真空室真空度保持稳定的控制系统设计论

真空室真空度保持稳定的控制系统设计论

ID:29958988

大小:1.43 MB

页数:44页

时间:2018-12-25

真空室真空度保持稳定的控制系统设计论_第1页
真空室真空度保持稳定的控制系统设计论_第2页
真空室真空度保持稳定的控制系统设计论_第3页
真空室真空度保持稳定的控制系统设计论_第4页
真空室真空度保持稳定的控制系统设计论_第5页
资源描述:

《真空室真空度保持稳定的控制系统设计论》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在教育资源-天天文库

1、目录中文摘要1英文摘要.21绪论31.1课题研究的目的和意义31.2国内外研究概况31.3论文的主要研究内容42系统设计方案42.1系统设计原理框图42.2单片机原理52.2.1单片机原理概述52.2.3AT89C51简介63系统硬件设计83.1系统整图83.2电离真空计93.2.1电离真空计概述93.2.2热阴极电离真空计的工作原理93.3电离规信号采集放大电路113.4A/D转换133.4.1ADC0809内部逻辑结构133.4.2ADC0809外部引脚143.4.3ADC0809转换原理163.4.4A/D转换电路设计163.5单片机最小系

2、统173.5.1时钟电路183.5.2复位电路193.5.3状态指示电路193.6驱动电路203.6.1步进电机介绍203.6.2步进电机驱动系统简介213.6.3步进电机功率驱动电路224系统软件设计244.1系统开发软硬件环境244.2Keil软件介绍244.3程序设计254.3.1主程序框图254.3.2子程序框图274.4程序代码285仿真与调试285.1Proteus软件介绍285.2Proteus和Keil调试仿真29结论33谢辞33参考文献34附录1系统电路图35附录2程序代码37真空室真空度保持稳定的控制系统设计摘要:真空镀膜技术

3、是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜,达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。但是真空镀膜的时间一般都很长,有的长达几十个小时,真空室真空度的稳定性对膜的生长,成膜质量的好坏有很大的影响。因此,如何保持真空度的稳定,也成为了一个关键性的技术问题。本文简要的介绍了利用单片机实现真空度稳定控制的工作原理,阐述了软、硬件的具体实现方法。该设计主要通过真空计信号采集放大电路,获得与真空室内真空度相对应的模拟电压值,并经过A/D转换器转换为数字量送入单片机,单片机处理后给出相应步进电机正反转信号,带动调节阀转动

4、,改变真空泵抽气量的大小,从而达到稳定真空度的目的。关键词:真空镀膜技术;真空度稳定;单片机;A/D转换器;步进电机第41页Abstract:Physicalandchemicalmethodsareappliedinvacuumcoatingtechnologycoatingsolidsurfacewithalayerofspecialpropertiesofthecoatingtoimproveproductquality,extendproductlife,saveenergyandachievesignificanttechnicalan

5、deconomicbenefits.However,thetimeofvacuumcoatingisgenerallyverylongandsomeuptotensofhours.Thestabilityofvacuumofthevacuumchamberhasagreateffectonfilmgrowthandfilmquality.Therefore,howtomaintainthestabilityofvacuumhasalsobecomeakeytechnicalproblem.Thispaperbrieflyintroducesthe

6、operationprincipletocontrolvacuumstabilitywiththesinglechipmicrocomputerandthedetailmethodofthehardwareandsoftware.Thisdesignisprimarilytoobtaintheanalogvoltagevaluecorrespondingtothevacuuminvacuumchamberthroughsignalamplificationcircuit,andtransmitdigitalquantity,whichisconc

7、ertedbyA/Dconverter,intothesinglechipmicrocomputer.Thecorrespondingreversingsignalofsteppermotorgivenaftertheprocessingofthesinglechipmicrocomputerdrivesthevalvetotwirl,changesthesizeofthegasoutputandachievesthegoalofremainingstablevacuum.Keywords:vacuumcoatingtechnology;vacu

8、umstability;singlechipmicrocomputer;A/Dconverter;steppermotor第41页1绪论

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。