浅析plc在大坝进水塔渗漏排水系统设计中应用--plc专家

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时间:2018-12-10

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1、-浅析PLC在大坝进水塔渗漏排水系统中的应用--PLC专家引言  河南省某大坝进水塔的两个渗漏集水池位于大坝的底部,潜水泵、离心泵等排水设备和原来的电气控制柜则位于集水池上方的渗漏排水泵房内。工作人员只能根据巡查情况,就地手动控制进行排水,由于进水塔渗漏水在水量和时间上有很大的随机性和不确定性(会依据天气和季节变化的不同而不同),这就给操作人员和大坝的管理带来了很大的困难,曾经就出现过由于短时间内积水过多,大坝底部廊道内的部分检测设备被淹(包括渗漏排水设备本身)的情况,造成了很大的经济损失;且由于电气控制柜位于大坝底部

2、,环境潮湿,渗漏水滴经常落到控制柜上,造成控制柜电气元件受潮,出现短路或拒动,给渗漏排水系统的控制带来了很大的麻烦。因此有必要将电气控制柜上移至进水塔塔面,改善运行环境,并将两个集水池的排水设备用一套控制设备来进行集中监控。控制系统主要采用自动控制方式,根据渗漏水量的大小及时启动排水量较小的潜水泵和排水量较大的离心泵进行排水,以保证泵房的安全稳定运行。  1工艺流程与监控要求  1.1工艺流程  进水塔渗漏水量较小时,经过一定时间的积累,达到主用潜水泵启动水位2.40m,用主用潜水泵D3进行排水;当水量增大时,达到备用

3、潜水泵启动水位2.60m,增加备用潜水泵D4进行排水;在此过程中,若水位回落到停泵水位1.5m时,则停止潜水泵;若水量进一步增大,以致达到主用离心泵启动水位2.80m和备用离心泵启动水位3.00m时,则分别启动主用离心泵D1和备用离心泵D2进行排水。此时潜水泵作为离心泵的充水泵,同时启动潜水泵D3、D4,打开充水电磁阀Z1(或Z2),延时3分钟左右并且达到一定压力要求后启动离心泵并打开排水电动阀门F1(或F2)进行排水,然后关闭潜水泵D3、D4和电磁阀Z1(或Z2)。在排水过程中,若水位回落到停泵水位1.50m,则关闭

4、离心泵。在关闭离心泵时,要先关闭相应的电动阀F1或F2,然后再关闭离心泵。其渗漏排水设备布置如图1所示。.--- 1.2系统要求  整个系统由两个电力中心进行供电,控制设备对供电进行选择,以确保系统在任何一个电力中心电源正常的情况下都能够正常工作。  在控制柜的控制面板上安装有自动/手动/触摸屏手动三位切换旋钮,以及各个设备的手动控制旋钮,通过控制面板和触摸屏可以对各个设备进行手动控制。  在集水池中安装两套水位计,以确保在任何一套水位计正常的情况下,渗漏排水系统都能够正常工作。一套水位计采用节点式的,检测四个启泵水位

5、和一个停泵水位;另一套采用模拟式的,不但可以在触摸屏上显示集水池的实时水位,而且还可以通过PLC内部的算法模拟出与节点式的水位计等同的水位信号,然后与节点式水位计的信号进行并联,以确保整个控制系统控制信息的可靠性。  当水位达到备用离心泵启动水位(即警戒水位)时,报警电铃自动鸣响,报警指示灯闪烁,工作人员发现警戒情况后,可以按下相应按钮,关闭电铃;但报警指示灯仍闪烁报警,直至水位回落到警戒水位以下。  本系统的监控部分包括:两路电源的供电情况;2#明流塔和3#发电塔的水位高程及集水井水位信息;所有电气设备原件如两塔潜水

6、泵、离心泵、电动阀、电磁阀等动作情况;正常时水流量及启泵后排水量的监控等。  2系统硬件构成  本系统上位机采用Nematron公司的PV6100i系列触摸屏,下位机采用GE公司PLC。触摸屏可读取PLC中所有的输入、输出寄存器,内部寄存器等的值,动态显示水位高低,设备运行情况等,并能采集、显示水位信息和历史动作,方便工作人员的监控。PLC.---控制输入、输出信号的逻辑关系,控制接触器驱动现场的阀门、水泵等执行机构。二者通讯时PLC出口为RS-485,触摸屏入口为RS-232。  2.1上位机硬件  PV6100i系

7、列触摸屏拥有良好的人机界面,能在最大程度上提高一般控制系统或PLC工作站应用的综合能力。开发环境简单,可以与主流PLC进行无缝连接;支持多种USB设备。  该系统采用的触摸屏特征参数为:4线纯电阻式触摸屏;宽屏幕800×480;TFT液晶人机界面;24V直流供电;128MB闪存;68MBDDR2随机存储器;自带32位的RISC400MHz处理器;支持多种接口:1个串口COM1(RS-232/RS-4852W/4W),串口COM2(RS-232),串口COM3(RS-232/RS-4852W);1个USB主从机接口;支持

8、SD卡等。 2.2下位机硬件  本控制系统主要有一个PLC控制柜和一个动力柜组成。新控制系统把两个泵房中的电动阀、电磁阀、潜水泵、离心泵等用信号电缆和动力电缆分别接入PLC柜和动力柜内.  系统PLC采用GEFanuc公司生产的系列90-30PLC。该系列PLC具有强大的功能,能满足各种工业解决方案的要求,已有的记录表明它在200

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