二元光学元件的光刻技术研究

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1、二元光学元件元件的光刻技术研究STUDYOFPHOTOLITHOGRAPHYTECNOLOGYOFMASKOFBINARYOPTICALELEMENT摘要　本文叙述了二元光学元件多掩模光刻技术的基本原理，并在对光刻中曝光和显影模型分析理解的基础上，结合多台阶相位图对称衍射光学元件的特点，设计了八相位校正板的光刻制作掩模，研究并讨论了器件制作工艺过程中光致抗蚀剂及涂布、曝光的方式、显影过程等各主要技术环节的条件和影响制作效果的主要相关因素。通过对八相位校正板光刻掩模的设计，利用ZEMAX得出设计结果，采用蚀刻的办

2、法把在光刻胶上形成的面形可靠地转移到所需基底材料表面，分析了工艺流程中各主要技术环节的条件和影响制作效果的相关因素，如对准标记方法的设计等，使八相位校正板的光刻线宽达到微米级，并通过对准标记来提高器件制作精度。文中同时就八相位校正位校正板的制作，从二元器件的衍射效率的角度等方面，对二元光学元件的制作误差进行了相应的分析。关键词：二元光学元件光刻图形转移ABSTRACTThepapernarratesthebasicprincipleofBinaryOpticalElement(BOE)multi-masklas

3、erscoretechnology.Baseonthecomprehensionoftheanalysisaboutmodelofexposureanddevelopinlaserscore,andthefeatureofmulti-stepsymmetricdiffraction,designthelaserscorefabricationmaskabouteightphaseopticalelement.Wedesigntheeightphasemask,usetheZEMAXandadopttheecli

4、pseengravemethodtomakethelightengraveofthesurfacewhichformedonthelightengravegluecredibletransfertothesurfaceoftheneededbasematerialandanalysestheconditioninthetechnicalmasteroperationandfactorswhichinfluencetheeffectofproducingEspecially,forexample,todesign

5、alignmentmarketc,sothelinewidegettothemicrometer.Studyanddiscusstheprocessofopticalelementfabrication,photoresist,printthewayofexposureandtheprocessofdevelopetc.Fromthepointofviewoftheinfluencefabricationeffect.Wealsoanalyzetheerroroffabrication.Keywords:Bin

6、aryOpticalElement,Photolithography,Imagetransfer目录第一章绪论1.1研究的背景及意义......................................11.2光刻技术的发展概况....................................11.3论文研究的目的和内容..................................3第二章二元光学元件基本原理及其应用.........................42.1二元光学元件的基本原

7、理................................42.2二元光学元件的应用....................................6第三章二元光学元件的光刻制作................................73.1二元光学元件的光刻制作方法............................73.1.1台阶刻蚀法.....................................73.1.2薄膜沉积法.........................

8、...........93.1.3激光直写法....................................103.1.4准分子激光加工法..............................103.1.5灰阶掩膜法......................................113.2光致抗蚀剂...............................