湖北三翔超硬材料有限公司(共7篇)

湖北三翔超硬材料有限公司(共7篇)

ID:30249153

大小:38.35 KB

页数:36页

时间:2018-12-28

湖北三翔超硬材料有限公司(共7篇)_第1页
湖北三翔超硬材料有限公司(共7篇)_第2页
湖北三翔超硬材料有限公司(共7篇)_第3页
湖北三翔超硬材料有限公司(共7篇)_第4页
湖北三翔超硬材料有限公司(共7篇)_第5页
资源描述:

《湖北三翔超硬材料有限公司(共7篇)》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在应用文档-天天文库

1、为了适应公司新战略的发展,保障停车场安保新项目的正常、顺利开展,特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划湖北三翔超硬材料有限公司(共7篇)  附件:  湖北省XX年度第一批高新技术产品  登记备案企业与产品  附件:  湖北省XX年度第一批高新技术产品  登记备案企业与产品  纳米超硬多层膜  超硬薄膜系指显微硬度大于40GPa的二维固体薄膜材料。它具有极高的硬度,低摩擦系数和热膨胀系数,高热导率以及与基体良好的相容性,在工业材料中有着重要的应用前景。根据薄膜镀制的层数可以分为单层膜,多层膜等,自Au2Ni多层膜体系中发现小周期下硬度异常升高以来,

2、由2种或2种以上材料以纳米量级厚度交替沉积形成的纳米多层膜逐渐引起了人们的兴趣。  1纳米超硬多层膜及制备工艺目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解,并感受到安保行业的发展的巨大潜力,可提升其的专业水平,并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展,保障停车场安保新项目的正常、顺利开展,特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划  多层膜是由2种或2种以上成分或结构不同的薄膜在垂直于薄膜一维方向上交替生长而形成的多层结构。图1为多层膜的结构示意图,在沉积方向上重复结构单元的厚度被称为调制周期+,一个调制周期中调制层A与调制层B的厚度之比称

3、为调制比,通常将调制周期小于100nm的多层膜称为纳米多层膜。  1.1传统沉积工艺  纳米超硬多层薄膜的制备方法主要分为物理气相沉积(Phisicalvapordeposition,PVD)和化学气相沉积(Chemicalva2pordeposition,CVD)两大类,近年来都有了长足的发展。但由于PVD法具有基体温度低,污染少等优点而备受关注[5]。PVD法一般按靶材原子出射方式分为溅射法(溅射离子镀)和弧蒸发法(等离子或弧离子镀)。靶材由固态转变成气态或是蒸发或是溅射,蒸发过程中阴极很小一部分区域受到高能弧的瞬时加热,极表迅速汽化,而溅射则是靶材被

4、高能束中性粒  子碰撞出射,因此,蒸发所需的温度要比溅射高出许多。PVD镀膜过程中出射原子的离化率一直是影响薄膜质量的重要因素,离化率越高,沉积能量越大,轰击和刻蚀基材表面能力越强,膜基结合力和致密度越好。低离化率一直是困扰传统磁控溅射的首要问题,磁控溅射(1%~5%)过程中高能粒子离化率还不及阴极弧蒸发(50%~100%)的1/目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解,并感受到安保行业的发展的巨大潜力,可提升其的专业水平,并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展,保障停车场安保新项目的正常、顺利开展,特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的

5、培训计划  10。为此,包括直流多靶、射频、非平衡、单极和双极脉冲磁控溅射方法的相继问世,都在一定程度上解决了由于靶中毒所带来的低离子化问题,薄膜质量和表面粗糙度显著提高。然而,大颗粒问题一直是阴极弧蒸发所面临的首要难题,直到/热阴极分布式放电和增强弧方法出现后才得以解决。在Wang等的努力下,基于增强弧原理的过滤弧沉积系统(Filteredarcdeposition,FAD)的研制,使得大面积制备光电薄膜才得以初步实现。但所制得薄膜的性能还远不及当初所预料,因此人们把目光集中在磁控与过滤电弧,电弧与激光的结合上。W.  D.Munz等开发了一种ABS(A

6、rcbondsputtering),保持了阴极弧和非平衡磁控溅射各自的优点,制备出了高质量的(Ti,Al)N纳米超硬多层膜。  1.2脉冲激光烧蚀技术目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解,并感受到安保行业的发展的巨大潜力,可提升其的专业水平,并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展,保障停车场安保新项目的正常、顺利开展,特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划  上述制膜方法各具特色和使用范围,但也有各自的局限性,仍然不能满足薄膜研究的发展及多种薄膜制备的需要。随着激光技术和设备的发展,特别是高功率短脉冲(皮秒、飞秒)激光技术的发

7、展,脉冲激光沉积(Pulsedlaserablation,PLD)技术的优势才逐渐被人们认识和接受。脉冲激光沉积薄膜技术是各种制备薄膜方法中最简单、使用范围最广、沉积速率最高的。与其它的物理气相沉积(PVD)方法不同,PLD法薄膜沉积系统的能量源(激光束)与沉积室(真空设备)是两个相对独立的组成部件,这种结构适应性良好,更便于设备的维护和检修,彻底避免了溅射中的靶材中毒和蒸发中的能源污染等问题。PLD制备纳米薄膜是利用高能量脉冲激光器所产生的高功率脉冲激光束聚焦作用于靶材表面,使靶材表面产生高温及熔蚀,并进一步产生高温高压等离子体,这种等离子体定向沉积于基

8、体而局域形成薄膜。由于高能离子的轰击,薄膜形成初期的三维生长受到限

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。