光子晶体,自备材料

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1、为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划光子晶体,自备材料　　光子晶体工艺流程　　一、主体说明　　本次研究的主要任务是利用硅片制作出多孔硅光子晶体，研究主要内容是多孔硅的特点和制备方法，实验装置主要采用双槽电化学腐蚀法制备多孔硅。本次光子晶体的主体制备方案是先用低压化学气相淀积工艺在Si衬底上生成一层Si3N4薄膜，通过光刻工艺将六边形格子复印到Si3N4层上，然后以Si3N4薄膜作掩蔽层，用25%的TMAOH溶液腐蚀出促进电化学反

2、应的起始核，最后在5%HF和酒精混合溶液中腐蚀正方形排列的Si孔。研究表明，这种Si基光子晶体的方向禁带的中心位置在1250cm-1,带宽为300cm-1。　　二、流程图及流程描述　　、主工艺流程　　在本次设计中，光子晶体的整体工艺流程图如图1所示：　　图1光子晶体工艺主流程图　　、工艺中衍生的子流程　　、硅片清洗流程图　　图2硅片标准清洗流程图目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜力，可提升其的专业水平，并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展，保障停车

3、场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划　　在光子晶体的制备过程中，根据材料的性能要求以及成本的考虑，我们选择硅片作为工艺的原材料，这主要是因为大孔硅是制备二维光子晶体的一种理想材料，这种成熟的Si工艺可以保证得到准确的结构形状和非常大的纵横比。为了光子晶体制备过程的顺利进行，对硅片的清洗是本工艺的重中之重，其标准清洗流程图如图2所示：　　在工艺生产中，如果衬底被污染，将会影响生长薄膜的质量和性能，所以在制备前必须用硫酸、丙酮、甲醇、过氧化氢及氢氟酸等化学试剂，按照

4、一定比例配合成的溶液来清洗掉衬底上的微尘颗粒、有机残余物和无机残余物等杂质，以确保衬底的洁净度。　　、生成氮化硅薄膜工艺流程　　在光子晶体的工艺流程中，利用LPCVD技术在硅表面生产氮化硅薄膜也是必不可少的一步，其工艺流程如图3所示：　　图3LPCVD制备氮化硅薄膜　　、工艺中的输入与输出目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜力，可提升其的专业水平，并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能

5、及个人素质的培训计划　　本次研究的主要目的是利用单晶硅片制备出光子晶体，而在一定的阳极氧化条件下，硅表面会发生不均匀的腐蚀，可以形成试验需要的多孔硅。多孔硅按孔径尺寸可分为大孔硅、介孔硅(mesopores)和纳米孔硅(micropores)。大孔硅孔径为微米级，多呈孔状和柱状结构，可由低掺杂的N型Si获得；介孔硅孔径为á10～500nm，可由重掺杂N型或P型Si得到；纳米孔硅孔径特征尺寸为几纳米，由随机分布的纳米尺度的Si晶粒组成，呈海绵状结构，这种多孔硅可由低掺杂的N型或P型硅在一定光照条件下获得。

6、　　三、工艺材料介绍　　、试验设备材料　　硅片、铂铑、铜片、无机玻璃、钠灯、聚四氟乙烯　　、清洗溶液　　浓硫酸、去离子水、70%的丙酮、30%的乙醇、甲醇、过氧化氢及氢氟酸等　　、化学腐蚀药剂　　40%的氢氟酸﹑99.7%无水乙醇(乙醇的存在可减小表面张力,加快氢气的释放)，TMAOH　　四、工艺流程分析　　、Pro/ENGINEER设计试验模型　　Pro/E是软件包，可输出三维和二维图形给予其他应用软件，通过标准数据交换格式来实现这些功能。Pro/E还提供了一个很宽的生成工程图的能力，包括：自动尺寸标

7、注、参数特征生成，全尺寸修饰，自动生成投影面，辅助面，截面和局部视图等。Pro/E是一套由设计至生产的机械自动化软件，是新一代的产品造型系统，是一个参数化、基于特征的实体造型系统，并且具有单一数据库功能。　　图4试验装置图5试验装置　　光子晶体的特点、制备与应用目的-通过该培训员工可对保安行业有初步了解，并感受到安保行业的发展的巨大潜力，可提升其的专业水平，并确保其在这个行业的安全感。为了适应公司新战略的发展，保障停车场安保新项目的正常、顺利开展，特制定安保从业人员的业务技能及个人素质的培训计划　　摘要

8、：光子晶体是20世纪80年代末提出的具有光子能带及能隙的新概念和新材料,由于光子晶体具有光子带隙、光子局域和控制光子态密度等特性,所以它具有广阔的应用前景。本文简述了光子晶体的主要特征,重点介绍了其制备方法、进展以及现有应用和发展前景。关键词：光子晶体；光子晶体的制备；光子晶体的应用；　　Characteristics,preparationandapplicationofthe　　photoniccrystal　　Abstract:Pho