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1、1.X射线衍射XRD(X-RayDiffraction)2.X射线能谱仪EDS3.X射线波谱仪WDS4.X射线光电子能谱XPS5.俄歇电子能谱AES6.扫描电子显微镜SEM7.扫描Auger显微探针SAM8.扫描探针显微镜SPM9.透射电子显微镜TEM(TransmissionElectronMicroscopy)10.高分辨透射电镜HRTEM11.场离子显微镜FIM12.扫描隧道S微镜STM(ScanningTunnelingMicroscopy)13.扫描近场光学显微境SNOM14.弹道电子发射显微镜BEEM15.原子力显微镜AFM16.扫描力显微镜SFM1
2、7.电子衍射ED18.中子衍射ND19.X射线荧光光谱XFS20.电子探针显微分析EPMA21.电子能量损失谱EELS22.核磁共振波谱法NMR23.红外光谱IR24.荧光光谱PL25.原子光谱AtomSpectroscopy26.原子发射光谱AES27.场发射电子枪FEG28.红外光谱仪FT-IR29.拉曼光谱RamanSpectroscopy30.热分析技术thermalanalysis31.差示扫描量热法DSC32.差热分析DTA33.热重法TG34.微商热重法DTG35.热机械分析TMA36.动态热机械分析DMA37.静态热机械分析TMA38.选区电子衍
3、射SAED39.电子通道花样ECP40.场发射电子品微镜FESEM(FieldEmissionScanningElectronMicroscopy)1.1、布拉格方程:它是X射线衍射方向的方程,2dsinG=nA.d为晶面间距,G为入射光束与反射面的夹角,A为x射线的波长,n是衍射级数,其含义是:只有照射到相邻的镜面的光程差是X射线波长的n倍时才产生衍射。1.选区电子衍射SAED:巾选区形貌观察与电子衍射结构分析的微区对应性,实现晶体样品的形貌特征与晶体学性质的原位分析。2.电子通道花样(electronchannellingpattern):对单晶体,当入射电
4、子束与晶曲爽角小于布拉格角时,背散射电子数量较多,其像形成的亮带。3.X射线小角散射法SAXS:如果试样具有不同电子密度的非周期性结构(晶区和非晶区),则X射线不被相干散射,有波长的改变,这种过程称为漫射X射线衍射效应(简称散射),在小角度上测定,所以又称为小角X射线散射。4.蓝移:由于分子结构的变化或溶剂等因素的影响,使吸收带向短波方向移动的现象。5.红移:由于分子结构的变化或溶剂等因素的影响,使吸收带向长波方向移动的现象。6.像衬度:电子像的明暗程度取决于电子束的强弱,当两个区域中的电子强度不同时将出现图像的明暗差异,这种差异就是衬度。7.质量衬度:由于样品
5、不同微区间存在的原子序数或厚度的差异而形成的透射电子显微图像衬度,即质量厚度衬度。也叫做质量衬度。8.质量一厚度衬度(Mass-thicknesscontrast):是由于材料的质量M度差异造成的透射朿强度的差异而产生的衬度(主要用于非晶材料)。9.衍射衬度(Diffractioncontrast):由于试样各部分满足布拉格条件的程度不同以及结构振幅不同而产生的(主要用于晶体材料)。10.相位衬度(Phasecontrast):试样内部各点对入射屯子作用不同,导致它们在试样出口表面上相位不一,经放大让它们重新组合,使相位差转换成强度差而形成的。11.原子序数衬度
6、(Zcontrast):衬度正比于Z2。相位衬度和振幅衬度同时存在。成分衬度也称为原子序数衬度。12.成分衬度:也称为原子序数衬度,衬度正比于Z2。相位衬度和振幅衬度同时存在。13.光电效应:只要光的频率超过某一极限频率,受光照射的金属表血立即就会逸山光电子。包括光电子和荧光X射线。14.俄歇电子:原子内某一内层电子被激发电离从而形成空位,一个较高能级的电子跃迁到该空位上,再接着另一个电子被激发发射,形成无辐射跃迁过程,这一过程被称为Auger效应,被发射的电子称为Auger电子。15.俄歇效应:原子中K层的一个电子被打岀后,它就处于K激发状态,其能量为EK。如
7、果一个L层电子来填充这个空位,K电离就变成L电离,其能量由EK变成EL,此时将释放EK-EL的能量。释放出的能量,可能产生荧光X射线,也可能给TL层的电子,使其脱离原子产生二次电离。即K层的一个空位被L层的两个空位所代替。16.背散射电子:入射电子经过试样表妞散射后改变运动方向后又从试样表妞反射回来的电子称为被散射电子。利用背反射电子作力成像信号不仅能分析新貌特征,也可以用來显示原子序数衬度,定性进行成分分析。17.相干散射:由于散射线与入射线的波长和频率一致,位相固定,在相同方昀上各散射波符合相干条件,故称为相干散射。相干散射是X射线衍射基础。18.量子散射:
8、这种波长改变的散射现象和
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