我国类金刚石薄膜主要制备技术及研究现状

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1、洛阳理工学院毕业设计（论文）我国类金刚石薄膜主要制备技术及研究现状摘要类金刚石薄膜具有优良的光学、机械和电特性在军事领域有广泛用途，类金刚石薄膜技术，是指利用各种光学薄膜制作技术制作接近天然金刚石和人造单晶金刚石特性（如在较宽光谱内均具有很高的光透过率在2～15μm（微米）范围光的吸收率低到1％；具有很高的硬度、良好的导热性、耐腐蚀性以及化学稳定性高(1000℃以上仍保持其化学稳定性等）的人造多晶金刚石薄膜、类金刚石薄膜（又称为硬碳膜、离子碳膜、或透明碳膜）的一种技术。由于类金刚石结构、性能存在一些缺陷，所以对此作了研究。本文着重对类金刚石薄膜制备技术进行阐述，同时论

2、述了发展潜力。由于类金刚石薄膜的优越性，所以我国要加大这方面发展。关键词：类金刚石薄膜，化学气相沉积法，物理沉积法，金刚石0洛阳理工学院毕业设计（论文）TheMainPreparationTechniquesandResearchStatusoftheDLCFilminChinaABSTRACTDLCfilmswithexcellentoptical,mechanicalandelectricalcharacteristicshaveawiderangeofapplicationsinthemilitaryfield.DLCthinfilmtechnology,ref

3、erstotheuseofavarietyofopticalthinfilmproductiontechnologymadeclosetothenaturaldiamondandsyntheticsinglecrystaldiamondcharacteristics(suchaswithhighlighttransmittanceinthewidespectrum-intherangeof2~15μm(microns)lowabsorptionoflightto1%;hashighhardnessandgoodthermalconductivity,corrosion

4、resistanceandhighchemicalstability-1000°C(degreesCelsius)abovemaintaineditschemicalstability,etc.),artificialpolycrystallinediamondfilmsDLCfilms(alsoknownasthehardcarbonfilm,ioncarbonfilm,oratransparentcarbonfilm),atechnology.DLCstructure,theperformancehassomeshortcomings,havebeeninvest

5、igated.FocusontheDLCfilmpreparationtechniqueisdescribed,anddiscussesthepotentialfordevelopment.BecauseofthesuperioritytheDLCfilms,sochinashouldstepupdevelopmentinthisfield.KEYWORDS:DLCfilm，preparationtechniques，CVD0洛阳理工学院毕业设计（论文）目　录前　言1第1章类金刚石薄膜概述21.1类金刚石薄膜介绍21.1.1类金刚石薄膜发展介绍21.1.2类金刚石薄膜

6、微观结构与其性质31.1.3类金刚石薄膜分类5第2章类金刚石薄膜制备技术62.1化学气相沉积法62.1.1热丝CVD法62.1.2等离子体CVD法72.1.3离子束蒸镀法72.1.4光、激光CVD法72.2激光法制备DLC膜的发展趋势82.2.1激光脉冲宽度由纳秒脉冲向超短脉冲发展92.2.2沉积环境由真空向氢气氛或氧气氛发展102.2.3薄膜成分由纯DLC膜向掺杂DLC膜发展112.2.4激光源由单一激光向多束激光发展11第3章类金刚石薄膜研究123.1实验研究123.1.1实验装置133.1.2实验过程153.1.3实验结论15第4章类金刚石薄膜应用以及展望164

7、.1类金刚石薄膜应用164.2类金刚石薄膜应用展望174.2.1类金刚石薄膜在牙科方面研究展望180洛阳理工学院毕业设计（论文）4.2.2类金刚石薄膜在其他方面应用展望18结　论19谢辞20参考文献21附　录22外文资料翻译230洛阳理工学院毕业设计（论文）前　言类金刚石薄膜主要采用低压化学气相沉积(CVD)技术制备。低压CVD技术包括热丝CVD法、等离子体CVD法、离子束蒸镀法、光/激光CVD法附加活性氢激光CVD法等。目前用CVD法制作金刚石薄膜已取得丰硕成果，但作为红外光学薄膜应用还需进一步解决金刚石薄膜对红外光学材料的粘着性和光散射的问题。C