光伏材料毕业论文

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1、江西太阳能科技职业学院课程设计题目：硅片清洗工艺的原理和现状专业：光伏材料加工与应用技术班级：11级光伏材料（3）班院　系：光伏材料系指导教师：日期：2013年10月07日2半导体硅片清洗工艺的发展研究【摘要】随着大规模集成电路的发展，集成度的不断提高，线宽的不断减小，对硅片的质量要求也越来越高，特别是对硅抛光片的表面质量要求越来越严。在硅晶体管和集成电路生产中，几乎每道工序都有硅片清洗的问题，硅片清洗的好坏对器件性能有严重的影响，处理不当，可能使全部硅片报废，做不出晶体管来，或者制造出来的器件性能低劣，稳定性和可靠性很差。因此弄清楚硅片清洗的方法，不管是对于从事硅

2、片加工的人，还是对于从事半导体器件生产的人来说都有着重要的意义。本文对硅片清洗的基本理论、常用工艺方法和技术进行了详细的论述，同时对一些常用的清洗方法做出了浅析，并对硅片清洗的重要性和发展前景作了简单论述。最后介绍了清洗工艺的最新进展。关键词:硅片;清洗;工艺；最新发展。2目录第1章硅片清洗工艺的原理41.1硅片清洗工艺的背景和意义41.2硅片清洗工艺的组要作用...............................................................................................41.3硅片污染物

3、杂质的分类.....................................................................................................41.4硅片清洗的原理及工艺....................................................................................................4第二章硅片清洗工艺的现状.....................................................

4、...................................................82.1硅片清洗工艺的现状的背景和意义..............................................................................82.2硅片清洗工艺的发展.........................................................................................................92.3硅片清洗工艺的最新发展.....

5、...........................................................................................9第三章结束语..............................................................................................................................1012第1章硅片清洗工艺的原理1.1硅片清洗工艺的背景和意义硅片的清洗很重要，它影响电池的转换效率，如器件的性能中反向电流

6、迅速加大及器件失效等。因此硅片的清洗很重要，下面主要介绍清洗的作用和清洗的原理。1.2硅片清洗工艺的主要作用1.在太阳能材料制备过程中，在硅表面涂有一层具有良好性能的减反射薄膜，有害的杂质离子进入二氧化硅层，会降低绝缘性能，清洗后绝缘性能会更好。　　2.在等离子边缘腐蚀中，如果有油污、水气、灰尘和其它杂质存在，会影响器件的质量，清洗后质量大大提高。　　3.硅片中杂质离子会影响P-N结的性能，引起P-N结的击穿电压降低和表面漏电，影响P-N结的性能。4.在硅片外延工艺中，杂质的存在会影响硅片的电阻率不稳定。1.3硅片污染物杂质的分类根据污染物产生的原因，大致可将它们分

7、为颗粒、有机物杂质、金属污染物三类。１）颗粒：主要是一些聚合物、光致抗蚀剂等。颗粒的存在会造成ＩＣ芯片短路或大大降低芯片的测试性能。２）有机物杂质：它在硅片上以多种方式存在，如人的皮肤油脂、防锈油、润滑油、松香、蜡等。这些物质通常都会对加工进程带来不良影响。３）金属污染物：它在硅片上以范德华引力、共价键以及电子转移等三种表面形式存在。这种玷污会破坏极薄的氧化层的完整性，增加漏电流密度，影响ＭＯＳ器件的稳定性，结果导致形成微结构缺陷或雾状缺陷。1.4硅片清洗的原理及工艺目前最常用的清洗方法有：化学清洗法、超声清洗法和真空高温处理法。121）化学清洗是指利用各种化学