碳化硅薄膜制备材料

碳化硅薄膜制备材料

ID:30328197

大小:28.67 KB

页数:21页

时间:2018-12-29

碳化硅薄膜制备材料_第1页
碳化硅薄膜制备材料_第2页
碳化硅薄膜制备材料_第3页
碳化硅薄膜制备材料_第4页
碳化硅薄膜制备材料_第5页
资源描述:

《碳化硅薄膜制备材料》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在应用文档-天天文库

1、为了适应公司新战略的发展,保障停车场安保新项目的正常、顺利开展,特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划碳化硅薄膜制备材料  纳米碳化硅材料  王星  摘要:本文介绍了碳化硅的结构,纳米碳化硅几种常用的制备的方法和它掺杂改性以及应用。虽然SiC纳米材料制备规模小、成本高、工序复杂,近期难以实现大规模生产,但SiC纳米材料性能优于传统的SiC材料,能够达到高新技术领域的严格要求,具有更为广泛的用途,为此,应进一步加大对SiC纳米材料的研究。关键词:纳米碳化硅掺杂改性应用  1引言目的-通过该

2、培训员工可对保安行业有初步了解,并感受到安保行业的发展的巨大潜力,可提升其的专业水平,并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展,保障停车场安保新项目的正常、顺利开展,特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划  纳米材料的出现是21世纪材料科学发展的重要标志,它所表现出的强大的科学生命力不仅是因为揭示出科学的深刻物理含义,而更重要的是它所发现的新结构、新现象、新效应源源不断地被用来开发具有新结构、新性能的固体器件,对通讯、微电子等高新技术产生极其深远的影响。SiC纳米材料具有高的

3、禁带宽度,高的临界击穿电场和热导率,小的介电常数和较高的电子饱和迁移率,以及抗辐射能力强,机械性能好等优点,成为制作高频、大工率、低能耗、耐高温和抗辐射器件的电子和光电子器件的理想材料。SiC纳米线表现出的室温光致发光性,使其成为制造蓝光发光二极管和激光二极管的理想材料。所以,对纳米碳化硅材料的研究具有十分重要的意义。2碳化硅的结构  碳化硅俗称金刚砂,又称碳硅石是一种典型的共价键结合的化合物,自然界几乎不存在。碳化硅晶格的基本结构单元是相互穿插的SiC4和CSi4四面体。四面体共边形成平面层,并

4、以顶点与下一叠层四面体相连形成三维结构。SiC具有α和β两种晶型。β-SiC的晶体结构为立方晶系,Si和C分别组成面心立方晶格;α-SiC存在着4H、15R和6H等100余种多型体,其中,6H多型体为工业应用上最为普遍的一种。在SiC的多种型体之间存在着一定的热稳定性关系。在温度低于1600℃时,SiC以β-SiC形式存在。当高于1600℃时,β-SiC缓慢转变成α-SiC的各种多型体。4H-SiC在XX℃左右容易生成;15R和6H多型体均需在2100℃以上的高温才易生成;对于6H-SiC,即使温

5、度超过2200℃,也是非常稳定的。下面是三种SiC多形体结构图  常见的SiC多形体列于下表1:  表1SiC常见多型体及相应的原子排列  多型体晶体结构单位晶胞中参数原子排列次序  C  2H  4H  6H目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解,并感受到安保行业的发展的巨大潜力,可提升其的专业水平,并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展,保障停车场安保新项目的正常、顺利开展,特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划  8H  15R  六方六方六方六方六方菱方ABCA

6、BCABCABABABABACABACABCACBABCACBAABCABACBAABCACBCABACABCBA  3纳米碳化硅材料制备方法和掺杂改性  纳米碳化硅的制备目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解,并感受到安保行业的发展的巨大潜力,可提升其的专业水平,并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展,保障停车场安保新项目的正常、顺利开展,特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划  溶胶-凝胶法溶胶-凝胶法是采用特定的纳米材料前躯体在一定的条件下水解,形成溶胶,然后经溶

7、剂挥发及加热等处理,使溶胶转变成网状结构的凝胶,在经过适当的后处理工艺形成纳米材料的一种方法。张洪涛等人[1]采用长链三甲氧基硅烷和正硅酸乙酯两种有机物为起始原料,用溶胶一凝胶法通过合理控制反应条件,制备出SiC凝胶粉体,然后在氩气氛中,900—1300℃下热处理,制备了高纯、低氧含量,直径,长度的SiC晶须;缺点是容易形成团聚,分散性和结晶度差。张波[2]等人用蔗糖和正硅酸乙酯为前躯体,用溶胶-凝胶法通过合理控制反应条件,并证明只要添入适量的水与TEOS反应,无论是在酸碱条件下,将凝胶块研磨成粉

8、后,于1400℃在氩气气氛下热处理,最后在600℃于空气中除碳,都能得到粒径为15-20nm左右的β-SiC粉。此种工艺方法具有成本低廉,工艺简单等特点,但水的加入量应严格计算后适量加入,而且在碱性环境中水解制得的碳化硅粉团团聚程度高。  化学气相沉积法化学气相沉积法是指通过气相化学反应生成固态产物并沉积在固体表面的过程。分为热能CVD、等离子体增强CVD、光化学CVD、  热激光CVD。化学气相沉积方法制备的碳化硅材料可以达到理论密度并具有极高的纯度,其物理性能与力学性能均十分优

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。