干式复合工序是影响溶剂残留关键工序

干式复合工序是影响溶剂残留关键工序

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1、干式复合工序是影响溶剂残留的关键工序,一方面干复所使用的酯溶性粘合剂会带进醋酸乙酯,醇溶性粘合剂会带入乙醇等,增加溶剂残留;另一方面,干式复合工序温度高、风量大,又会对印刷中的残留溶剂进一步排除。粘合剂的选择不同生产厂家的粘合剂在相同材料、相同工艺下生产的复合膜溶剂残留是不一样的。这是因为聚氯酯粘合剂的主剂,其分子键中含有活性氢的羟基(-OH),与乙酯(CH3CH2OCH3)会形成氢键的形成,大大束缚了乙酯的挥发。而主剂结构的变化会影响比氢键的强弱,此氢键越强,乙酯的释放越难,因而不同的主剂会造成不同的溶剂残留结果。因此应采用溶剂挥发性相对较

2、好的粘合剂品种(判别方法:每一种粘合剂均配制成相同浓度的溶液,称取相同量的粘合剂溶液置于相同面积的开口容器内,计录各种粘合剂的挥发速度)。干燥箱的温度整个烘道分三段加热,三段的热风温度可自由设定控制。具体操作时,自进口处到出口处的温度,应由低到高逐步增加,一般是第一段约50℃~60℃,第二段约70℃,第三段约75℃~80℃。当然这仅做参考、具体温度的设定,应根据基材的耐热性、复合时基膜的线速度、所使用溶剂的种类等综合考虑。如果所用的基材耐热性高、PT、OPA,且所走的线速度较高,则烘道的温度可相应提高,特别是油墨中使用了沸点比较高的甲苯、丁醇

3、等溶剂后,更应提高一些温度。当然要考虑基膜受热收缩的问题,在运转张力下,其横向收缩率不超过2%属正常现象。如基膜收缩率大,残留溶剂太多时,则应放慢运转的线速度,适当降低温度,减低运转张力,加大排风量,这样也可达到残留溶剂合格的目的。但是第一段温度过高、干燥过快时,墨层迅速皮膜化,反而会阻碍溶剂的挥发。干复设备上的干燥条件干燥箱结构、长度等条件直接影响干燥的效率。在温度与通风两者中,通风显得更重要,尽可能在塑料薄膜表面形成紊流风,出口风必须是均衡的负压。国产干式覆膜机干燥系统经历了一个逐步完善的过程。为了适应溶剂残留量控制的要求,一些早期的复合

4、机干燥有必要进行改进。目前国内的一些复合机出风口较小,在复合时,进风速度比出风速度大,使烘道内形成高气压,引起溶剂挥发速度减慢,使复合后的薄膜残留溶剂增多。在进入干燥箱之前(涂布辊至烘箱之间)增加一个预排风装置,在进口复合机和国内中高速复合机上装有该装置,排风能力较好。但应注意,在炎热的夏季,该阶段溶剂过度挥发可能会因为薄膜温度下降过多而引起空气中的水分混入。涂布量的影响单位面积涂布量越大,涂胶层越厚,在通过干燥箱过程中对最里层乙酯挥发的阻碍作用越大,会使溶剂的残留量有所提高。在干燥能力较弱的情况下,需要适当降低涂布量才能有效降低溶剂残留量。

5、蒸煮袋因为苛刻的后加工条件需要较高的涂布量,但涂布量提高后对干燥能力的要求就大为提高。如果因提高涂布量而导致残留溶剂量过高,就会大大影响蒸煮袋的耐温性能。醋酸乙酯纯度的影响溶剂中含有高沸点的液体,混和溶剂的蒸发率将明显提高,换句话说混合溶剂的挥发难度大大增加了,因此应严格控制所使用乙酯中水的含量控制。稀释剂乙酸乙酯中不能含带有-OH、-COOH、-NH2基团的化学成分(如水、醇、胺等杂质)。否则在配制时易与固化剂异氰酸酯反应,造成粘合剂配制比例失调,并且产生CO2造成气泡。同时也会降低乙酯的挥发性。在干式复合中,对醋酸乙酯含水和纯的量不能超过

6、0.2%,国外对用在干式复合中的醋酸乙酯规定是不能超过0.05%。生产厂家使用的乙酸乙酯包装桶,最好是专用桶。有些溶剂经销商由于各种原因,往往所售乙酯中可能会含有甲苯等相对便宜的溶剂,虽然对复合造成的影响不大,但是复合包装袋往往会留有甲苯的异味。这是必须注意的。干式复合直接使用回收溶剂(使用自身回收的溶剂或药厂等企业回收的溶剂)会带来很大的风险。因为回收溶剂中含有不确定的杂质。熟化室温度及通风控制熟化室温度一般控制在40%——55%,熟化的主要目的是促进粘合剂交链固化,另一方面是去除部分残留的溶剂。熟化室的热风应从底部进入,从项部排出,如果复

7、合后发现醋酸乙酯超标,可把复合膜在热化室多烘24h,时间不可太长,否则内层材料添加剂析出反而会增加异味,如果是双层阻隔结构的产品,增长熟化时间就没有明显效果。新型粘合剂的应用采用高估含低黏度的作业方式在相同的涂布量下使用高固含粘合剂,就可以有效减少溶剂的使用量,并有以下优点:减少溶剂消耗;减轻干燥负荷提高生产效率,降低能耗;降低残留溶剂。浙江华光树脂公司的实验表明,使用低黏度高浓度涂布可明显降低溶剂残留。例如低黏度高浓度涂布的AD-7510聚氯酯胶黏剂有效降低溶剂残留量:华光AD-7510胶黏剂复合膜醋酸乙酯残留量0.04mg/㎡;胶黏剂A复

8、合膜醋酸乙酯残留量约为0.13mg/㎡;华光PU-1975胶黏剂复合膜醋酸乙酯残留量0.12mg/㎡;胶黏剂B复合膜醋酸乙酯残留量0.28mg/㎡;华光PU-195

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