材料现代分析技术

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1、填空题(每空1分)1.当X射线管电压超过临界电压就可以产生连续谱X射线和特征谱X射线。2.点阵常数测定过程中需要确定峰位，确定峰位的常用方法有峰顶法、切线法、半高宽法，和抛物线拟合法。3.经过厚度为H的物质后，X射线的强度为。4.X射线扫描仪中的常规测量中的实验参数包括狭缝宽度、扫描速度和时间常数。5.磁透镜的物距L1，相距L2和焦距f三者之间的关系为。6.透射电镜样品制备各方法主要有复型法、和薄膜法，其中复型样品制备中塑料-碳二的复型优于碳一的复型是由于其制备过程不损坏金相试样表面，重复性好，供观察的第二级复型一碳膜导电导热性好，在电子束照射下较为稳定。7.差热分析曲线总的峰高表示

2、试样和参比物之间的最大温差，即从封顶到该峰所在基线碱的垂直距离。8.第一类应力导致X射线衍射线位移，第二类应力导致X射线衍射线线形变化，第三类应力导致X射线衍射线强度降低。9.红外光谱法定量分析的具体方法主要有标准法、吸光度比法和补偿法共同组成。10.单晶体电子衍射花样是规则的衍射斑点组成。11.大量实验证明，X射线具有波动性和微粒性的双重性，即波粒二象性。12.布拉格方程式衍射分析中最基本的公式，其应用主要集中在结构分析和X射线谱分析两个方面。13.由于X射线的发展，相继产生了X射线透射学、X射线衍射学和X射线光谱学等三个学科。14.提高透镜分辨率的本领波长，介质和孔径半角。15.

3、电磁透镜的几何像差包括球差和像散，而电子束波长的稳定性决定的像差为色差。16.透射电镜主要有电子光学系统、电源控制系统和真空系统构成。17.非弹性散射机制主要有单电子激发、等离子激发、和声子激发。18.透射电镜的主要性能指标分辨率、放大倍数、和加速电压。19.热分析测试过程中，粉体试样中粉体粒度与粉体堆积密度对热分析结果影响较大。20.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是X射线衍射学。21.M层电子回迁到K层后，多余的能量放出的特征X射线称Kβ。22.X射线衍射中，只有晶面间距大于波长的一半的晶面才能产生衍射。23.布拉格方程解决了X射线衍射方向问题，即满足布拉格方程的晶面将参与衍射

4、，但能否产生衍射花样还取决于衍射强度。24.电子对X射线散射分为两种情况，一种是受原子核束缚较紧的电子，X射线作用后，该电子发生振动，向空间辐射与入射波频率相同的电磁波，由于波长、频率相同，会发生相干散射和另一种X射线作用在束缚电子上，产生康普顿效应---非相干散射，产生背底。25.X射线线扫描仪中的扫描方式主要有光栅扫描和角光栅扫描。26.根据量子力学计算，L壳层的能级实际上是由3个子能级构成,M壳层的能级由5个能级构成,N层由7个子能级构成。27.劳厄方程是确定X射线衍射方向的基本方程，常用与晶体取向测定和晶体对称性的研究。28.影响多晶体衍射强度的其他因数主要有多重因数P、吸收

5、因子A(θ)和温度因子e-2M。29.X射线定量分析的方法有外标法和内标法两大类。30.有一体心立方晶体的晶格常数是0.286nm，用铁靶Kα（λKα=0.194nm）照射该晶体能产生四条衍射线。31.电子显微分析方法以材料微区形貌、晶体结构和化学组成为基本目的。三.名词解释1.非相干散射：当χ射线经束缚力不大的电子或自由电子散射后，可以得到波长比入射χ射线长的χ射线，且波长随散射方向不同而改变，这种散射现象称为非相干散射。2.结构消光：当阵点不是一个单原子，而是一个原子集团时基元内原子散射波间相互干涉也可能会导致消光，此外布拉菲点阵通过套构后形成的复式点阵，出现了布拉菲点阵本身没有

6、的消光规律，称这种复加的消光为结构消光。3.物相的定性分析：指确定材料有哪些相组成的分析过程。4.特征X射线：在连续谱的某些特定位置上出现一系列强度和高，波长很窄的线，称为特征X射线。或特征X射线是原子的内层电子受到激发以后，在能级跃迁过程中直接释放的具有特征能量和波长的一种电磁波辐射。5.光阑：光具组件中光学元件的边缘，框架或特别设置的带孔屏障成为光阑是为挡掉发散电子，保证电子束的相干性和电子束照射所选区域而设计的带孔小片。6.蓝移效应：当有机化合物的结构发生变化时，其吸收带的最大吸收峰波长或位置（l最大）向短波方向移动，这种现象称为蓝移（或紫移，或“向蓝”）7.拉曼位移：指入射线

7、光子与分子发生非弹性碰撞作用，在光子运动方向改变的同时有能量增加或损失的散射。8.相干散射：当χ射线通过物质时，物质原子的电子在电磁场的作用下将产生受迫振动，受迫振动产生交变电磁场，其频率与入射线的频率相同，这种由于散射线与入射线的波长和频率一致，位相固定，在相同方向上各散射波符合相干条件，故称为相干散射。9.干涉指数：虚拟晶面（HKL）为干涉面，（HKL）为干涉面指数，简称干涉指数。10.DTA曲线峰宽：差热曲线偏离基线的始点与返回基线的终点间的距离。1