国内pvd技术应用与研究现状

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1、国内PVD技术应用与研究现状【摘要】PVD技术在进行实施的过程当中，是通过对某种物理机制加以应用来在相关物体表面形成一层薄膜。比如通过对物质的热蒸发进行应用或者是在受到粒子轰击时，物质表面原子的现溅射现象。这能够有效地实现物质从原物质到薄膜间的可控化的转移。虽然，国内PVD技术的应用水平还无法达到需求，但是相关市场的普及和需求量已经远远超出了预计结果。在这种背景下，研究国内PVD技术的应用，并对其相关应用现状进行分析十分重要。中国4/vie　　【Abstract】PVDismainlybasedontheapplic

2、ationofaphysicalmechanismtoformafilmonthesurfaceoftherelevantobjects.Suchastheuseofthermalevaporationofsubstancesorandthesputteringphenomenonofmaterialsurfaceatomsatthetimeofparticlebombardment.Itcaneffectivelyrealizethecontrollabletransferofmatterfromtheorigin

3、almaterialtothefilm.AlthoughthedomesticPVDtechnologyapplicationlevelcannotmeetthedemand，butthepopularityoftherelevantmarketanddemandhasfarexceededtheexpectedresults.Underthisbackground，itisveryimportanttostudytheapplicationofPVDtechnologyandanalyzeitsapplicatio

4、nstatusinChina.　　【关键词】国内PVD技术；技术应用；研究现状　　【KeyesticPVDtechnology；technologyapplication；researchstatus　　【中图分类号】TG14【文献标志码】A【】1673-1069（2017）04-0183-02　　1国内PVD技术的发展情况　　国内PVD的图层技术开始发展的时间是20世纪八十年代初，当时因为对于中小型的空心阴极离子镀膜机进行研制，分析高速钢刀具的TiN涂层，主要涉及到了对这种技术的应用。从当时的研究角度来看，刀具涂层

5、具有较好的应用市场和发展前景，这就使得国内开始应用到了热阴极离子镀和阴极电弧离子镀等相关的技术与设备。　　这一新引进的技术和装备开始促进我国的刀具PVD涂层技术的首次发展，并且也激发了我国PVD技术的开发。国内的各个真空设备厂和相关科研单位纷纷开始对离子镀膜机的研究工作展开攻关，直到九十年代初开始开发出了多种PVD设备。但是因为大多数设备性能和指标相对都不能达标，导致其所制成的工艺设备的稳定性并不能合乎标准。　　虽然，在九十年代的时候，国内所研制成功的一些涂层工艺技术能够实现相关的使用水平，但在日后的发展过程当中却并

6、没有得到市场的认可。我国汽车工艺技术在不断的崛起，这也使得先进的制造业技术大量被引进，一些数控机床技术被大面积的普及。所以，到21世纪，国内又开始掀起了第二次PVD技术的开发热潮。但这次的开发和上一次开发存在着明显的不同，使得国内PVD技术的发展具有更高的创造性和多元性。　　对其进行归纳主要有阴极电弧法、热阴极法、磁控溅射法、磁控溅射附加阴极电弧法、空心阴极复加磁控溅射及阴极电弧法。对于这些方法进行归纳，我国国内的刀具涂层技术的开发开始表现出明确的特点，它主要将TiAIN薄膜作为主要的发展角度，各类技术都能够在切削刀

7、具上制造出多种保护膜层，但是当前所欠缺的就是采用基础的研究，对于工业化生产工艺的稳定性也没有相关的保障。　　2国内PVD技术的案例研究和应用分析　　2.1TVB技术的主要研发内容、预期目标和解决的关键技术　　传统电镀法和化学镀法制造的合金产品不但附着粘度强度差，膜层厚度不均匀，而且还会产生大量的废液而造成公害[1]。为了避免这种情况发生，采用PVD离子溅射方法进行钼基板合金镀膜，在PVD磁控溅射镀膜专用设备真空体中，利用磁场与电子相互作用，产生高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，沉积在钼基板上，使得钼基板表面均匀覆盖一

8、层致密的合金薄膜，合金层和钼基板之间形成冶金结合。采用热轧和温轧相结合的交叉复合轧制工艺，形成具有纳米亚晶结构的纵横交叉的纤维状显微组织的钼基板，减少材料的各项异性，提高室温力学性能。选用细晶密度纯度等晶压制内部钼粒比较均匀的大规格钼坯为原材料，采用自动控制压延量的轧机进行加工，通过交叉和热轧和交叉温轧相结合的复合轧制工艺，获得具有精细亚晶结构