圣泉历时26年研发光刻胶实现国产 打破国外垄断.doc

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1、圣泉历时26年研发光刻胶实现国产打破国外垄断　　最近因为中兴被美国政府制裁禁用美国电子芯片一事，全国上上下下普及了一遍半导体技术，也让很多人明白了国产厂商在半导体领域原来这么落后，不仅下游的芯片研发、设计不行，上游的半导体装备、材料更是严重依赖进口。　　好在这种局面正在改变，芯片生产所需要的光刻机技术现在已经国产化了，国内公司攻克了另一项中国芯关键技术。　　大家听多了光刻机、蚀刻机以及nm工艺这样的术语，对光刻胶还是十分陌生的。　　买回来的硅圆片经过检查无破损后即可投入生产线上，前期可能还有各种成膜工艺，然后就进入到涂抹光刻胶环节。微影光刻工艺是一种图形影印技术

2、，也是集成电路制造工艺中一项关键工艺。　　首先将光刻胶（感光性树脂）滴在硅晶圆片上，通过高速旋转均匀涂抹成光刻胶薄膜，并施加以适当的温度固化光刻胶薄膜。　　涂好了光刻胶才能进入光刻机进行曝光，让紫外线在光刻胶上生成掩膜中的电路图，必要的时候还要多重曝光，反复使用光刻胶，因此没有这一步电路是造不出来的。　　　　光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料，可以在光照后发生化学性质的改变，这是整个工艺的基础。　　光刻胶有不同的类型，PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）、聚甲基戊二酰亚胺（PMGI）以及DNQ（酚醛树脂）等材料都可以做光刻胶。据有关资料显示，到2022年全球光

3、刻胶市场市场价值将达到415亿美元，年复合增长率5.5%——算起来这个市场比光刻机产值还要大得多，毕竟光刻胶是耗材。　　目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等国家，包括陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、LG化学等等，中国公司在光刻胶领域也缺少核心技术。　　今天科技日报报道称，圣泉公司历时26年研发的国产光刻胶——“光刻胶用线性酚醛树脂”国产化成功，打破了美国日本韩国等公司的垄断。　　圣泉公司现在已经是亚洲最大的酚醛树脂公司，技术