基于plc的电阻炉温度控制系统论文

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1、基于PLC的电阻炉温度控制系统论文中文摘要中文摘要各种工业和科学实验中最常见和最重要的热参数的温度,产品或结果的温度控制的精度将有显著影响。温度不同,PLC可靠性高,抗干扰性强能力强,抗干扰能力强,使用方便,PLC控制是比较好的控制中的一个。本文介绍的控制方案电阻炉,阐述了从硬件和软件的组合物和系统的功能中,温度控制系统主要被引入。该系统FP0系列PLC为控制核心,利用强大的PLC,首先能顺利地进行金属材料的热处理工艺,同时电气装置也能够按照设计要求稳定运行。该系统还使用触摸屏替代了普通的按钮,促进了人机互动,既可以随意修改程序段中的数值,又可以实现热处

2、理工艺过程的自动跟踪和监控,实现了热处理工艺优化。外围电路简单,控制精度高,速度快,具有小型化和低功耗的优势。关键词:PLC;触摸屏;电阻炉;温度控制IAbstractAbstractAvarietyofindustrialandscientificexperiments,themostcommonandmostimportantthermalparametersoftemperature,temperaturecontrolaccuracyoftheproductortheresultwillhaveasignificantimpact.Differe

3、nttemperatures,PLChighreliability,stronganti-interferenceability,stronganti-interferenceability,easytouse,PLCcontrolisabettercontrol.Thisarticledescribesthecontrolschemeresistancefurnace,elaboratedfromafunctionalhardwareandsoftwaresystemsandcompositions,thetemperaturecontrolsyste

4、maremainlyintroduced.ThesystemFP0seriesPLCtocontrolthecore,theuseofpowerfulPLC,thefirstmetalmaterialheattreatmentprocesscanbeperformedsmoothly,andstableoperationoftheelectricaldevicecanbeinaccordancewiththedesignrequirements.Thesystemalsousesatouchscreeninsteadofthenormalbutton,a

5、ndpromotethehuman-machineinteraction,botharefreetomodifytheprogramsegmentvalue,butalsocanautomaticallytrackandmonitortheprocessofheattreatmenttoachieveaheattreatmentprocessoptimization.Theperipheralcircuitissimple,highcontrolprecision,speed,miniaturizationandlowpowerconsumptionad

6、vantages.Keywords:PLC;TouchScreen;ResistanceFurnace;TemperatureControII目录目录中文摘要.................................................................IKeywords............................................................II第1章绪论............................................................

7、.11.1课题背景.........................................................11.2课题目的..........................................................21.3电阻炉温度控制系统的发展状况......................................21.4本课题的研究内容.................................................3第2章PLC的概述.....................

8、..................................42.1PL

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