mems麦克风技术和专利侵权风险分析

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时间:2018-07-25

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1、MEMS麦克风技术和专利侵权风险分析市场不断增长,领导者遭受挑战:专利战可以启动 现在是时候开打MEMS麦克风专利战未来几年,MEMS麦克风将始终保持MEMS领域最快的增长势头。根据Yole报告显示,全球MEMS麦克风市场将从2013年的7.85亿美元增长到2019年的16.5亿美元;出货量将从2013年的24亿颗增长到2019年的66亿颗。因此,对新进厂商而言,MEMS麦克风市场充满机遇。楼氏电子(Knowles)是全球MEMS麦克风市场的领导者,2013年市场份额为61%,2014年市场份额下

2、降为58%。由于未来几年新的挑战者加入,如意法半导体(STMicroelectronics)/欧姆龙(OMRON)、瑞声科技(AACTechnologies)和歌尔声学(Goertek)/英飞凌科技(InfineonTechnologies)、应美盛(InvenSense)/亚德诺半导体(AnalogDevices)和多家中国初创企业(芯奥微、敏芯),所以楼氏电子的市场份额将继续下滑。MEMS麦克风厂商们都在研发创新的技术和制造解决方案,并及时申请专利来保护自己的发明。 苹果iPhone6中的ME

3、MS麦克风在一项专利侵权诉讼中,潜在销售量在评估赔偿时扮演了重要角色。因此,本报告将重点放在市场领导者和挑战者的最新MEMS麦克风产品上,如楼氏电子(S1157,iPhone5S/6)、意法半导体/欧姆龙(MP45DT01)、瑞声科技/英飞凌(SR595,iPhone5S/6)、应美盛/亚德诺(ICS-43432)。 各家厂商的MEMS麦克风工艺和设计 各家厂商的MEMS麦克风封装技术这引发了一个有意思的问题:从器件层面来看,这些厂商在技术和制造上的选择有哪些相似和差异之处?相关专利的情况又是如何

4、?为了解决这个问题,Knowmade(一家专门从事专利分析的公司)联合SystemPlusConsulting(一家专门从事反向工程和成本分析的公司),进行MEMS麦克风技术和专利侵权风险分析,利用他们独一无二的经验,结合技术和制造分析以及对专利权利要求的理解,来详细讲解楼氏电子、意法半导体/欧姆龙、瑞声声学/英飞凌科技、应美盛/亚德诺之间的专利侵权风险。随着MEMS麦克风市场的快速增长,竞争加剧,是时候来了解这些MEMS麦克风厂商之间将会发生什么“故事”。同时,新进厂商也可以学习本报告以避开专利

5、战。本报告对各厂商的MEMS麦克风展开技术和制造工艺分析,并给出这些产品的技术相似处和差异点。产品和专利之间的联系本报告选出一些产品特性(主要和MEMS麦克风芯片相关)来进行专利研究:*工艺:膜结构、防粘块(Anti-StickingBumps)。*设计:声孔形状和分布、声能转换器数量和形状、应力消除。*封装:端口结构、金属/PCB外壳、内嵌电容、射频保护。四款MEMS麦克风产品特性及专利分析本报告确定了楼氏电子、意法半导体/欧姆龙、瑞声科技/英飞凌、应美盛/亚诺德持有的关键专利及其相关的技术特性

6、,并建立起专利技术和目标产品之间的联系。 MEMS麦克风技术和专利对比分析强调专利侵权风险本报告将专利内容与市场上销售的目标产品实际使用的技术方案进行对比分析,如楼氏电子(S1157)、意法半导体/欧姆龙(MP45DT01)、瑞声科技/英飞凌(SR595)、应美盛/亚德诺(ICS-43432),以确定潜在的侵权方。通过专利权利要求和目标产品特性的对比,本报告提供潜在的专利侵权风险讨论。 MEMS麦克风专利侵权风险:防粘块(Anti-StickingBumps) MEMS麦克风专利侵权风险:应力消除

7、 MEMS麦克风专利侵权风险:声孔形状和分布实用的专利数据库本报告还包括一个Excel数据库,其中含有报告中使用的所有专利(由650多个专利组成的240多个专利族),并允许进行多条件检索,包括专利公开数量、超链接(原始文件)、优先日期、标题、摘要、专利申请人、技术领域和同族专利中每个专利的法律状态。 MEMS麦克风专利数据库报告目录:Introduction•ScopeofTheStudy•RationalesforChoice•KeyFeaturesoftheReport•Objectiveof

8、theReport•MEMSMicrophoneMarketSupplyChain•TerminologyforPatentAnalysis•MethodologyProductPresentationExecutiveSummaryTeardown:TechnologyComparison•PhysicalAnalysisMethodology•MEMSMicrophoneProcess&Design•MEMSMicrophonePackagingPatentAnalysis:R

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