[工作计划]photoshop平面设计比赛说明终

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1、-5-第四届全国ITAT教育工程就业技能大赛比赛说明（比赛科目：Photoshop平面设计）一，软件要求与硬件要求l软件要求PhotoshopCS2中文版l硬件要求1)硬件配置：¨处理器：Intel®Pentium®IV或更高版本处理器。¨RAM：512MB内存。¨硬盘：750M磁盘空间（仅限于安装）。¨视频：1024x768VGA，真彩色，需要支持Windows的显示适配器。¨定点设备：鼠标、数字化仪等输入设备。2)运行环境：Windows2000SP4、WindowsXPSP1、WindowsXPSP2、MacOSX1

2、0.2.8或更高版本的操作系统。二，题型、题量、考试方式和时间l预赛题1)题型为选择题。2)题量是80道，其中单选60道，每道题一分；多选题20道，每道题两分，合计100分。3)考试方式采用网络在线考试。4)考试时间为100分钟。l复赛题1)题型为主观操作题。2)题量为两道操作题+附加题。试卷满分为150分，其中附加题为50分。3)考试方式：上机考试4)考试时间为3小时。-5-l决赛题1)题型为复杂或者创造性比较高的操作题。2)题量为两道操作题，其中一道考察综合运用软件功能、解决复杂问题的能力，另一道考察创造性发挥能力。试

3、卷满分为120分。3)考试方式：上机考试4)考试时间为5个小时。一，比赛大纲l基本要求1．具有计算机的基础知识。2．了解Photoshop图像处理软件的特色，熟悉软件功能并能进行熟练操作。3．对构图、色彩、版式等平面设计常识具有一定的了解。4．能够应用提供的原稿进行创造性的图像设计与制作。l预赛部分预赛主要考察参赛者对Photoshop软件基础知识的全面了解程度以及对工具、功能、基本技法的熟练程度。具体内容如下：（一）Photoshop图像处理基础知识1）位图与矢量图2）分辨率（主要以图像分辨率为主）3）图像色彩模式及特点

4、（位图模式，灰度模式，RGB模式，CMYK模式，索引色模式，双色调模式等）（二）Photoshop选区的制作与编辑1）制作选区的多种方法（规则选取工具与不规则选取工具）2）选区的编辑操作（包括选区的加减、选区的修改操作、选区的存储与载入等）（三）图像的修复与修饰1)-5-工具箱中的图像修复工具（包括图章工具、修复画笔工具、修补工具、橡皮工具等的实际用法）2)图像修饰工具的使用（包括锐化工具、模糊工具、涂抹工具、减淡工具、加深工具、海绵工具等的实际用法）（四）矢量图形的绘制与编辑1)路径的建立与编辑（包括路径面板的使用以及路

5、径与选区间的转换等）2)矢量绘图工具组3)文字的输入与编辑（文字输入工具，字符和段落面板，变形文字）（五）图像的绘制与编辑1）画笔控制面板2）渐变工具及渐变编辑器的使用3）图像变换与扭曲（包括缩放、旋转、斜切、扭曲、透视、变形、翻转等功能）（六）图层应用1)图层属性（图层面板中的参数设置，图层混合模式的应用）2)特殊的图层应用（以图层样式、图层蒙版、调整图层三种特殊图层应用为主）（七）通道与蒙版1)通道的概念与分类（包括复合通道、颜色通道、专色通道、Alpha通道、单色通道等）2)通道面板3)快速蒙版工具的使用（八）图像明

6、暗阶调与颜色的调整1)明暗阶调的调整（常用的图像明暗阶调的调整命令：色阶，曲线，亮度/对比度）2)图像色彩的调整（常用的图像校色功能：色相/饱和度，色彩平衡，替换颜色，可选颜色，渐变映射，反相，阈值，色调分离等）（九）滤镜特效1)滤镜命令的使用常识-5-2)变形性滤镜，艺术效果滤镜，校正性滤镜，图像纹理化滤镜的使用及效果l复赛部分复赛主要考察考生对Photoshop软件的实际操作能力，尤其是对软件功能的综合运用能力。因此，除要求考生能够熟练使用预赛所考察的功能外还应掌握下列内容：（一）多幅图像的拼贴与融合1)复杂图像的退底

7、操作2)多幅图像的拷贝、拼贴与变形的处理3)图像间的淡入淡出4)图层特技的综合使用（例如图层透明度、混合模式、图层样式、调整图层等的综合运用）（二）矢量图形的制作1）能够灵活运用钢笔工具制作复杂路径2）熟悉路径的存储、路径与选区的转换以及形状的自由修改等3)能够结合矢量绘图工具绘制各种几何图形（三）图像颜色特效的处理1)熟悉位图、灰度图、双色调图等颜色模式的特殊效果2）能自由调节图像的整体与局部色彩3）能实现黑白图上色和局部着色（四）图案的自定义与巧妙运用1）自定义图案单元2）图案填充形成特殊底纹效果（五）文字特效1）文字

8、的栅格化2）利用图层样式制作各种艺术字效（例如浮雕字、发光字等）-5-l决赛部分决赛考试时间比较长，而题目数量并不多，考生可有充裕的时间进行思考与实验，评分主要取决于考生的创造性发挥与具体完成的图像效果。　　决赛中将给考生提供一定数量的普通图像素材，通过设计命题的要求进行图像的艺术加工和再创造，一方面考