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时间:2018-12-07
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1、氧化锌薄膜的微观结构及其结晶性能研究4—.首部鵬兰)中南民族大学虽子信息I程学院摘要:以普通玻璃作为衬底材料,采用射频磁控溅射方法制备Y氧化锌(ZnO)透明导电薄膜,通过X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)测试,研宂了衬底温度对薄膜微观结构及其结晶性能的影响.结果表明:所制备的ZnO薄膜均为(002)晶面择优取向牛.长的多晶薄膜,其微观结构和结晶性能与衬底温度密切相关.衬底温度对ZnO薄膜的织构系数TC(hkl)、平均晶粒尺寸、位错密度、晶格应变和晶格常数都具有不同程度的影响,当衬底温度为800K时,ZnO薄膜样品的织构系数TC(002)最
2、高(4.929)、平均晶粒尺寸最大(20.91nm),位错密度最小(2.289X10l5line*nf2)、晶格应变最低(2.781X10,,具有最高的(002)晶面择优取向生长性和最佳的微观结构性能.关键词:氧化锌;鵬微观结构;结品性能;作者简介:陈首部(1964-),男,高级工程师,研宂方向:等离子体应用技术,E-mail:chensb64@sohu.com收稿日期:2017-05-28基金:湖北省自然科学基金资助项目(2011CDB418)MicrosructureandCrystallineCharacteristicsofZincOxideT
3、hinFilmsChenShoubuLuZhouLanChunCollegeofElectronicInformationEngineering,South-CentralUniversityforNationalities;Abstract:Thetransparentconductingoxidethinfilmsofzincoxide(ZnO)weredepositedonglasssubstratesbyradiofrequencymagnetronsputteringmethod.Theinfluenceofsubstratetemperat
4、ureonthemirostructureandcrystal1inecharacteristicsofZnOthinfi1mswasinvestigatedbyX-raydiffraction(XRD)andX-rayphotoclectronspectroscopy(XPS),respectively.Theresultsindicatethatthedepositedthinfilmswiththehexagonalcrystalstructurearepolycrystallineandhaveastronglypreferredorienta
5、tionof(002)plane.Themirostructureandcrystallinecharacteristicsofthethinfilmsareobservedtobesubjectedtothesubstratetemperature.Whenthesubstratetemperatureis800K,thedepositedZnOsampleexhibitsthebestcrystallineandmicrostructuralproperties,withthehighesttexturecoefficientof(002)plan
6、eof4.929,thelargestaveragegrainsizeof20.91nm,theminimumdislocationdensityof2.289X101'line•m-2andthelowestlatticestrainof2.781X103.Keyword:zincoxide;thinfilm;microstructure;crystallinecharacteristics;Received:2017-05-28作为第三代新型半导体材料的主要代表之一,氧化锌(Zn0)不仅自然储量丰富、价格低廉、绿色环保,同时还具有优异的光电、光敏、
7、压电和压敏等性质.它与硫化锌(ZnS)和氮化镓(GaN)相比,Zn0在室温条件下具有较宽的直接带隙和较高的自由激子结合能,是制备光电功能器件的优良材料,已被广泛应用于太阳能电池[1-5]、发光显示器[6-11]、半导体激光器[12]、紫外探测器[13]、声表面波器件[14]以及触摸控制面板[15]等领域具有广阔的应用前景.目前,制备ZnO薄膜的方法多种多样,如水热法[16]、溶胶-凝胶法[17]、化学气相沉积法[18]、原子层沉积法[19]、脉冲激光沉积法[20]、喷雾热分解法[21]和磁控溅射法[22-25]等,其中磁控溅射技术具有工艺简单、成膜均匀
8、、致密性好、成木低廉、易于大面积制备等优点,因此得到了业界的广泛应用.ZnO薄膜的晶体质量及其
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