新材料投资热点之靶材

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1、新材料投资热点之靶材　　众所周知，在经济规律和现实环境的共同作用下，国内产业转型和升级的脉动越来越强。政府、企业和各路资本都积极热情地投入到这场巨变之中。政府为产业升级提供宏观环境和政策引导，企业在自身条件下寻找着转型的最佳路径，资本则在努力挖掘适合切入点和最具潜力的标的。作为投资者，如何找到发展潜力和市场空间巨大的行业，如何选择代表着未来趋势、具有颠覆特性的产品，是确定投资策略和项目选择的首要前提。我们在进行选择定位时必须考虑政策导向，国家提出的七大新兴产业为我们提供了一个相对明确和理想的选择范围，其中每一个行业及其细分领域都值得我们认真揣

2、摩。七大新兴产业中的新材料产业是各个经济部门的基础性产业，涵盖范围最广，涉及产品繁多，这也预示其中蕴藏着众多的机会，给投资人提供了极大的想象空间，值得我们加以逐个认知、理解和预判。　　今天我们选择新材料产业中的靶材进行分析。靶材虽然不为普通人所熟悉，但是却频繁地出现在多个相关的国家级产业规划中。就目前来看，靶材的确是我国材料领域中的一个明显的瓶颈，比如大尺寸钨钼靶材，其应用领域是极具战略意义的显示、光伏和半导体行业，我国是钨钼资源大国，但该产品却始终为欧美企业垄断，如若国内企业能够成功量产，其产品的未来发展和潜在价值可想而知。下面我们就靶材进

3、行具体分析：　　靶材介绍　　靶材是什么？靶材主要指在溅射沉积技术中用做阴极的材料，因此靶材也常被称作溅射靶材。该阴极材料在带正电荷的阳离子撞击下以分子、原子或离子的形式脱离阴极而在阳极表面重新沉积。　　溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。

4、　　靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。　　根据形状分为长靶、方靶、圆靶；根据成分可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材；根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等。　　《国务院关于加快培育和发展战略性新兴产业的决定》中明确了七大战略性新兴产业，其中新材料产业需要大力发展稀土功能材料、高性能膜材料、特种玻璃、功能陶瓷、半导体照明材料等新型功能材料。之后

5、发布的《新材料产业“十二五”发展规划》中提出积极发展高纯稀有金属及靶材，并将其作为稀有金属材料列为重点发展方向。　　与此对应的《新材料产业“十二五”重点产品目录》则将靶材具体描述为包括超大尺寸高纯铝、铜、铬、钼溅射靶材；高纯铜合金、镍合金和钼溅射靶材；高纯钼及其靶材。我们发现靶材产品频繁地出现在国家产业规划中，尤其是大尺寸、高纯度的钼靶材。靶材产品种类比较多，但工艺和市场具有相似特征，下面我们就以钼靶材为例子来介绍靶材行业的现状、趋势和机会。　　靶材投资机会　　钼靶材是钼行业的高端产品，广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃

6、、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统，已经成为平面液晶显示器和光伏衬底镀膜核心原料之一，是一种具有广阔市场前景的新兴钼产品。钼靶材的密度大、纯度高、组织均匀，且生产工序长，具有很高的技术含量，因而该产品基本被普兰西、H.C斯泰科、贺利氏、日立金属等国际巨头垄断，国内能够成为平面液晶显示器制造商合格供应商的钼靶材企业仅有高新四丰和苏晶两家。由于其应用领域特殊而且有较高的技术门槛，因此成为国家重点鼓励发展的方向之一。　　工艺及经营　　钼靶材的生产使用粉末冶金技术。与目前大多数金属与合金都采用模具内熔化和铸造的方法相反，粉末冶金术摒弃了

7、熔化操作，其做法是先挤压金属粉末，然后在低于材料熔化温度的条件下进行热处理（烧结）并制得产品。粉末冶金术中最重要的因素是金属粉末本身、挤压工艺和烧结工艺和成型工艺。该工艺主要用于生产熔点为2000℃及以上的材料。该工艺特别经济实惠，即使生产少量产品也不例外。除此之外，通过使用定制的粉末混合物，能够生产一系列非常均匀的材料，并赋予其某些特殊性质。　　在产品生产时，先将钼粉末与合金元素混合以后填入模具内，然后用高达2000巴的压力挤压混合物。接着在专用的高温炉内对压制成形的零件进行烧结，最后再经过锻造、轧制或拉伸等成型工序，就能够保证制品形成致密

8、的微观结构，并且材料具有出色的热稳定性、硬度或流动性。产品生产过程的核心环节是对钼胚的烧结和加热轧制部分。　　在钼靶产品中，钼粉占据主要成本，约占产品成本的85%左