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时间:2018-12-06
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1、台积电放大招:5nm明年试产2nm以下工艺取得进展 最近在美国加州圣克拉拉举办的第24届年度技术研讨会上,台积电在场公布了一份最新的技术蓝图。台积电是全球第一大晶圆代工厂商,所以,台积电规划的这份技术发展蓝图,显然也就有被他人了解的价值和意义。 在美国加州圣克拉拉举办的第24届年度技术研讨会上,台积电当场宣布7nm工艺已进入量产,在2019年初将投产EUV(极紫外光刻机)版的7nm+工艺。另外,台积电在会上还公布了5nm工艺节点的首个时间表,以及数种新的封装技术方案。台积电会继续将功耗低、漏电低的制程工艺技术推向在行业中更为主流的22/12nm工艺节点,并为客户提供多种且特
2、殊的制程工艺以及一系列的嵌入式存储方案;与此同时,台积电也在积极地探索未来的晶体管结构与原材料。从总体上看来,预计台积电在2018年可生产出1200万片晶圆,台积电的研发开支和资本开支均比以往有所增长;同样是在2018年,台积电设在南京的一座晶圆工厂开始量产16nmFinFET制程工艺。 不过,有一个不好的消息是,就台积电而言,新的制程节点为自身带来的收益趋于更加薄弱;新的常态是,台积电研发并推出新的制程工艺节点,主要是为持续提升芯片的性能、降低芯片的功耗(功耗下降的幅度通常在10%-20%之间)。这对整个晶圆代工行业来说,新的封装技术与特殊的制程越来越重要。 台积电已开始投入
3、量产7nm工艺,业界预计2018年会有50个以上的设计案投片,包括CPU、GPU、人工智能加速器芯片、加密货币挖矿专用芯片ASIC、网络路芯片、游戏机芯片、5G芯片和车用芯片等。台积电预计在2019上半年开始对5nm制程进行风险试产,该制程将最先用于手机与高性能的运算芯片;与台积电当前已量产的7nm工艺相比较,5nm工艺节点的密度可达1.8倍,可降低功耗20%左右,在速度上大约提升15%。 市场研究机构TheLinleyGroup的分析师MikeDemler表示:“没有EUV,他们就无法提供与过去节点相同的微缩优势。如果你看7nm+制程,号称比7nm制程再微缩20%,因此EUV还
4、是更接近传统摩尔定律微缩水准所需的,而7nm到5nm节点的微缩效果只会更糟。” 台积电明显有能力在2019年初开始量产EUV版的7nm+工艺,台积电现有的系统在2018年4月里以250W维持生产了数周的时间,预期2019年可达到300W,这是量产时所需的功率水准。不过要维持每日平均145W的功率,台积电仍需努力。台积电的研发副总经理米玉杰就此表态:“生产量正朝向满足量产所需发展。”除了透露在功率以及生产量方面的进步,米玉杰还表示,尽管仍超出三分之一,光阻剂量的减少幅度也朝着台积电在2019年第1季度量产的目标迈进;此外EUV光源的光罩护膜的穿透率目前达到83%,2019年应该可以
5、达到90%。米玉杰以数个案例为证明并表示,EUV光刻机可持续提供比浸润式步进机更佳的关键尺寸均匀度;台积电预期会同时在7nm+工艺以及5nm工艺节点的多个层采用EUV光刻机,并将在工厂中积极安装ASML的NXE3400微影设备。 由此不难得出,台积电的EUV制程工艺量产计划与三星的量产时程相差仅在半年以内。三星已经表示将于2018年就导入EUV量产,而台积电与三星的EUV量产时程差距,其实尚不足以让苹果、高通等大客户更换代工厂商;市场研究机构VLSIResearch的执行长G.DanHutcheson表示,三星的EUV量产比起台积电只有几个月的领先,这在长期看来是微不足道的。
6、台积电的5nm工艺节点,目前正处于萌芽的阶段,预计在2018年6月会释出0.5版的EDA流程,在2018年7月则推出0.5版的设计工具套件;该工艺节点还有许多的IP功能区块要到2019年才会完成验证,这包括PCIe4.0、DDR4以及USB3.1介面。 台积电所设定的目标是,2019年让10/7nm工艺节点的产量比当前增长3倍,达到年产110万片晶圆的目标;台积电的Fab18工厂已经在台南科学园区兴建中,2020年可望开始量产5nm工艺。 台积电已为GPU与其他处理器开发出了CoWoS2.5D封装技术,还有适用于智能手机芯片的晶圆级扇出式封装InFO。台积电除了继续推广这两种技
7、术外,还将新增另外的封装技术方案。 自2019年初开始,CoWoS技术将提供具备倍缩光罩两倍尺寸的硅中介层选项,而具备130μm凸块间距的版本将在2018年通过品质认证。InFO技术则会有四种衍生技术,其中存储基板应用的InFO-MS,将在1x倍缩光罩的基板上封装系统级芯片SoC与HBM,具备2x2μm的重分布层,将在2018年9月通过验证。InFO-oS有着与DRAM内存芯片更匹配的背向RDL间距,且已经准备就绪;一种名为MUST的多堆叠选项,将1-2颗芯片放在另
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