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1、化学镀掺杂纳米SiO2对镀液稳定剂的筛选安远飞1，沈岳军2，徐丽1，聂梦1，张黎1，吴兴韦1，刘定富1*（1、贵州大学化学与化工学院，贵州贵阳550025；2、中国航天科工集团第十研究院贵州航天电器股份有限公司，贵州贵阳550009）（已被《电镀与环保》（ISSN1000-4742，CN31-1507/X）录用。稿号为18-063）摘要：以沉积速率、稳定性、孔隙率和显微硬度为评价指标，研究了碘酸钾和硫酸铜对化学镀掺杂纳米SiO2得到的复合镀层的影响。镀液配方和工艺为：NaH2PO2·H2O30-32g/L，NiSO4·6H2O26-2
2、8g/L，一水合柠檬酸15-20g/L，乳酸10-15ml/L，CH3COONa·3H2O15g/L，表面活性剂A+B=20+40mg/L，纳米SiO21~2g/L，温度(85~88)°C，pH4.6~4.8，时间1h。结果表明：碘酸钾作为稳定剂时的最佳用量为60~80mg/L，硫酸铜作为稳定剂时的最佳用量为20~40mg/L，当20mg/L硫酸铜、80mg/L碘酸钾复配时，兼顾了硫酸铜和碘酸钾单独做该体系的稳定剂时的缺陷，复合镀层硬度高达483.41HV，镀层耐蚀性较好，孔隙率仅为0.76个/cm2。关键词：镍–磷合金；纳米二氧化硅
3、；复合化学镀；碘酸钾；硫酸铜中图分类号：TQ153.2文献标志码：A文章编号：Screeningofelectrolessplating-dopednano-SiO2forbathstabilizer//ANyuan-fei,SHENYue-jun,XU-li,NIEmeng,ZHANGli,Wuxing-wei,LIUDing-fu*.Abstract:Theeffectsofpotassiumiodideandcoppersulfateonthecompositecoatingsobtainedbyelectrolessplati
4、ngdopedwithnanoSiO2werestudiedbytakingdepositionrate,stability,porosityandmicrohardnessasevaluationindexes.Platingsolutionformulaandtheprocessis:theNaH2PO2·H2O30to32g/L,NiSO4·6H2O26-28g/L,andcitricacidmonohydrate15-20g/L,10-15ml/Llacticacid,CH3COONa·3H2O15g/L,surfactant
5、A+B=20+40mg/L,nanoSiO21~2g/L,temperature(85~88°C),pH4.6~4.8,thetimeof1h.Theresultsshowedthatthepotassiumiodateforoptimumdosageofstabilizeris60~80mg/L,thebestdosageofcoppersulfateasastabilizerfor20to40mg/L,when20mg/Lcoppersulfate,potassiumiodate80mg/L,forthecoppersulfate
6、andpotassiumiodatedothedefectsofthesystemstabilizer,compositecoatinghardnessupto483.41HV,coatinghasgoodcorrosionresistance,porosityofonly0.76a/cm2.Keywords:nickel–phosphatealloy;Nanosilica;Compositeelectrolessplating;Potassiumiodate.CoppersulfateFirst-author’saddress:Sc
7、hoolofChemistryandChemicalEngineering,GuizhouUniversity,Guiyang550025,China；ChinaAerospaceScienceandTechnologyResearchInstituteGuizhouSpaceApplianceStockCoLtd，Guiyang550009，China纳米二氧化硅复合化学镀是在Ni–P化学镀的基础上添加纳米SiO2粒子而得到纳米复合镀层，其复合镀层有着高硬度、耐蚀性好等优异的性能，广泛应用于航空、航天、机械、化工设备等行业[1-2]
8、。目前，复合化学镀存在的最主要的问题是纳米粒子加入会造成镀液极不稳定。通常需要在镀液中加入一定量的稳定剂，通过对导致镀液分解的活性结晶核进行掩蔽来阻碍金属离子在活性晶核上的还原，从而提高复合镀液稳定性[3]。化学镀Ni–
