pvd实用实用工艺

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1、实用标准文案PVD工艺 真空镀膜是在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术，在基材上形成薄膜的一种表面处理过程。与传统化学镀膜方法相比，真空镀膜有很多优点：如对环境无污染，是绿色环保工艺；对操作者无伤害；膜层牢固、致密性好、抗腐蚀性强，膜厚均匀。   真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜（包括电弧蒸发、电子枪蒸发、电阻丝蒸发等技术）、溅射镀膜（包括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术），这些方法统称物理气相沉积（PhysicalVaporDeposition），简称为PVD。与之对应的化学气相沉积（C

2、hemicalVaporDeposition）简称为CVD技术。行业内通常所说的“IP”（ionplating）离子镀膜，是因为在PVD技术中各种气体离子和金属离子参与成膜过程并起到重要作用，为了强调离子的作用，而统称为离子镀膜。在真空离子镀膜加工行业中，森科位居前列。 Vacuumplatingisasurfacetreatmentprocesswhereacoatingisformedonametalsubstrate.Coatingcanbemetal(suchastitaniumorgold)ornon-metallicmaterial(graph

3、iteorcrystal)andisappliedbysputtering,evaporationorion-platinginavacuum.Vacuumplatingoffersmanyadvantagescomparedwithtraditionalchemicalplating.Itisenvironmentallyfriendly,nonpolluting,andnothazardoustooperators.Vacuumplatedfilmsarestable,dense,uniform,andcorrosionresistant.  Ther

4、earetwovacuumplatingmethods.OneisCVD(ChemicalVaporDeposition).TheotherisPVD(PhysicalVaporDeposition).PVDincludesevaporationplating(arc,electronicgunandresistancewire)andsputteringplating(DCmagnetronMid-frequencyandRF).Gasionsandmetalionsplayanimportantroleincoatingformation.Inorde

5、rtoemphasizetheionfunction,PVDisgenerallyreferredtoasIP(IonPlating).TritreeisoneoftheleadersintheIPindustryPVD加工工艺流程一、前处理工艺:1.来料抽检2.电镀件过碱去油,清水清洗.4.过酸表面洁化,清水清洗5.丙酮+滑石粉清洗6.擦洗二、上挂三、PVD处理工艺:1.烘烤:80摄食度2.镀膜:真空抽到4.5-2帕保持真空度2.8-1帕成膜四、出炉五、下挂六、全检精彩文档实用标准文案PVD简介1.PVD的含义—PVD是英文PhysicalVaporDe

6、position的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。2.PVD镀膜和PVD镀膜机—PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀和真空离子镀膜。对应于PVD技术的三个分类，相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种。近十多年来，真空离子镀膜技术的发展是最快的，它已经成为当今最先进的表面处理方式之一。我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。3.PVD镀膜技术的原理—PVD镀膜（离

7、子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。4.PVD镀膜膜层的特点—采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。5.PVD镀膜能够镀出的膜层种类—PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、Ti

8、AlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)