z元件特性与应用的扩展

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1、Z元件特性与应用的扩展摘要：z-元件具有进一步的开发潜力，扩充其特性和应用可形成一些新型电子器件。本文在温、光、磁敏z-元件的基础上，依据对z-元件工作机理的深入探讨，开发出一些新型的半导体敏感元件，如掺金丫-硅热敏电阻、力敏Z-元件以及新型V/F转换器。本文着重介绍了这些新型敏感元件的电路结构与工作原理。这些新型敏感元件都具有生产工艺简单、体积小、成本低等特点。关键词：热敏电阻，掺金丫-硅热敏电阻，z-元件，力敏Z-元件，V/F转换器一、刖目Z-半导体敏感元件（简称z-元件）性能奇特，应用电路简单而且规范，使用组态灵活，应用开发潜力大。它包括z-元件在内仅用两个（或3个）元器件

2、，就可构成电路最简单的三端传感器，实现多种用途。特别是其中的三端数字传感器，己引起许多用户的关注。Z-元件现有温、光、磁，以及正在开发中的力敏四个品种，都能以不同的电路组态，分别输出开关、模拟或脉冲频率信号，相应构成不同品种的三端传感器。其中，仅以温敏Z-元件为例，就可以组合出12种电路结构，输出12种波形，实现6种基本应用［3］。再考虑到其它光、磁或力敏Z-元件几个品种，其可供开发的扩展空间将十分可观。为了拓宽Z-元件的应用领域，很有从深度上和广度上进一步研宄的价值。本文在前述温、光、磁敏Z-元件的基础上，结合生产工艺和应用开发实践，在半导体工作机理上和电路应用组态上进行了深入

3、的扩展研究，形成了一些新型的敏感元件。作为其中的部分实例，本文重点介绍了掺金g-硅新型热敏电阻、力敏z-元件以及新型V/F转换器，供用户分析研宄与应用开发参考。这些新型敏感元件都具有体积小、生产工艺简单、成本低、使用方便等特点。二、掺金g_硅新型热敏电阻1.概述用g_硅单晶制造半导体器件是不多见的，特别是用原本制造Z-元件这样的高阻g-硅单晶来制造z-元件以外的半导体器件，目前尚未见到报导。z-元件的特殊性能，主要是由掺金高阻g-硅区（也就是n-i区）的特性所决定的，对掺金高阻g_硅的性能进行深入地研究希望引起半导体器件工作者的高度重视。本部分从对掺金g_硅的特性深入研究入手，开

4、发出一种新型的热敏元件，即掺金g_硅热敏电阻。介绍了该新型热敏电阻的工作原理、技术特性和应用特点。2.掺金g_硅热敏电阻的工作机理“掺金g-硅热敏电阻”简称掺金硅热敏电阻，它是在深入研究Z-元件微观工作机理的基础上，按新的结构和新的生产工艺设计制造的，在温度检测与控制领域提供了一种新型的温敏元件。为了熟悉并正确使用这种新型温敏元件，必须首先了解它的工作机理。Z-元件是其N区被重掺杂补偿的改性PN结，即在高阻硅材料上形成的PN结，又经过重金属补偿，因而它具有特殊的半导体结构和特殊的伏安特性。图1为Z-元件的正向伏安特性曲线，图2为Z-元件的半导体结构Xj、图。由图1可知，Z-元件具

5、有一条“L”型伏安特性［1］，该特性可分成三个工作区：Ml高阻区，M2负阻区，M3低阻区。其中，高阻的Ml区对温度具有较高的灵敏度，自然成为研制掺金g_硅热敏电阻的主要着眼点。从图2可知，Z-元件的结构依次是：金属电极层一P+欧姆接触区一P型扩散区一P-N结结面一低掺杂高补偿N区，即区一n+欧姆接触区一金层电极层。可见Z-元件是一种改性PN结，它具有由P+-+构成的四层结构，其中核心部位是N型高阻硅区，特称为掺金g_硅区。掺金g_硅区的建立为掺金g-硅热敏电阻奠定了物理基础。z-元件在正偏下的导电机理是基于一种“管道击穿”和“管道雪崩击穿”的模型［2］。Z-元件是一种PN结，对图

6、2所示的Z-元件结构可按P-N结经典理论加以分析，因而在两区中也应存在一个自建电场区。该电场区因在P区很薄，自建电场区主要体现在区，且几乎占据了全部型区，这样宽的电场区其场强是很弱的，使得Z-元件呈现了高阻特性。如果给Z-元件施加正向偏压，这时因正向偏压的电场方向同Z-元件内部自建电场方向是相反的，很小的正向偏压便抵消了自建电场。这时按经典的PN结理论分析，本应进入正向导通状态，但由于Z-元件又是一种改性的PN结，其型区是经重金属掺杂的高补偿区，由于载流子被重金属陷阱所束缚，其电阻值在兆欧量级，其正向电流很小，表现在“L”曲线是线性电阻区即“Ml”区。这时，如果存在温度场，由于热

7、激发的作用使重金属陷阱中释放的载流子不断增加，并参与导电，必然具有较高的温度灵敏度。在M1区尚末形成导电管道，如果施加的正向偏压过大，将产生“管道击穿”，甚至“管道雪崩击穿”，将破坏了掺金g-硅新型热敏电阻的热阻特性，这是该热敏电阻的特殊问题。在这一理论模型的指导下，不难想到，如果将Z-元件的区单独制造出来，肯定是一个高灵敏度的热敏电阻（由于半导体伴生着光效应，当然也是一个光敏感电阻），由此可构造出掺金g_硅新型热敏电阻的基本结构，如图3所示。由于掺金g_硅新型热敏电阻不存在PN