毕业论文(设计)半导体激光器系统滤光片的设计与制备

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1、长春理工大学本科毕业设计毕业设计(论文)原创承诺书1.本人承诺:所呈交的毕业设计(论文)《半导体激光器系统滤光片的设计与制备》,是认真学习理解学校的《长春理工大学本科毕业设计(论文)工作条例》后,在教师的指导下,保质保量独立地完成了任务书中规定的内容,不弄虚作假,不抄袭别人的工作内容。2.本人在毕业设计(论文)中引用他人的观点和研究成果,均在文中加以注释或以参考文献形式列出,对本文的研究工作做出重要贡献的个人和集体均已在文中注明。3.在毕业设计(论文)中对侵犯任何方面知识产权的行为,由本人承担相应的法律责任。4.本人完全了解学校关于保存、使用毕业设计(论文)

2、的规定,即:按照学校要求提交论文和相关材料的印刷本和电子版本;同意学校保留毕业设计(论文)的复印件和电子版本,允许被查阅和借阅;学校可以采用影印、缩印或其他复制手段保存毕业设计(论文),可以公布其中的全部或部分内容。以上承诺的法律结果将完全由本人承担!作者签名:年月日长春理工大学本科毕业设计摘要光学薄膜作为现代光学的一个重要分支,已经被广泛应用于天文、红外物理学、激光技术等领域。本论文研究半导体激光器系统中以K9光学玻璃为基底,实现在808nm处反射率R>99%,以及在1064nm处透射率T>95%的长波通滤光片设计与制备。首先,根据课题要求选择几种适合的膜

3、系材料,在所选膜料的基础上进行膜系设计,并将不同方案进行分析比较,选择最优的方案进行实验操作,并针对实验结果对镀膜工艺的几种主要影响因素进行了简要分析。最后使用Ti3O5和SiO2材料设计并制备了滤光片,达到了预期目标,最后对制备的薄膜进行了误差分析并给出了实验结果。关键词:长波通滤光片膜系设计光学薄膜AbstractOpticalthinfilm,asanimportantbranchofmodernoptics,hasbeenwidelyusedI长春理工大学本科毕业设计inthefieldofastronomy,infraredphysics,lase

4、rtechnology.ThisthesisresearchdesignandpreparationoflongwavefilterbasedonK9opticalglassasthesubstrateofthesemiconductorlasersystem,whichcanrealizeinthereflectivityat808nmR>99%,andthetransmittanceat1064nmT>95%.Firstofall,selectasuitablefilmmaterialsaccordingtotherequirementsofthesub

5、ject,designthefilmsystembasedontheselectedfilmmaterial.Analyzeandcomparedifferentschemes,choosethebestschemeandexperiment,andanalyzesomemainfactorsofinfluenceonthecoatingprocess,accordingtotheexperimentalresults.FinallydesignandpreparethefilterfilmsystemusingthematerialsTi3O5andSiO

6、2,itbasicallymeetsherequirementsandachievestheexpectedgoals.Intheend,analyzetheerrorofthepreparedfilmandtheexperimentalresultsarealsopresented.Keywords:Semiconductorlaser;Stability;Film;OpticalfilmI长春理工大学本科毕业设计目录摘要IAbstractII第1章绪论11.1光学薄膜的发展11.2光学薄膜的国内外研究现状11.3本论文的研究内容2第2章薄膜基本理论32.

7、1薄膜的干涉32.2长波通滤光片的基本原理6第3章膜系的设计83.1膜系要求参数83.2膜系材料的选择及要求83.2.1膜系材料选择原则83.2.2薄膜材料的要求83.2.3几种常见镀膜材料93.3初始膜系设计103.4确定方案13第4章镀膜设备及工艺144.1镀膜设备简介144.2真空系统(抽气系统)154.2.1低真空系统154.2.2高真空抽气系统154.3离子束辅助系统164.4光学薄膜影响因素174.4.1真空度对光学薄膜性质的影响174.4.2沉积速率对光学薄膜性质的影响174.4.3基底温度对光学薄膜性质的影响17第5章膜系的制备与测试195.

8、1制备工艺195.1.1试片的检测195.1.2蒸镀

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