氨基酸水杨醛席夫碱铜配合物合成和其表征

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1、氨基酸水杨醛席夫碱铜配合物的合成及其表征周雨515020910133一、实验目的1、了解氨基酸类、席夫碱类化合物及其重要作用2、掌握制备氨基酸水杨醛席夫碱铜配合物的制备方法，熟悉基本实验操作3、掌握表征该铜配合物的各种现代仪器分析手段的基本原理以及操作流程二、实验原理氨基酸是羧酸链上碳原子的氢被氨基取代之后的化合物，含有氨基和羧基两种官能团，可以根据氨基在碳链上取代的位置分为α-，β-，γ-氨基酸。其中组成蛋白质的大都是α-氨基酸，有20种，除甘氨酸外均是L-α-氨基酸（具有手性）。常用的非手性氨基酸有甘氨酸、

2、β-丙氨酸，这些氨基酸价格低廉因而广泛应用在生化、医药等领域。水杨醛是邻羟基苯甲醛，广泛应用于有机合成中，是一种常见的工业原料。席夫碱主要是指含有亚胺或者甲亚胺官能团的化合物，通常由胺和活性羰基化合物发生缩合反应来制备。席夫碱中的氧原子和氮原子可以与过渡金属形成六元环稳定配合物，其中席夫碱的钴、镍配合物已经作为催化剂在工业上得到应用。同时由于其良好的配位性质，席夫碱可以用于鉴定离子和定量分析离子的含量。本实验通过使用水杨醛与甘氨酸、β-丙氨酸发生缩合反应生成席夫碱类化合物，席夫碱中含有的氮原子和氧原子和加入的金

3、属铜盐形成稳定的六元环配合物。合成的金属有机配合物可以通过多种手段进行表征，其中常用的包括通过红外光谱方法、紫外光谱方法鉴定该配合物中含有的官能团，通过XRD表征合成配合物形成的晶体结构，通过核磁分析确定化合物相关信息等。三、实验仪器和试剂仪器：核磁共振仪，红外光谱仪，X射线衍射仪，250mL圆底烧瓶，搅拌子，搅拌器，干燥器，胶头滴管，量筒，锥形瓶，pH试纸等。试剂：氢氧化钾，β-丙氨酸，醋酸铜，蒸馏水，无水乙醇，无水乙醚，溴化钾，氘代氯仿，水杨醛。试剂均为化学纯级别。四、实验流程1、制备流程配体制备流程：将3

4、.4g(60mmol)氢氧化钾和5.35g(60mmol)β-氨基酸溶于10mL水，加入250mL烧瓶，将7.3g水杨醛溶于40mL无水乙醇，待两者固体完全溶解后，将水杨醛缓慢滴入体系，溶液变成黄色。在85℃情况下加热回流两小时，点板监测水杨醛反应完后，用100mL无水乙醇稀释旋蒸除去溶剂，得到的黄色固体用甲醇重结晶，过滤得到固体并用二氯甲烷等洗涤固体，干燥。配合物制备流程将2.313g(10mmol)配体溶于50mL无水乙醇的250mL烧瓶中，将等当量的一水醋酸铜溶于50mL无水乙醇，并缓慢滴入烧瓶内。随着滴

5、加，溶液的颜色逐渐变成黑绿色。加入完毕后，在85℃情况下回流两小时，除去溶剂后，用少量甲醇重结晶，过滤得到固体并用二氯甲烷等洗涤固体，干燥。1、表征过程核磁表征：取少量配体加入核磁管，并用氘代氯仿溶解后，于400MHz核磁做NMR分析；红外光谱表征：取适量固体用压片法制样，用傅里叶变换红外光谱仪分析；紫外-可见光谱表征：取少量固体溶于DMSO，用紫外光谱分析仪进行分析；XRD表征：使用X射线衍射仪测定所制得样品的相关衍射角度。一、数据分析配体核磁共振氢谱图分析：H1NMR(300MHz;d6-DMSO;s,si

6、nglet;ddoublet;t,triplet;q,quartet;m,multiplet)从核磁共振谱图中可以看出，没有化学位移超过10以上的出峰，说明原料已经反应完全，否则醛基氢、羧酸氢的化学位移均可能大于10。对比标准谱图以及积分比例，可以看出我们的配体确实发生了缩合生成了亚胺，在化学位移8.40左右有亚胺氢，而且芳环部分的峰能够很好地吻合比例。而对于高场低位移部分比例则不大符合，根据和原料的标准谱图对比，发现低场峰是过量的氨基酸的峰。由于氨基酸的极性较大，与生成的配体钾盐的极性相似，因此重结晶过程中可

7、能未能较好地除去，得到的配体并不是很干净。配体/配合物紫外-可见光谱分析：从配体和产物的紫外可见光谱来看，两者的吸收峰位置有明显的不同，这说明配体与铜离子发生了配合。265nm和315nm的吸收峰分别对应π→π*，n→π*跃迁；322nm的吸收峰对应配体和铜离子的荷移跃迁，这说明铜离子的确与配体发生了配位作用。配体/配合物红外光谱分析：配体红外光谱图对配体红外光谱的吸收峰进行归属：3300cm-1-3400cm-1对应配体中苯酚羟基的振动；1640cm-1-1620cm-1对应碳氮双键的伸缩振动；3000cm-

8、1-2900cm-1对应杂质-残留的氨基酸的氨基的振动；1608cm-1对应配体中羧基峰的不对称的伸缩振动；1403cm-1对应配体中羧基的对称的伸缩振动。配合物红外光谱图对配合物红外光谱的吸收峰进行归属：3300cm-1-3400cm-1水中羟基的振动；1620cm-1碳氮双键的伸缩振动，也可以是氮配位到铜离子的证据；3000cm-1-2900cm-1说明产品中有未反应氨基酸的残留；