO八NOx,但半导体工厂所生成的废气，往往会对新风造成不良影响。所以，虽然排气装置已经针对各种废气进行有效地处理，虽然处理的效果也能达到90%以上，但仍存在废气宜。与此同时，因为产能的持续提升,使诸多动力设备的持续增加，所以在设计的时候，可以尝试在增能方而架高排气装置，保障各种排放废气能够进行更为彻底的扩散，新风采风口与排放装置应当尽可能远离，以此来提升新风的洁净度。2）当外气进入到新风装置以后，

6、针对新风进行处理优化。当中水喷淋装置能够直接溶解外气中部分能够溶于水的酸碱物质。通过提升喷淋装置流量，能够提升溶解效率，全面提升水质的洁净度，避免二次污染的现象。化学过滤器本身是有选择性的吸附气体。要想实现对甲醛、氨气等相关气体的吸附处理，则应当针对吸附剂实施化学处理，化学吸附通常是不可再生的，必须要进行定期更换处理。3）当新风进入到洁净室内部以后，在部分特殊的地区（如光刻地区），往往十分容易受到AMC干扰，洁净室还需要实施独立回风控制处理。一般来说，可以选择微正压处理，通过在原有FFU上增加chem

7、ical"Iter,能够显著提升净化的效果。4）对于员工操作来说，应尽可能防止化学品泄露现象。针对新的建筑材料、新设备来说，净化服应当采用AMC散发量较小的材料制作，新设备刚刚进入的时候，应当把净化间静压提高，加速AMC的挥发。3结语近年来，半导体制程技术的全面发展，芯片线宽全面进入到纳米级别，洁净室对于AMC的控制变得越来越苛刻。因此，针对洁净室AMC监测与控制至关重要,这就需要深入分析AMC的来源及危害，综合利用多项技术，针对AMC进行及时的监测，全面掌控洁净室AMC的实际情况。综合利用新风、循环

8、风、化学过滤器、物理过滤器，针对整个洁净室的环境进行全面的控制，尽可能减少AMC所造成的不良影响，全面保障半导体生产的效率与质量。参考文献[1]黄侠•新型过氧乙酸杀芽砲剂在制药洁净室中的应用[J]•中国药事，2015,29（4）:446-449.[2]张华廷，吴蔚兰，向灵均・CFD在电子洁净室节能设计屮的应用[J].制冷与空调，2013,27（6）:565-568・