青海大学《化学反应工程》实验指导书

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1、青海大学化学反应工程实验指导书化学反应工程实验室2016年10月-23-实验一管式反应器流动特性测定实验一．实验装置图-23-一．设备特点实验装置由管式反应器和循环系统组成。循环泵开关在仪表屏上控制，流量由循环管阀门控制，流量直接显示在仪表屏上，单位是：升/小时。实验时，进水从转子流量计调节流入系统，稳定后在系统的入口处（反应管下部进样口）快速注入示踪剂(0.5ml左右)，由系统出口处电导电极检测示踪剂浓度变化，并显示在电导仪上，并可由记录仪记录。电导仪输出的毫伏信号经电缆进入A/D卡，A/D卡将模拟信号转换成数字信号，

2、由计算机集中采集、显示并记录，实验结束后，计算机可将实验数据及计算结果储存或打印出来。二．设备主要部件1．管式反应器：连续均相管式反应器，内装磁拉西环为填料；2．循环泵：通过调节阀调节不同的循环水量，从而改变循环比；3．流量显示仪：显示循环水流量，并控制循环泵的启动；4．转子流量计：调节总的进水流量；5．电导仪：用电导电极测定示踪剂浓度变化，并显示在电导仪上；三．操作要点操作要点(1)实验循环比做三个，R=0，5，10；注入示踪剂要小于1ml；(2)调节流量稳定后方可注入示踪剂,整个操作过程中注意控制流量；(3)为便于观

3、察，示踪剂中加入了颜料。抽取时勿吸入底层晶体，以免堵塞。(4)示踪剂要求一次迅速注入；若遇针头堵塞，不可强行推入，应拔出后重新操作；(5)一旦失误，应等示踪剂出峰全部走平后，再重做。四．分析方法示踪剂KCL是强电介质，实验中通过测定溶液电导率变化来检测示踪剂浓度变化，从而显示其停留时间。-23-一．教学实验要求1.实验简介1.1实验原理停留时间分布的实验在工业生产上，对某些反应为了控制反应物的合适浓度，以便控制温度、转化率和收率，同时需要使物料在反应器内由足够的停留时间，并具有一定的线速度，而将反应物的一部分物料返回到反

4、应器进口，使其与新鲜的物料混合再进入反应器进行反应。在连续流动的反应器内，不同停留时间的物料之间的混和称为返混。对于这种反应器循环与返混之间的关系，需要通过实验来测定。在连续均相管式循环反应器中，若循环流量等于零，则反应器的返混程度与平推流反应器相近，由于管内流体的速度分布和扩散，会造成较小的返混。若有循环操作，则反应器出口的流体被强制返回反应器入口，也就是返混。返混程度的大小与循环流量有关，通常定义循环比R为：循环比R是连续均相管式循环反应器的重要特征，可自零变至无穷大。当R=0时，相当于平推流管式反应器。当R=∞时，

5、相当于全混流反应器。因此，对于连续均相管式循环反应器，可以通过调节循环比R，得到不同返混程度的反应系统。一般情况下，循环比大于20时，系统的返混特性已经非常接近全混流反应器。返混程度的大小，一般很难直接测定，通常是利用物料停留时间分布的测定来研究。然而测定不同状态的反应器内停留时间分布时，我们可以发现，相同的停留时间分布可以有不同的返混情况，即返混与停留时间分布不存在一一对应的关系，因此不能用停留时间分布的实验测定数据直接表示返混程度，而要借助于反应器数学模型来间接表达。停留时间分布的测定方法有脉冲法，阶跃法等，常用的是

6、脉冲法。当系统达到稳定后，在系统的入口处瞬间注入一定量Q的示踪物料，同时开始在出口流体中检测示踪物料的浓度变化。由停留时间分布密度函数的物理含义，可知-23-所以由此可见与示踪剂浓度成正比。因此，本实验中用水作为连续流动的物料，以饱和作示踪剂，在反应器出口处检测溶液电导值。在一定范围内，浓度与电导值成正比，则可用电导值来表达物料的停留时间变化关系，即，这里，为t时刻的电导值，为无示踪剂时电导值。由实验测定的停留时间分布密度函数，有两个重要的特征值，即平均停留时间和方差，可由实验数据计算得到。若用离散形式表达，并取相同时间

7、间隔则：若用无因次对比时间来表示，即，无因次方差。在测定了一个系统的停留时间分布后，如何来评介其返混程度，则需要用反应器模型来描述，这里我们采用的是多釜串联模型。所谓多釜串联模型是将一个实际反应器中的返混情况作为与若干个全混釜串联时的返混程度等效。这里的若干个全混釜个数n是虚拟值，并不代表反应器个数，n称为模型参数。多釜串联模型假定每个反应器为全混釜，反应器之间无返混，每个全混釜体积相同，则可以推导得到多釜串联反应器的停留时间分布函数关系，并得到无因次方差与模型参数n存在关系为1.2实验目的(1)了解连续均相管式循环反应

8、器的返混特性；(2)分析观察连续均相管式循环反应器的流动特征；(3)研究不同循环比下的返混程度，计算模型参数n。1.3实验内容及要求-23-实验要求控制系统的进口流量15升/小时，采用不同循环比，R=0，5，10，通过测定停留时间的方法，借助多釜串联模型度量不同循环比下系统的返混程度。实验内容用脉冲示踪法测定循环反应