分析技术在中的应用材料分析

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1、为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划...分析技术在...中的应用,材料分析　　材料分析技术在集成电路制程中的应用谢咏芬、何快容　　11-1简介　　在现今的微电子材料研究中，各式各样的分析仪器通常被用来协助技术开发(TechnologyDevelopement)、制程监控(ProcessMonitoring)、故障分析(FailureAnalysis)、和进行产品功能异常侦错(ProductsDebug)等研究(请见图11-1-1)；本章将简要叙述各种分析仪器的工作原理、分辨率、和侦测极限，并以典型的实例来说明

2、这些分析技术在半导体组件制造中的应用。　　图11-1-1目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜力，可提升其的专业水平，并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划　　有关微电子材料的分析技术可以概分为结构分析(物性)与成份分析(化性)两大类，常见的仪器计有光学显微镜(OpticalMicroscope,OM)，扫描式电子显微镜(ScanningElectronMicroscope,SEM)，X光能谱分析仪(X-raySpectrometry)，穿透式电子显

3、微镜(TransmissionElectronMicroscope,TEM)，聚焦式离子束显微镜(FocusedIonbeam,FIB)，X光绕射分析仪(X-rayDiffractometer,XRD)，扫描式欧杰电子显微镜(ScanningAugerMicroscope,SAM)，二次离子质谱仪(SecondaryionMassSpectrometry,SIMS)，展阻量测分析仪(SpreadingResistanceProfiling,SRP)，拉塞福背向散射质谱仪(RutherfordBackscatteringSpectrometry,RBS)，和全反射式X-光萤光分析仪(To

4、talReflectionX-rayFluorescence,TXRF)等十几种之多，请见图11-1-2。目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜力，可提升其的专业水平，并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划　　目前在IC工业中，无论是生产线或一般的分析实验室中，几乎随处可见到光学显微镜，然而对各类的IC组件结构观察或日常的制程监控，最普遍的分析工具仍是扫描式电子显微镜；近几年来，由于组件尺寸微小化(DeviceMiniaturization)的趋势已

5、步入深次微米(DeepSub-Micron)的世代，许多材料微细结构的观察都需要高分辨率(Resolution)的影像品质，穿透式电子显微镜的重要度自然日益提高；但是在进行组件故障或制程异常分析时，往往需要定点观察或切割局部横截面结构，以便确认异常发生的时机或探讨故障的真因，因此聚焦式离子束显微镜(Focused(转载于:写论文网:...分析技术在...中的应用,材料分析)IonBeam,FIB)应运而生，这项分析技术近五年来蓬勃发展，提供了定点切割技术(PrecisionalCutting)、自动导航定位系统(AutoNavigationSystem)、和立即蒸镀和蚀刻(In-Sit

6、uDepositionandEtching)等功能，大大的满足了各类定点观察的需求，同时也带来了其它像线路修补(CircuitRepair)、布局验证(LayoutVerification)等多样化的功能，使得各类分析的进行减少了试片制备的困扰，同时对定点分析的能力可提升到um以下的水准。　　图11-1-2　　在成份分析方面，附加在扫描式电子显微镜上的X光能谱分析仪，当然是最简便的化学元素分析仪器，其使用率一直也是所有元素分析仪器当中最高的；然而因为有限的侦测浓度和可侦测的元素范围，对微量的成份或表面污染，需借重二次离子质谱仪或全反射式X光萤光分析仪，而对纵深方向(DepthProfi

7、ling)的元素分布，则需利用拉塞福背向散射质谱仪、扫描式欧杰电子显微镜或二次离子质谱仪才能完成；此外，若是要对结晶材料(CrystallineMaterials)的晶体结构或原子排列方向作深入的分析，则可以利用X光绕射分析仪或穿透式电子显微镜的电子绕射图样(ElectronDiffractionPattern)作进一步的研究。　　对于各种分析仪器的基本原理，简要来说，一般显微镜的系统，多是利用光学镜片或电磁场来偏折或聚焦带能量的粒子束，借着粒