半导体物理实验讲义

半导体物理实验讲义

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时间:2018-07-13

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1、实验一硅的霍耳系数和电导率测量一、目的掌握测量霍耳系数和电导率的实验方法,测出硅的霍耳系数和电导率随温度变化的数据,确定硅的导电类型。二、基本原理一块宽为a、厚为b的长方形半导体(见图1)。若在x方向上有均匀的电流IX流过,再Z方向上加均匀磁场Bz,那么在这块半导体A、B两点间(即Y方向上)产生一电位差,这种现象称为霍耳效应。从实验中发现,在弱磁场情况下,霍耳电场Ey的大小与电流密度JX和磁场强度Bz成正比,即Ey=RJXBz由上式可得R=Ey/JXBz(1)R称为霍耳系数。在实验上直接测量的是霍耳

2、电位差VH。因为,Ey=VH/aJX=IX/ab(1)式可以写为R=VHb/IXBz(2)如果(2)式中各量所用的单位是VH-伏;IX-安培;Bz-高斯;b-厘米;38R-厘米/库仑,则应该在(2)式中引入单位变换因子10,把它写成如下形式:8R=(VHb/IXBz)*10(3)上式为实验中实际应用的公式。因为电子和空穴的漂移运动是相反的,但是电荷符号也是相反的,磁场对它们的偏1转作用力方向相同。结果在边界上积累的电荷两种情况下相反,因此霍耳电场和电势差是相反的。照这个道理可以区别电子性导电(n型)

3、和空穴导电(P型)。当EY>0,为p型,EY<0,为n型。在霍耳效应的简单理论中,对电子和空穴混合导电的半导体,霍耳系数为:222R=(pμp-nμn)/﹝(pμp+nμn)e﹞(4)对n型半导体可简化为:R=﹣1/ne(5)对p型半导体可简化为:R=1/pe(6)(4)、(5)、(6)各式中,n和p分别表示电子和空穴浓度,μp和μn分别为电子和空穴的迁移率。图2给出两个硅样品霍耳系数随着温度变化的实验曲线。样品1是n型的,样品2是p型的。在图2中,样品1的曲线AB部分差不多是一水平线,在这一段温度

4、范围,施主能级上的电子几乎全部跃迁到导带中去了,而本征激发是可以忽略的,因而表现出温度升高导带中电子密度不变。这就是所谓的饱和电离区。根据公式,在饱和区的霍耳系数RH为一常数,并且在无补偿的情况下,可以得出施主密度:2ND=1/e

5、RH

6、(7)同理,p型样品的受主密度NA=1/eRH(8)图2的CD部分:当温度升高时霍耳系数迅速减小。这是由于温度已经足够高了,能使电子直接由满带跃迁到导带的本征激发成为主要的。从而使电子浓度和空穴浓度相等,并随温度升高迅速增大。这说明不管杂质的种类和密度是怎样的,由R

7、-1/T知道在本征导电时都有相同的激发能Eg/2。此时硅的性质决定于本征禁带宽度,导带和满带的有效状态密度,与外加杂质的种类和密度无关,所以叫本征导电。样品2是p型的,p型样品的曲线包含两支,右面(低温区)的一支霍耳系数是正的,而左面的一支霍耳系数是负的,图中表示的是绝对值。P型半导体霍尔系数一个明显特点是,在温度从杂质电离范围过渡到本征导电范围时,霍尔系数将改变符号。这是因为电子迁移率大于空穴迁移率的原因而引起的。可以证明,在本征时:3/2ni=n=p=KTexp(﹣Eg/2KT)(9)上式中Eg

8、为禁带宽度,K是与T无关的常数。在本征导电时,硅样品中晶格散射起主要作用,迁移率和温度的关系:﹣3/2μ~T(10)把(9)和(10)两式代入(4)中可得:﹣3/2R=ATexp(Eg/2KT)(11)由于上式中R与T的关系主要是由指数项决定,所以它又可以近似地写为:R=Bexp(Eg/2KT)(12)这里A与B均为与T无关的常数。根据(12)式,在本征导电范围,我们可以从lnR-1/T曲线的斜率来求禁带宽度Eg。电导率与温度的关系:图(1)中AC为测量电导的一对电极,AC之间的距离为1;横截面积a

9、b=s。当有均匀的电流沿x方向流过样品时,测得AC之间电位差VAC,则电导率为:σ=IXl/VACab(13)﹣1(13)式中各量常用单位是:IX一安培,VAC-伏特,a、b、l一厘米,σ-(欧姆•厘米)。图3表示n型硅样品电导率随温度变化的曲线。在饱和电离区,载流子密度不随温度改变。但是在这个温度范围内,由于晶格散射起主要作用,迁移率随温度升高而减少,因此电导率随温度的升高是下降的。当温度进入本征范围,由于电子和空穴密度随温度的上升而迅速增加。因此电导率也随温度的增加而上升。本征导电时σ=e(pμ

10、p+nμn)=eni(μp+μn)(14)把(9)、(10)两式代入(14)中可得:σ=Cexp(﹣Eg/2KT)(15)其中C为与T无关的常数。根据(15)式,在本征导电范围,也可以从lnσ-1/T曲线的斜率求出禁带宽度Eg。3在杂质电离区,则有n型σ=neμn(16)p型σ=peμp(17)应该指出,在霍耳效应的统计理论中,霍耳系数的公式与简单理论给出的(4)、(5)(6)式不同,它们之间相差一个霍耳因子。在杂质电离区,通常定义一个霍耳迁移率μH:n型μH=

11、R

12、

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