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1、11PHOTOEQ新進同仁教育訓練教材課程名稱:TrackConfiguration及功能簡介欲達之目標:期使新進同仁熟悉了解TrackConfiguration及功能撰寫者:白昆明最後修訂者:版本:1.0編號:T-1內容：TRACK機台在黃光區最主要功能是將WAFER(晶片)作光阻覆蓋,以備STEPPER(對準機)曝光.接著將已曝光後之WAFER予以DEVELOPER顯影,使圖型能完全定義出.TELMARK7,MARK8:TEL之TRACK機台在黃光區可分為兩種型式,MK-8,MK-7兩種,主要差異在MK-8上層有加裝FIL
2、TER(過濾器),所以各個CONTROLLER(控制器)可放在機台上方,以節省空間.至於MK-7機台上方為開放式空間,所以各個CONTROLLER(控制器)需放在機台下方.INLINE與OFFLINE:黃光TRACK機台又依是否和STEPPER連線,可分IN-LINE及OFF-LINE兩種.OFF-LINE又可再分COATER(光阻覆蓋機),DEVELOPER(顯影機),ADIREWORKSCRUBBER(工程用刷洗機),及POLYIMIDE(聚乙醯韽).IN-LINE基本上可看成COATER與DEVELOPER合併.主機依功
3、能區分:IN-LINETRACK可分CARRIERSTATION,PROCESSSTATION,INTERFACESTATION三部份.OFFLINETRACK可分CARRIERSTATION,PROCESSSTATION兩部份.CARRIERSTATION:收放WAFER用.計有四個STAGE可下材料,及一組CARRIERSTATIONARM用以傳送晶片.PROCESSSTATION:1.INLINE可分COATERUNIT(冷熱板,HMDS,COATER陷阱槽,MAINARM).DEVELOPERUNIT(冷熱板,DEVE
4、LOPER陷阱槽,WEE週邊曝光,MAINRMM).2.OFFLINECOATER只有冷熱板,HMDS,COATER陷阱槽,MAINARM.OFFLINEDEVELOPER只有冷熱板,DEVELOPER陷阱槽,MAINARM.POLYIMIDE有冷熱板,PICOATER,PIDEVELOPER,MAINARM.SCRUBBER有冷熱板,反轉機構,晶背刷洗(噴洗),正面刷洗(超音波震盪),MAINARM.INTERFACESTATION:為TRACK與STEPPER之介面,可分:冷板,BUFFERSTAGE(暫存區),INTER
5、FACEARM.RAP附屬設施:INLINE:CHEMICALBOX(EBR及DEVELOPER自動供應系統),TEMPERATURE/HUMIDITYCONTROLLER(溫濕度控制器),MULTICONTROLLER(冷板,CIRCULATOR控溫)TRANSFORMER(變壓器).OFFLINECOATER:CHEMICALBOX(EBR自動供應系統),TEMPERATURE/HUMIDITYCONTROLLER(溫濕度控制器),MULTICONTROLLER(冷板,CIRCULATOR控溫),TRANSFORMER(變
6、壓器).1111PHOTOEQ新進同仁教育訓練教材OFFLINEDEVELOPER:HEMICALBOX(DEVELOPER自動供應系統),MULTICONTROLLER(冷板,CIRCULATOR控溫),TRANSFORMER(變壓器).ADIREWORKSCRUBBER:MULTICONTROLLER,(冷板,CIRCULATOR控溫),TRANSFORMER(變壓器).至於CHEMICALBOX則併在機台尾.POLYIMIDE:只有TRANSFORMER(變壓器).至於CHEMICALBOX則併在機台尾)各UNIT之細部
7、區分:CARRIERSTATION(簡稱C/S):1.過濾器:過濾PARTICLE.2.POWERSWITCH,WEESWITCH:機台電源開關,週邊曝光電源開關.3.RESISTAIRVENTOPERATIONPANEL(光阻排氣泡操作面板):MODE:可選OFF,MANUAL,AUTO.A.在OFFMODE時可依選定管路設定排氣泡時間.由UPDOWN設定.一般設10秒.B.在MANUALMODE時,可依選定管路直接壓START鍵作排氣泡,不受設定排氣泡時間影響,若手不一直壓START鍵則結束排氣泡動作.C.在AUTOMOD
8、E時,按一次START鍵時,可依選定管路依設定時間排氣泡.按STOP鍵可立即停指排氣泡.NOZZLESEL:可選定要排氣泡之管路.可依COATER2-1或COATER2-2選擇RESIST1-1(光阻第一管第一瓶),RESIST2-1(光阻第二管第一瓶),RESIST3.(第
