溶胶-凝胶和脉冲激光沉积法取向薄膜(pst2csbn)的制备和性能分析

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时间:2018-11-08

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1、浙江人学博上学位论文28倍,显示出更加优异的介电可调性能。2.脉冲激光沉积法外延钛酸锶铅薄膜的结构和性能研究(1)研究了实验条件和镍酸锂(LNO)缓冲层的引入对外延钛酸锶铅薄膜晶相形成的影响。实验表明,在选择适合的衬底温度以及氧分压时,如衬底温度高于7300C,氧分压为200mTorr,可以在MgO衬底上得到高择优取向的PST薄膜。随着衬底温度的升高,提供给原子的能量也增加,原子具有的较高的活性,在析晶过程中很容易受到基板的诱导,迁移调整到(100)晶面并形核生长,因此薄膜的取向性也越好。在上述薄膜与基板间引入的LNO薄膜兼具底电极的缓冲层的作用,由于LNO缓冲层的品格常数介于MgO基

2、板与PST薄膜之间,因此起到了减少PST薄膜与MgO基板之间应力的作用,使得制备得到的PST薄膜的取向性更好,薄膜更加完整,质量更好。(2)研究了LNO缓冲层的引入对外延钛酸锶铅薄膜介电性能的影响。引入的LNO薄膜受MgO单晶基板的诱导,也为(100)方向取向生长,且兼具导电电极和外延生长传递的功能。此外作为缓冲层,LNO的晶格常数介于MgO基板与PST薄膜之间,既可以与MgO基板很好地匹配,也可以与PST薄膜很好地匹配,因此起到了减少PST薄膜与MgO基板之间应力的作用。这使得制备得到的PST薄膜的取向性更好,薄膜更加完整,质量更好,介电性能也有了很大提高。制备条件为衬底温度7800

3、C,氧分压为200mTorr的情况下,加入LNO缓冲层后,在相同的外加偏压下(.20v一20v),钛酸锶铅薄膜在100kHz下的介电可调性由40%提高到70%,介电损耗由o.1下降到0.06,优值FOM由10.1提高到14.3。3.脉冲激光沉积法外延铌酸锶钡薄膜的结构和性能研究(1)采用PLD法,在覆有LNO底电极缓冲层MgO(001)基板上成功制备了外延生长的SBN60薄膜。在选择适合的衬底温度以及氧分压,如衬底温度高于7500C,氧分压为200mTorr,可以在MgO衬底上得到高择优取向的SBN60薄膜。SBN薄膜和LNO/MgO基板在结晶方向上呈现循环对称性,为外延生长关系,但是

4、呈现一定的生长角度,可以表示为SBN薄膜、LNO薄膜与MgO基板为SBN(001)IILNO(220)I[MgO(220)和SBN(001)IILNO(710)llMgO(710)外延生长。(2)对SBN薄膜的光学带隙进行了测量,测得SBN的光学带隙为3.85eV。同时,利用棱镜耦合仪对SBN薄膜的折射率进行测量,SBN薄膜的寻常光‰的有效折射率(刀TE)和异常光n。的有效折射率(甩TM)分别2.1843和2.1684。对LNO薄膜的光学带隙进行了测量,测得LNO的光学带隙为3.6eV。同时,对LNO薄膜的折射率进行测量,当波长从800nm减小到350nm时,折射率从1.75增加到1.

5、8l。制得的LNO薄膜的折射率远远小于小于SBN单晶薄膜的折射率,因此以SBN/LNO/MgO基板为结构的样品可以实现SBN薄膜在光波导领域的应用。摘要(3)结合样品制作工艺的特点和实验室现有条件,选用改进的简单反射法测量SBN薄膜的纵向电光应用与光轴平行方向电场对应的电光系数分量怕3。用1/4波片取代昂贵的补偿器,调节静态工作点处于线性工作区,对采用简单反射法计算SBN薄膜纵向电光系数的公式进行详细的推导。利用上述搭建的测试系统,对制备的SBN/LNO/MgO结构的薄膜样品进行了测试,测试结果显示SBN薄膜的纵向电光应用与光轴平行方向电场对应的电光系数分量^r33为186.61pm/

6、V,这使得新型结构的SBN薄膜成为一种理想的光波导材料。关键词:溶胶一凝胶,脉冲激光沉积,钛酸锶铅薄膜,铌酸锶钡薄膜,介电可调,光波导,取向生长,外延生长III浙江大学博士学位论文IVAbstractTheaimofthisworkistofabricateoriented·-growthandexpitaxial·growth(Pb,Sr)Ti03(PST)dielectrictunablethinfilmsand(Sr,Ba)Nb206(SBN)waveguidethinfilms.Effortshavebeendevotedtocontrolthedepositedconditi

7、onsandtostudythepropertiesofthesethinfilms.Sol—gelmethodandplusedlayserdeposition(PLD)techniquehavdbeenusedtopreparethesetwokindofthinfilms.TheX-rayDiffraction(XRD),ScanningElectronMicroscope(SEM),UltravioletRays(UV),Agilent

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