植珠法反光布加工技术

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1、植珠法反光布加工技术中国纺织科学研究院于范芹【摘要】介绍了回归反射织物的用途，对植珠法反光布的加工工艺流程、结构和影响产品性能的加工工艺影响因素作了重点分析和讨论。【关键词】回归反射织物植珠法影响加工工艺的因素0.前言：反光布作为安全功能性产品已广泛应用于交通、环卫、公安等特殊行业户外工作人员夜间作业的工作装。当其穿着和携带反光材料的人员在夜间工作或行走时，由于其回归反射的功能使驾驶员在远距离即可发现目标，从而避免事故的发生。对于普通百姓来说均有不同程度的夜间活动的时间，因此在其服装、鞋帽、包、雨具等加上反光布，可以提高自身的安全性。反光布提高安全性的程度以其反光强度衡量，反

2、光强度越高，醒目效果越好，驾驶员发现目标的距离越远。因此，采用何种加工技术加工出反光强度高并满足穿着要求的反光布成为研究人员关注的问题，目前，反光布的制作方法有三种：涂珠法、植珠法、转移法。不同的方法有不同的加工路线及不同的化工原材料，其反光布的反光强度、手感、表观效果等有不同程度的差异。作为服装服饰用的安全功能性反光布除了要求具有较高的反光强度外，还必须保证穿着的要求如耐洗、耐磨、防水等。本文就植珠法反光布加工工艺技术作较详尽的讨论。1.加工工艺：1.1工艺流程：植珠加工法是利用高压电产生强电场，使玻璃微珠带电而吸附于织物上的静电植珠方法：或将玻璃微珠均匀撒在涂有粘合剂的织

3、物上的撒珠法；或通过玻璃微珠槽的粘珠法。工艺流程：基布→前处理→施加反射层→涂粘合剂→植珠→后处理。1.2植珠法反光布结构：其结构示意图如图1-(a)、(b)所示：植珠法反光布的表面和横断扫描电镜照片如图2所示：图1结构示意图图2扫描电镜照片2.加工影响因素分析：2.1基布的选择及其前处理的研究：2.1.1基布的种类、规格及其制成的反光布的性能。根据市场对反光布基布的使用要求，选用了纤维种类不同、纱支粗细不同，密度不同的三种织物作为基布进行了实验。基布的名称、规格及其布面风格列于表1中。表1不同基布的规格、风格比较基布编号基布名称密度(根/10cm)厚度(丝)重量g/100c

4、m2纱支数s或d布面风格经纬经纬1高密涤纶塔夫绸43629880.6468d68d布面紧密光洁平整2涤棉油平布470294191.0345s45s布面密致有纤维毛3纯棉262218261.320s20s纱支中平布较粗孔较大布纹明显有纤维毛织物是由经、纬纱线交织而成的，它们不可能象塑料膜那样平滑、无孔、即使像用化纤长丝制造的高密塔夫绸这种又紧密又平滑的织物，也存在有布孔和凹凸不平的问题，只不过是凹凸不平的程度较小而已。因此，基布处理使原有基布的经纬交织的凹凸、布孔以及伸出织物表面的纤维毛减小或减少，提高布面的平滑度。从而减少漫反射提高产品的反光强度、同时增加基材与后续材料的粘接

5、性；此外，经过处理的织物还可以有效地防止涂层加工中的渗漏浆液现象，使基布与反射层的粘合性能得到改善，成品的耐摩擦及耐洗涤性能大大提高。不同基布采用不同的处理工艺(0-未处理、A、B、C、D)，其制作的反光布性能结果见表2。从表2可以看出：(1)经处理后的基布制作的反光布，外观均匀、细腻，疵点少，微珠呈现水平排布；反光布上反光膜层的成膜性和坚牢度增强了，微珠耐洗牢度提高了，皮膜与基布的抗剥离性解决了，对表面粗糙的基布制作的反光布明显提高了Ｒ’值。表2基布处理对制作的反光布性能的影响实验编号基布编号工艺编号反光布性能厚度重量R’外观洗涤10次R10’R保留%剥离11015.52.

6、119194均17389剥离匀21A16.32.830205均匀17786未剥离31B17.52.544195均匀197101剥离41C15.82.356192均匀17591剥离51D17.52.544191均匀193102剥离62024.22.836190雪花点17592未剥离72A27.33.130180均匀185103未剥离82B26.03.112188均匀17794未剥离92C22.82.800199均匀18894未剥离102D24.32.980193均匀18495未剥离113029.13.208198雪花点18392未剥离123A30.13.182185均匀1196

7、4未剥离133B31.63.480207均匀18991未剥离143C27.53.176204均匀18993未剥离153D29.53.396204均匀19797未剥离注：反光强度R’单位：cd/Lx/m?２，其他单位同表1；R10?，：表示样品洗涤10次以后的反光强度值。(2)1号基布经过前处理后制作的反光布，除了表现在外观的改善方面外，主要是经过A工艺处理以后，解决了成品的耐洗涤剥离性能。2.2反射体的设置2.2.1反射体的选择玻璃微珠背面设置反射体，目的在于将经过微珠折射后的入射光，尽可能多地通过反射