基于金属表面等离激元_spp_相干场的分子光刻研究

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1、一,第十四届全国量子光学学术报告会!年∀月#∃%&山东曲阜∋报告摘要集,,()∗+一∃一#,∋国家重大科学研究计划课题−../)0122.−∋教育部博士点基金,。∃!∀3∋国家重点实验室专项科研经费的资助45喃66789:;<=:;<>=ΑΒΧ:ΔΒ:Χ<8≅>=Ε>Φ6≅2Φ:8Γ≅22∗ΔΒΙ>Βϑ<ΓΦ><ΚΔΦ6ΛΗ<.ΜΒΙΔ≅2Ν≅ΒΒΙΔ<8≅Δ≅>,,:>,≅>Φ>:>:−ΟϑΙΠϑΘ8ϑΙΡΝΙ=<ΘΣ5;,;,,,一!Τ<ΜΒ刀ΗΜϑΚ8Ι<8>Θϑ:≅Υ>Ις0<Ι>Θ2∀,ΩΤ<ΜΒ乃ΗΜϑΚ8Ι<8Υ)Α≅>ΤΙ<ΘΦ)Ε113

2、3!1∋+8ΙΙΣ∋Ξ亡Μ<≅=<Β≅Ι2<=8Β:=ΚΦΗΒϑ<Λ≅>=8ΒΧ:ΔΒ:Χ<8ΗΦΧΒϑ<ϑΦ><ΚΔΦ6ΛΦΜΒΙΔ≅22≅ΒΒΙ<<8<Φ>8ΒΧ:<Β<=ΛΚΧΗΦΧ6ΒϑΧ<<ΔΦΜ2≅>≅Χ2≅8<ΧΛ<≅685ΙΒϑΙ>一Μ2≅><2ΙΘϑΒΜΦ2硕Π≅ΒΙΦ>8;+ϑ<ΙΧ0<ΧΚΜϑ≅8<8≅>=<:Χς≅Β:Χ<8Ι>;Φ<>Β:8≅<<<≅Δ:≅Β<,<ς<Χ8<Φ<≅>Φ≅Φ:8<<ΔΦ8666Μ≅Χ<22=5ϑΙϑΘΙΙΒΒϑ62Γ≅22Η<ΒΦΗ2=≅ΒΦ6+ϑ<Ι>ϑΦ6ΦΘ<><Φ:8ΔΦ>ΗΙ>Ι>ΘΜΦΒ<>ΒΙ≅2Ι>=:Δ<8=Ι88ΙΜ

3、≅ΒΙΦ>2<88ΔΙΧ<:2≅ΒΙΦ>≅ΒΦ6Δ:Χ<>Β85ϑΦ8<6≅Θ>ΙΒ:=<8≅>=ΔϑΙΧ≅2ΙΒΙ<8ς≅ΧΚ5ΙΒϑΒϑ<=Ι8Β≅><<ΗΧΦ6Βϑ<Δ<>Β<ΧΦΗΒϑ<ΒΧ≅Μ;)−Φ2!?超快脉冲整形量子相干控制研究,,,孙真荣张诗按张晖王祖赓精密光谱科学与技术国家重点实验室华东师范大学物理系上海,/∋超快脉冲整形量子相干控制技术是目前国际上兴起的前沿热点研究领域,它在光化学反应动力学,非线性光学,强激光控制电离,高次谐波和阿秒脉冲产生以及量子态粒子数布局转移等方面有着非常重要的应用。在报告中,重点介绍我们课题组在超快脉冲整形量子相干控制方面的研究。包ΨΩΩ括

4、2∋分子体系双光子荧光增强和抑制∋原子体系中多激发态选择激发3∋飞秒相干反斯。,托克斯拉曼散射)ΕΖΩ,∋多光子电离光电子能谱窄化以及应用Α∋增强以及选择激发此外简单介绍我们下一步的工作—强场下多光子电离解离通道的超快量子调控。<−Φ−??基于金属表面等离激元ΑΜΜ∋相干场的分子光刻研究尹,,,亚玲李涛徐平祝世宁固体微结构物理国家重点实验室,南京大学物理学院,江苏南京,!13∋利用光场与分子之间的偶极相互作用实现对原子分子的操控,拓展原子分子在纳米新材料的制备方面的应用具有重大的基础研究意义和广泛的应用前景。本文提出一种采用特定设计的金属表面、。激发的表面等离激元Α即∋相干

5、光场为掩模光场实现一维二维分子光刻方案本文详细研究了特殊,Β<。金属微结构表面激发的表面等离激元相干场的强度分布利用ΟΦ>[≅Χ2Φ方法研究了)Γ分子束,!∀月#一,第十四届个国量子光学学术报告会年∃%2山东曲阜∋报告摘要集。,8]在Α即相干场中光刻的动力学过程研究结果表面当中心速度为36∴的)Γ超声分子束飞进峰’−,>6。值光强为!柳∴Δ6的8即相干场中可以得到的分子光刻的刻蚀宽度仅为本文还详细讨论了光刻宽度与光场强度、分子束参数的关系。这说明该方案在实现分子光刻和表面沉积方面,及其在研究分子与金属表面相互方面都具有重要的潜在应用前景。<−Φ3?】原子通过自发衰减激发特异材料板的表面

6、等离子体极化模许静平同济大学物理系∋本工作主要研究了原子在一块均匀特异材料板附近时的自发衰减。研究表明由于特异材料板支持传播模、波导模和表面等离子体极化模Α即∋,初始激发的二能级原子能够与这三类模式藕合而自发衰减。基于表面等离子体极化模的特性,如果原子靠近特异材料板,它将主要通过祸合表面等,也。,离子体极化模而衰减就是说原子激发了表面等离子体极化模另一方面特异材料板所支持的Ψ金,表面等离子体极化模与金属板不同属板只能支持+Ο极化的表面等离子体而特异材料板通过调、节合适的参数介电系数磁导率和厚度∋能选择性支持+∗或+Ο或同时支持+∗和+Ο极化的表面。,,等离子体极化模对此我们进一步的研究表

7、明如果特异材料板只支持+∗极化的表面等离子体极化模,原子通过自发衰减所激发的表面等离子体场将在特异材料板表面主要沿特定方向传播,从而也是一种实现原子自发辐射场定向发射的途径。这种方式结构简单,只需要一维材料板而不需要以,这。往所采用的二维或三维微结构对于降低试验难度效果显著对于特异材料板存在吸收的情况我,上。们也进行了讨论述结论依然有效我们的结果对于利用特异材料制备量子微设备具有有益的参考。该工作

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