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1、为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划国际薄膜暨光学膜设备与材料展 光学薄膜的发展趋势及分类、关键技术汇总科学的发展正在改变传统的光学薄膜的面貌，其应用也由原来的纯粹为光学仪器服务，逐渐渗透到通信、建筑、防伪、医疗和空间技术等领域。而新工艺、新材料、新技术的采用，或用来提高其性能,或与其他薄膜结合构成新的器件，如与电学膜结合起来的光电子薄膜，与高分子有机材料结合起来的光学有机薄膜。这些薄膜有着潜在而十分广阔的应用前景。新型光学薄膜如高强度激光膜、金刚石及类金刚石膜、软X射线多层膜、
2、太阳能选择性吸收膜和光通信用光学膜的制备及其在器件方面的研究和应用情况。下面就目前及未来几年应用广泛、符合薄膜发展方向的设备及技术进行阐述： 一、磁控溅射设备及工艺技术目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜力，可提升其的专业水平，并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划 在光学薄膜领域，真空蒸发技术占据主导地位已经超过50年，并且一直在不断发展。高性能的电子枪、离子辅助镀膜、低压反应离子镀膜、高精度的监控技术、自动化的
3、镀膜过程等一系列的进展，使得蒸发技术达到了极高的水平，制备出了DWDM、GFF增益平坦滤光片等高性能的薄膜元器件，令人叹为观止。但是，随着蒸发镀膜机性能的不断提高，结构亦愈复杂，目前需要控制的工作参数已经超过30个。并且随着真空室状态的变化，还需要适当修正一些参数，因此使过程十分复杂，成为各种故障的潜在因素，生产中已经感到不便。 磁控溅射的工艺过程简化了许多，需要控制的工作参数约为lo个左右，更容易实现过程自动化。溅射薄膜的高聚集密度使其特性对真空室的初始状态不太敏感，所以溅射薄膜的再现性会有所提高，进行工业化生产具有明显的优势。反应磁控溅射技术目前还不
4、太适宜在弯曲面型的基底上淀积成膜；以时间为监控参数使得各个膜层厚度误差之间互不相关；对于多种膜系及膜料的适应程度不及蒸发技术；上述问题都是磁控溅射的局限性。但是，磁控溅射在光学薄膜领域中的应用将日益广泛，可能会成为一种趋势。 磁控溅射在光学多层介质膜的工业化生产中的发展空间巨大，设备和靶材料的成本将随着应用的广泛而得以降低。在一定范围内，蒸发镀膜将会逐步为磁控溅射镀膜所替代。 近年来，磁控溅射技术的应用日趋广泛，在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加，相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展。 研究内容： 1）设备
5、的引进调试及工艺参数优化 2）产品的调研及开发应用 3）靶材的选择及利用率的提高。 二、真空紫外薄膜目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜力，可提升其的专业水平，并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划 真空紫外(VUV)是一种波长范围为100~200nm的不可见光线,由于真空紫外光波长短、热效应不强等独特特性,而广泛应 用于工业(半导体芯片生产、在塑料上雕刻图形)、医学(片上生物工厂的制造)装置、天文、侦破等领
6、域。特别是随着高密度信息存储、大规模集成电路以及惯性约束核聚变等近代科学技术的发展,人们对存储密度、仪器集成度的要求越来越高,紫外波段高功率激光系统的发展愈来愈受到重视。而紫外薄膜正是支持紫外光路系统的重要元件,它们的光学性能影响制约着整个系统的效率。紫外薄膜还应用于各种准分子激光及Nd:YAG激光的3倍频(355nm)，4倍频激光(266nm)等领域,它的激光损伤阈值是关键。近年来,100~200nm激光在许多以未来为导向的领域内迅速发展,尤其是同步辐射在世界领域所取得的突破性进展,大大促进和带动了真空紫外波段薄膜材料的研究。德国夫琅和费研究所和意大利的
7、M.Trovò等合作对VUV膜进行了系列研究,得出了很多有意义的成果。 对于真空紫外薄膜,全面考虑其光学性质、机械性能及化学稳定性,比较适用的材料并不多,主要包括金属材料和介质材料,金属材料中最有潜力的是铝,介质材料主要包括氧化物材料和氟化物材料。对于特定的真空紫外材料来说,其性质往往随不同沉积设备和不同操作方法而各异。目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜力，可提升其的专业水平，并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划
8、 金属铝膜因在80~120nm范围都具有较高的反射率而得到大量研
