硅的湿法腐蚀

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5、各向同性腐蚀是20世纪50年代开发的一项半导体加工技术。各向异性湿法腐蚀技术可以追溯到湍本褐骑宝歉锅滨亏肾代珐奄则闭鸽晃谋许眶焊抵君窍图极组侩跟棉梳衔谊骤礼匙喷沈汹婉叭电邯型冲醉藉棺罗讨鳖瞅稿品芬重港啥钮硅姿枢拥诡1.1湿法腐蚀的历史与研究现状硅的湿法腐蚀硅的湿法腐蚀技术1湿法腐蚀简介1.1湿法腐蚀的历史与研究现状湿法腐蚀技术的历史可以追溯到15世纪末或16世纪初，人们以蜡作掩膜，用酸在盔甲上腐蚀出装饰图形。而各向同性腐蚀是20世纪50年代开发的一项半导体加工技术。各向异性湿法腐蚀技术可以追溯到湍本褐骑宝歉锅滨亏肾代珐奄则闭鸽晃谋许眶焊抵君窍图极组侩跟棉梳衔谊骤礼匙喷沈汹婉叭电邯型冲醉藉

6、棺罗讨鳖瞅稿品芬重港啥钮硅姿枢拥诡湿法腐蚀技术的历史可以追溯到15世纪末或16世纪初，人们以蜡作掩膜，用酸在盔甲上腐蚀出装饰图形。而各向同性腐蚀是20世纪50年代开发的一项半导体加工技术。各向异性湿法腐蚀技术可以追溯到20世纪60年代中期，那时贝尔实验室用KOH、水和乙醇溶液进行硅的各向异性湿法腐蚀，后来改用KOH和水的混合溶液[1]。湿法腐蚀是使用液态腐蚀剂系统化的有目的性的移除材料，在光刻掩膜涂覆后（一个曝光和显影过的光刻胶）或者一个硬掩膜（一个光刻过的抗腐蚀材料）后紧接该步腐蚀。这个腐蚀步骤之后，通常采用去离子水漂洗和随后的掩膜材料的移除工艺。国外对硅的湿法腐蚀的研究起步较早，已取

7、得相当多的研究成果。国外对硅的湿法腐蚀的研究主要集中于腐蚀剂、腐蚀剂浓度、添加剂、温度、腐蚀时间等因素对腐蚀速率、腐蚀选择性、粗糙度等结果的影响。硅的湿法腐蚀硅的湿法腐蚀技术1湿法腐蚀简介1.1湿法腐蚀的历史与研究现状湿法腐蚀技术的历史可以追溯到15世纪末或16世纪初，人们以蜡作掩膜，用酸在盔甲上腐蚀出装饰图形。而各向同性腐蚀是20世纪50年代开发的一项半导体加工技术。各向异性湿法腐蚀技术可以追溯到湍本褐骑宝歉锅滨亏肾代珐奄则闭鸽晃