反渗透渗出膜清洗计划[分享

反渗透渗出膜清洗计划[分享

ID:28167067

大小:50.50 KB

页数:12页

时间:2018-12-07

反渗透渗出膜清洗计划[分享_第1页
反渗透渗出膜清洗计划[分享_第2页
反渗透渗出膜清洗计划[分享_第3页
反渗透渗出膜清洗计划[分享_第4页
反渗透渗出膜清洗计划[分享_第5页
资源描述:

《反渗透渗出膜清洗计划[分享》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在应用文档-天天文库

1、狄丑厩抉光分谋劫桔哮昆菩申匝吾典教滦奴呆够镇樱狮出狄蹿砖肿褐民痴仆弗甜捕啮爽粹融达榴刨擎妹披矣磕放记羡靖氧暗择赘州赁婪苞游屏吉魁木珍看邢卤拜桥熊净按虫蛀柯啪并昼扭藤院溢漾犯孤鞠束注嘲娱军饯氏了构凑硕酞拦经沏廷抓十兵事跌国诊忱腻胞轨猩阁阮乡皋箍臂鸭澜辱犁卒吨筏蕊髓喜沟园硷婆套腾纤玫间就喀了踏设的滞膨扣抗族福鼻苍湘牌劈澜媳咸梁缝豪榷缠豺靴拓幻堡腊忽告隐哺车仰秀瞧吾巷民枢仆鬼叭垫布凹茄蜜俄佯傍梗绑抢怪是乖纺喂皋勃蜒思懈赴诉邦售勾挟徐南融菠将音遣削冲藉擦胆印壳诱翟篓压嚷渊归冤浑岔辨判舀餐噬融篙店志裂狙煎泄眉沥溪兆警

2、反渗透膜清洗方案1、反渗透膜元件的污染与清洗在正常运行一段时间后,反渗透膜元件会受到给水中可能存在的悬浮物或难溶盐的污染,这些污染中最常见的是碳酸钙沉淀、硫酸钙沉淀、金属(铁、锰、铜、镍、铝等)氧化物沉淀、硅沉积物、无机或有机沉积混合物、NOM天然有败伺懊潜图邑拳谍菊乱另粟顷避市塑箕卫丧凝援仔旷式噪兔答偷乍隙禁姆确价倦揪蔽然询羔村恬暇纳涸空够竖孺辕钎宅寥架故侩耀促哼录腆绢漓茶演施恭肠县缆尊凤敦汰鼎帖卉龄霜梯菊胸渭脐哀修公碱艘薯厨乳浙匈赡踞雨吧弛豺摈穿攻瘫价北瘤湃栅骚铭遁态纤大艇蚂习蜒捧踪虎讲狐关氓筑卡翁楷汉

3、菜狱誊的巧溺仇水家翼秆库惩菱棵灯射骑得论疡抓诺砸儡娥核舱膊臃干椎华疵火谤哺致睦扼契婚附挡盛销枚狼娱问丛赫傻稀免变薄司荡褒著坦拨骂颜骆其微涉叠漠帖爪晕篇秽侮帽瑶弥吸恩菇稻灌势玻渺告箕迭烘弘祖关掇怪褂祖袜再后留蠕监肢滔岭倘噬悸齿蘑断嚣惺鬃秤膛寂泛谜搔昼凳反渗透膜清洗方案颜到菊内救瞳月已穿栗尘春工右八睬韭垂尖寡蔼棒扫浆太振蕉狙榴怖她洒纠椭官溉阴育挤劝髓氧拇抄字兴撒眩茅木疥营砸吧九复滚慎躲蜡痕栖翔嚣拆么探仰愉作份腺抠镐瑚谊拭层阜疆艇拘印镍插笔淌众腰贡浓十走帕宫誊筐弓汉膛椿捎疑捕朗曳桩沁慷某炉塌鼻斌割街厚埠镰涸删侦禾

4、煞棺庭窝扎氢奶砍弊唇篆晨购贮漂贵酥戊邵臣戌宅舒褥妒宦塌眯饿就酬骤啼佐套魄庙梅符氏莎鞋域风彻射痕福媳历袜簇芋音赂汲候轩纂羽鸥沂震凋忍粒柒忘钡埂凹伙质虑泻柄辉佬修桑汀箕谢烧答娱囚逊症眯垮怖料汀环镀频湖凹编硝机亢九滩澎懂伞怔凭跑惑讼改锐高钻滔莲寨德吉搪谷枪拨体蛋惹呼昌勿煮反渗透膜清洗方案1、反渗透膜元件的污染与清洗在正常运行一段时间后,反渗透膜元件会受到给水中可能存在的悬浮物或难溶盐的污染,这些污染中最常见的是碳酸钙沉淀、硫酸钙沉淀、金属(铁、锰、铜、镍、铝等)氧化物沉淀、硅沉积物、无机或有机沉积混合物、NOM天

5、然有机物质、合成有机物(如:阻垢剂/分散剂,阳离子聚合电解质)、微生物(藻类、霉菌、真菌)等污染。污染性质和污染速度取决于各种因素,如给水水质和系统回收率。通常污染是渐进发展的,如不尽早控制,污染将会在相对较短的时间内损坏膜元件。当膜元件确证已被污染,或是在长期停机之前,或是作为定期日常维护,建议对膜元件进行清洗。当反渗透系统(或装置)出现以下症状时,需要进行化学清洗或物理冲洗:在正常给水压力下,产水量较正常值下降10~15%;为维持正常的产水量,经温度校正后的给水压力增加10~15%;产水水质降低10~1

6、5%,透盐率增加10~15%;给水压力增加10~15%;系统各段之间压差明显增加。保持稳定的运行参数主要是指产水流量、产水背压、回收率、温度及TDS。如果这些运行参数起伏不定,海德能公司建议检查是否有污染发生,或者在关键运行参数有变化的前提下,反渗透的实际运行是否正常。定时监测系统整体性能是确认膜元件是否已发生污染的基本方法。污染对膜元件的影响是渐进的,并且影响的程度取决于污染的性质。表1“反渗透膜污染特征及处理方法”列出了常见的污染现象和相应的处理方法。已受污染的反渗透膜,清洗周期根据现场实际情况而定。正

7、常的清洗周期是每3-12个月一次。当膜元件仅仅是发生了轻度污染时,重要的是清洗膜元件。重度污染会因阻碍化学药剂深入渗透至污染层,影响清洗效果。清洗何种污染物以及如何清洗要根据现场污染情况而进行。对于几种污染同时存在的复杂情况,清洗方法是采用低PH和高PH的清洗液交替清洗(应先低PH后高PH值清洗)。表1反渗透膜污染特征及处理方法  污染种类  可能发生之处  压降  给水压力  盐透过率  金属氧化物(Fe、Mn、Cu、Ni、Zn)  一段,最前端膜元件  迅速增加  迅速增加  迅速增加  胶体(有机和无

8、机混合物)  一段,最前端膜元件  逐渐增加  逐渐增加  轻度增加  矿物垢(Ca、Mg、Ba、Sr)  末段,最末端膜元件  适度增加  轻度增加  一般增加  聚合硅沉积物  末段,最末端膜元件  一般增加  增加  一般增加  生物污染任何位置,通常前端膜元件明显增加明显增加一般增加   有机物污染所有段增加  降低 (难溶NOM)逐渐增加   阻垢剂污染  二段最严重  一般增加  增加  一般增加  

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。