石英晶振与MEMS技术的结合成为必然趋势.doc

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1、石英晶振与MEMS技术的结合成为必然趋势　　随着射频系统小型化及对晶振抗振性、相位噪声等参数要求越来越高，石英晶体谐振器尺寸进一步减小。微电子机械系统(MEMS)技术利用IC加工技术实现微纳米尺度加工，在加工精度、加工手段、EDA(计算机辅助设计)等方面具有先天优势，因此石英晶体技术与MEMS技术的结合成为必然趋势。　　1、EPSON公司的QMEMS技术　　EPSON公司在上世纪七十年代，即将MEMS的光刻技术应用于音叉谐振器的生产，随着该技术在石英晶体元件领域的进一步应用，使得石英器件的尺寸大幅缩小。　　　　图1、早期音叉石英晶体谐振器尺寸演变　　随着SiTime等

2、公司的硅谐振器产品对石英晶体谐振器的冲击，EPSON公司正式提出QMEMS概念，利用MEMS的微纳米加工技术手段，进一步缩小石英晶体元件的尺寸，抵制硅谐振器产品对市场的侵蚀。　　　　图2、石英晶体元件机械加工与QMEMS加工工艺的比较　　(1)利用QMEMS技术实现的HFF晶振　　使用光刻加工，通过只将晶体芯片的激励部加工成数微米的极薄的构造(反向台构造)，可以在保持芯片的强度的同时，将高频中的基波振荡变为可能。　　　　图3、QMEMS的技术优势　　　　图4、利用QMEMS技术实现的反向台结构　　(2)QMEMS使用MEMS的光刻技术实现了小型化的蚀刻型晶体与振荡器　

3、　原来的机械加工首先将石英切成片后对每片进行倒角。因此，每片石英芯片的形状均不相同。与此相对，利用MEMS技术的光刻加工是以晶圆为单位进行精微加工。所以，形状不均可以控制到较小。形状不均将引起石英晶体元器件的特性不均。　　　　图5、QMEMS工艺与机械加工工艺对比　　使用MEMS技术的光刻加工，可以使石英晶体芯片的形状保持均一。与机械加工相比，即使是超小型石英晶体单元，也可以实现不均度少的优越的温度特性。　　　　图6、2.0×1.6mm规格的AT型晶体(26MHz)的频率温度特性　　2、台晶科技(TXC)的MEMS技术应用　　台湾TXC也将MEMS的微纳米

4、加工技术引入石英晶体元件的加工，降低晶体元件的体积。并且将MEMS技术中的圆片级封装技术方面也做了大量的积累，并申请了大量相关专利，以进一步缩小元件的体积。　　　　图7、MEMS的圆片级封装技术　　随着石英晶体元件尺寸的进一步缩小以及SMD技术的广泛应用，台晶公司及国内外众多石英晶体元件公司将MEMS技术中常用的多物理场有限元仿真方法应用于石英晶体元件的设计，降低由于尺寸降低引起的寄生模态和锚点损耗。　　　　图8、有限元仿真方法在石英晶体元件设计中的应用　　3、美国HRL实验室石英晶体MEMS技术　　美国HRL实验室在美国军方DARPA项目的支持下，大力发展MEMS技

5、术与石英晶振结合的MEMS圆片级封装技术。将石英晶体技术完美融合入MEMS加工方法，提高石英晶体元件的集成度和性能。　　　　图9、实现石英晶体与ASIC电路的圆片级集成和封装　　结论：　　MEMS技术最为微纳米尺度加工手段，在石英晶体元件的小型化及集成化方面已经得到广泛应用，相关产品页越来越多。在石英晶体元件小型化及SMD技术发展过程中，由于小型化引起的寄生模态及损耗影响也通过MEMS技术常用的多物理场有限元仿真方法得到改善和避免。石英晶体技术与MEMS技术的结合必将进一步深化，在实现小型化的同时提升石英晶体元件的性能。