译文-缺氧和生物接触氧化的组合方法处理印染废水的效果

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1、缺氧和生物接触氧化的组合方法处理印染废水的效果摘要印染废水处理的一项研究是实行采用厌氧和生物接触氧化的组合方法。结果显示酸碱值不断地上升，而且氧化还原电位逐渐地下降，在厌氧反应器的格间1到格间6之间下降。当水力的滞留时间是12小时的时候，色度去除率是92%和厌氧反应器排出的水的颜色可以达到中国的纺织品和染色的工业专业的排放标准(等级-1)。总的过程的COD去除效率是86.6%，而且COD可以达到中国的纺织品和染色工业的专业排放标准(等级-2)。关键词:印染废水，厌氧反应器，生物的接触氧化法，氧化还原电位法大纲1引言2方法2.1系统配置2.2未处

2、理的废水的特性2.3实验的方法3结果和讨论3.1在厌氧反应器的氧化还原电位和酸碱值3.2色度去除3.3COD去除4结论参考文献71引言每个年大量的合成染料被用于印染在全世界被生产，而且一部分的染料与废水一起被排放(罗宾森等人，2001)。还有一些染料，泥浆，印染辅助剂、酸或碱、纤维质和无机化合物在印染废水里。此外，一些染料包含硝酰、胺基和重的金属材料，像铜、铬、锌和砷等等(杨和黄,2002)。成分会因为不同类别的染料，染色处理过程,染料的浓度和设备规模将会被改变(Delee等人,，1998)。因此废水的水质是不稳定的。一般来说，印刷和染色废水是

3、弱碱性的，有很大的流量，高色度浓度,由复杂成分组成，被很重地污染而且难以被生物分解(黄等人,2001)。因此简单生物处理的使用方法很难使其达到排放标准,而物埋化学处理方法需要高操作费用(Pearce等人,2003)。目前，研究人员逐渐地发现新的处理过程,废水首先在缺氧情况之下被分解，然后在需氧的情况被处理(Lourenco等人，2000和Yu等人，2000)。厌氧水解-好氧处理印刷和染色废水已经被认为比传统的方法占优势。因为厌氧水解，水力的滞留时间(HRT)短，而且废水中的非可能降解有机化合物能被转换成可能降解的物质,也就是，废水的降解性能也大

4、大提高。同时地，部分的COD能被去除。考虑许多厌氧微生物的慢成长率，研究的主要目的是高效反应堆的设计必须要有大量的厌氧污泥和很少缺氧微生物的损失的生物反应器。因此剩余的好氧污泥回流被利用增加厌氧污泥的数量。同时，污泥在整个废水处理的过程将保持处于均衡的状态(陈等人，1999)。厌氧的反应器(厌氧反应器)作为一个酸化水解的过程在这个研究中被采用。有一些小的格间在厌氧反应器里，在厌氧反应器中厌氧的酸化水解阶段随着废水的流动可能在每个格间中开始产生。反应器里的水流的类型近似的相当于是单向流动的直流。除这些之外，厌氧反应器有较好的抵抗冲击负载和毒性的优

5、点。它有一些其他的特性，像是容易地启动和没有短流、挤塞和产生回流.(李等人,2001和徐等人，2002)。因此,一个组合的方法,这个组合的方法就是厌氧反应器作为一个水解酸化的过程和生物的接触氧化法作为一个好氧的过程被用于这个研究。2方法2.1系统配置7实验构造结构的概要示意图显示在图1中。一开始的厌氧反应器由六个格间组成的，其前面的五个格间是当做水解酸化箱和第6个格间则是当做沉淀池。每个格间都有二个取样的水龙头在侧面的上侧和它的下面，而且上面的是一个取样废水的水龙头，而下面的那个是用于污泥取样。在每个格间中都设定一个挡板，酸化水解室被分开成为二

6、个部分。一是废水在下面流动的室，而且另一个是废水在上面流动的酸化水解室。在挡板的底部，有一个45°角的引导的挡板。它是用于确定废水在反应器室中能够充分地和污泥混合。厌氧反应器的尺度是441×156×353毫米(l×w×h)，而且生物的接触氧化法的氧化池的尺度是430×150×400毫米(l×w×h)。弹性的填料被填满于生物的接触氧化池中。在厌氧反应器的第六个格间和沉淀池中的污泥被污泥回流泵抽到厌氧反应器的前面进行回流了。图1.实验构造的概要示意图(1.废水池;2.提升抽水机;3.液体流量计;4.酸化水解反应器;5.污泥回流泵;6.生物的接触氧化

7、池;7.沉淀池)。2.2未处理的废水的特性未处理的废水是从中国南京市的一些印染公司排出的印染废水。废水的特性依下列各项:外观的颜色是紫色的;色度为200倍;酸碱值为12.2，COD为1201.7毫克每升和温度为17.8°C。2.3实验的方法未处理的废水的酸碱值先被调整至7.05。后来，废水再被抽水机灌入厌氧反应器中了。废水在厌氧反应器中的停留时间被控制在12小时。之后废水被水解酸化，废水从厌氧反应器中流出进入了生物的接触氧化池中进行好氧的生物处理。最后，混合的液体进入了沉淀池中，而且污泥会在这一个池中被存放。在稳定的情况下，厌氧反应器和生物的接

8、触氧化作用箱中的水样品被收集了。在这些收集的样品中的色度浓度和COD被进行实验测量。同时地，为了要显示废水在生物处理中的反应是稳定的，氧化还原电位(O