矩形平面移动溅射靶的设计毕业论

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1、矩形平面移动溅射靶的设计毕业设计（论文）任务书（201届）设计（论文）题目矩形平面移动溅射靶的设计学院名称机械与汽车工程学院专业（班级）机械设班姓名（学号）指导教师系（教研室）负责人23/23矩形平面移动溅射靶的设计目录矩形平面移动溅射靶的设计3摘要3ABSTRACT41绪论51.1真空镀膜的意义51.2真空镀膜技术在国内外的发展状况51.3阴极靶的重要性61.4课题的研究背景71.5设计要解决的问题72设计方案的确定72.1真空镀膜中阴极靶的种类72.1.1矩形平面磁控溅射靶82.1.2同轴圆柱形磁控溅射镀膜82.1.3圆形平

2、面磁控溅射靶92.2初步的几种设计思路102.2.1方案一：圆形旋转靶102.2.2方案二：矩形移动靶102.3最后方案的确定113阴极靶的结构设计和尺寸计算113.1靶的结构113.2靶的尺寸计算133.3磁场强度的选择143.4磁场均匀性143.5矩形平面靶磁场计算153.6传动装置的设计153.7真空室选泵的计算163.7.1粗算主泵抽速163.7.2流导计算163.7.3精算主泵抽速173.7.4前级泵的计算173.7.5抽气时间的计算183.7.6计算分子泵的抽气时间18结论2023/23矩形平面移动溅射靶的设计致谢2

3、1[参考文献]2223/23矩形平面移动溅射靶的设计矩形平面移动溅射靶的设计摘要：本文介绍了一种真空磁控镀膜系统的移动阴极靶。磁控溅射镀膜现在已经成为工业镀膜生产中最主要的技术之一，它能有效降低靶室的工作压强和靶的工作电压，提高溅射速率和沉积速率，降低基片温度，减小等离子体对膜层的破坏，特别适合于大面积镀膜生产。但靶面的非均匀剥蚀会降低靶材的利用率，造成溅射过程中参数的变化，严重影响溅射过程的稳定性。磁控溅射镀膜中靶的特性直接与溅射稳定性和膜层特性相关，因此如何优化设计靶，增加靶材利用率成为工业镀膜生产中迫切需要解决的问题。在这

4、次设计中，我运用一个双向电机带动阴极靶往复移动，带动磁场的往复运动，增大水平磁场与靶材的接触面积，减缓靶材的纵向刻蚀速率，从而使靶材表面刻蚀区更为平缓。关键词：阴极靶，真空环境，靶材利用率，移动23/23矩形平面移动溅射靶的设计Abstract:Thispaperdescribesavacuumcoatingsystemsampletransferrack,itrangedbetweenindustrialmasstransportmechanismusedinthesampleandintheteachinglaborator

5、yequipmentusedinthesamplingmethod.Inthecoatingprocess,thequalityofthevacuumcoatingsystemhasgreatinfluenceonthemembrane.However,agoodcoatingmachine,itisimportanttosampletransportofthesampleracktransportincludessamplefixedonasampleholder,transportedtothevacuumchamber,i

6、ntothevacuumchambersothesamplestage.Vacuumcoatingchamberisarelativelyhighdemand,morestringentenvironmentalrequirementsofspace.Therefore,duringthetransmissionofthesample,toensurethatthecoatingchambervacuumenvironmentisnottoomuchinfluenceinthetransferprocessbutalsoensu

7、rethatthesampleisfixedandisnotdeformed.Inthetransmissionprocessisbestnottoimpuritiesorothergasesintheairpollutionparticlesintothecoatingchamber.Inthisdesign,theconsiderationoftheaboveconditionsandthesampleintoandoutoftheautomation,Iusedanadditionalsampleboxes,placedi

8、nsideacleancleanedsubstrate,thecoatingofthissampleboxbeforeevacuating,theentirecoatingprocessplayedaroleinthetransition.Thisdesignc