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1、------------------------------------------------------------------------------------------------激光诱导普通玻璃表面局域液相化学沉积铜的研究5激光杂志62002年第23卷第3期LASERJOURNAL(Vol.23.No.3.2002)51刘立兵赵毅李明辉(国家模具CAD工程研究中心,上海交通大学,上海200030)提要:利用CO2激光(K=10.6Lm)作为诱导光源,普通玻璃作为衬底,研究了影响激光沉积质量和速率的因素,探讨了激光诱导液相化学沉
2、积技术的反应机制,反应产物及其沉积模型等。采用光学显微镜对其沉积过程和沉积铜的微观形貌进行了观察。结果表明:激光诱导液相化学沉积技术能沉积出表面平整,颗粒大小均匀、规则,分布致密的铜镀层,且沉积速率比起普通化学镀也要高出几个数量级。关键词:CO2激光器,激光诱导,玻璃,化学沉积,液相,铜Laser-inducedselectivedepositionofcopperoncommonglassfromsolutionLiuLibingZhaoYiLiMinghui(NationalDie&MoldCADEngineeringResea
3、rchCenter,ShanghaiJiaotongUniversity,Shanghai200030)Abstract:Inthispaper,asealedCO2laser(K=10.6Lm)beamwasfocusedonaco——————————————————————————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------mmonglasssurfacethroug
4、hal-mm-thicksolu-tionlayer.Theinfluencefactorsoflaserdepositionqualityandratearestudied,andthereactionprinciples,possiblereactionproductsanddepositionmodelsoflaser-inducedchemicalliquiddepositionarediscussed.Thecourseofdepositionandmicrographofdepositcopperarecharacterized
5、byopticalmicroscope.Theresultsshowthatagooddepositionlayercanbedepositedbylaser-inducedchemicalliquiddepo-sition(LCLD),suchasthesmoothsurface,theregularshapeandsize,theevenandcompactdistribution,andamuchhigherdepositionrate,etc.Keywords:CO2laser,laser-induced,glass,chemica
6、ldeposition,liquid,copper1引言激光诱导化学沉积技术,就是利用激光的热效应或光效应来增强或激发电镀或化学镀过程,从而在金属、半导体或绝缘体基体上不用掩模而实现微区金属镀覆的新技术。1978年,IBM公司112首次研究了Ar+激光增强Ni、Au、Cu的电沉积过程以来,此后这项研究不断引起人们的兴趣和重视,美、德、日本等国相继进12~52行了研究,发表了不少专利,部分甚至已转化为实用生产技术。我国在这方面也开展了一些研究工作16~82。微尺寸金属化无论在基础研究还是在微电子工业中都是一个很热的课题。激光诱导化学沉积技术在
7、薄膜制备、电子学、包装业(微电子)、集成电路的定制和修复等领域中具有着广阔的应用情景。八十年代在制造业领域出现了一种全——————————————————————————————————————------------------------------------------------------------------------------------------------新的数字化制造技术)))快速成型技术192(RapidPrototyping,即RP),其基本特征是分层成型,逐层叠加。它能实现自动、直接、快速、精确地将设计思
8、想转变为具有一定功能的原型或直接制成工件,提高设计制造的成品率,降低产品开发成本,实现了制造领域的一次重大技术突破。由于其加工方法独特,RP出现后不久就有人研究用之于三维复杂结构
