电子工业职业危害及控制原则

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1、电子工业的职业危害及控制原则1、电子工业的分类及特点①电子工业是研制、生产电子设备及各种元件、器件、仪器、仪表的工业，有：广播电视设备、通信、导航、雷达、电子计算机、电子元器件、电子仪器仪表及其他电子专用设备六大专业。从管理及生产组织区分，有下述类型：装配、大批量、混合式、多品种小批量、流程式。②电子产品产业链的三个层次：电子专用材料（专用设备：测量仪器、磨具制造）电子基础产品（元件、半导体器件、真空器件、光电子器件）、终端产品（雷达、通信设备、广播电视设备、计算机、视听设备……）③特点：a.技术密集型，科技含量高

2、b.自动化程度高c.产品复什、多种工艺同存，自制与外协并生d.研发投入大、升级换代快。2、电子工业的主要职业危害①半导体生产工艺辨识，基本分为：氧化、光刻、刻蚀、扩散、离子注入、金属镀膜。主要化学有害因素：清洗：硫酸、硝酸、盐酸、氢氟酸、磷酸、氟化铵、氨、双氧水等外延：SiH4、SiHcl3、SiHcl2、SiHcl4、AsH3、B2H6、PH3、Hcl、H2等光刻：甲苯、异丙醇、醋酸丁酯、cl2、Bcl3、C2F6、C3F8、CF4、SF6、HF、HCL、HBr、NO、C3H8等化学机械抛光：NH4OH、NH4C

3、L、NH3、KOH、有机酸盐化学气相沉淀：SiH4、SiH2CL2、SiCL4、SiF4、CF4、B2H6、PH3、NF3、HCL、HF、NH3扩散离子注入：BF3、AsH3、PH3、H2、SiH4、SiH2CL2、BBr3、BCL3、B2H6金属化：SiH4、Bcl3、ALCL3、TiCL4、WF6、TiF4、SiF4、ALF3、BF3、SF6等物理因素：紫外线、高温特点：多种化学因素、特种气体（如CL2、HCL、HBr、硅烷、磷烷、乙硼烷、CF4、SF6、氯仿等）②印制电路板a.电子级铜箔工艺：电解液制备、元箔

4、制造、表面处理、分切加工、检测等电解液制备：Cu、H2SO4、高温、CuS04元箔制造：Cr酸、Ni、P、Zn有机溶剂b.覆铜板材料有机溶剂：NOx、CL2、氨c.印制电路板照相制版：卤化银、硫代硫酸钠条形转移：光致抗刻蚀、聚乙烯、紫外线金属涂覆：刻蚀液（Fecl3、Cucl2、Hcl、NH4cl、NH4OH）表面处理：阻焊漆、助焊剂（松香为主）、有机溶剂、锡铅合金、可焊性保护涂层（松香、唑类、活性树脂）、高温。基本切削加工：噪声、尘①显示器薄膜平板晶体管显示器a.工艺：阵列—成盒—模板（彩膜）—装配b.阵列化学沉

5、积紫外线、高频辐射、化学因素（PH3、HF、N2、SiH4、NF3、氨、噪声）刻蚀/清洗干紫外线、高频、化学（HF、SF6、HCL、SiO2、氧化镉、CF4等）湿紫外、化学（磷酸、HN03、HCL、乙酸、乙醇胺、异丙醇、丁四醇）成像紫外、PR胶、异丙醇、乙酸丁酯、四甲基氧氟化铵、单甲基醚丙二醇、丙二醇甲醚醋酸酯成盒LH540、紫外、X射线测试激光、紫外开发异丙醇、乙醇仓储HN03、HCL、丙酮、磷酸、乙酸、乙醇胺、四甲基氧氟化铵、乙酸丁酯、特气库质保噪声、x、高温、低温、HF、异丙醇制造磷酸、乙酸、HN03、β-丁

6、内酯、甲基烷酮、丙酮、异丙醇、x、紫外气管乙酸、硝酸、磷酸、盐酸、SiH4、PH3、SF6、丁四醇、乙醇胺、异丙醇等化学品供应水处理气体配管c.据资料，阵列涉及化学物质25种、围材3种、彩膜9种、成盒3种。上海调查22种，其中高毒3种、中毒12种、低毒7种物理因素：噪声在新风机组、鼓风机、发电机、空压机、泵非电离辐射：激光（曝光机测量检验）紫外（干法刻蚀、感光材料照射）高频：干法刻蚀、化学气相沉积电离辐射：x线衍射仪（干法、溅射、化学气相沉积、测量检验）环境因素：温湿度、正负离子、新风量、微生物d.北京检测测定15

7、种化学物全部正常噪声有的点（机房、水处理、质保、产品评价）超标高频辐射（PECVD机）、紫外（干刻机、PECVD观视窗、UV固化机）①其他a.电镀镀铜（前处理）：CuSO4、H2SO4、氟化物、氰化物、碱、有机清洗剂（电镀及清洗）：H2SO4、CuSO4、氟化物、氰化物（后处理）：废液b.焊接现大量使用自助焊接，焊前需清洗，焊后用乙醇或水清洗；一般用免清洗助焊剂，手工焊仍广泛使用；焊丝里有以松香为主的助焊剂；活化剂，酒精作溶剂。传统的焊接为Pb-Sn合金，现渐改用无铅焊接；以Sn为主要成分，添加In、Ag、Bi、Z

8、n、Cu、Al构成多元共晶合金系，但要求高（成本、湿润度的限制、波峰焊时保持惰性气体状态）c.喷漆1、控制原则电子工业工艺多样复杂；职业危害因素多，多种有高、中毒性，刺激性、腐蚀性或易挥发物；潜在事故危险多，除前述原则外，必须：a.规范操作b.严格管理，加强职业安全卫生监管和有针对性的职安卫培训c.消除隐患，加强设备管理防止泄漏d.化学性有害因素集中或有高毒