本节介绍了表面钝化工艺

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1、本节介绍了表面钝化工艺，指出表面钝化工艺有：掺氯氧化法、磷硅玻璃钝化法、氮化硅钝化法、三氧化二铝钝化法、半绝缘多晶硅钝化法、低压化学气相淀积钝化法、金属氧化物钝化法、有机聚合物钝化法、玻璃钝化法等数十种钝化方法，而本节介绍了其中几种卓有成效的钝化方法。有关氯化氢氧化法，介绍了氯化氢氧化工艺，指出：根据氯化氢发生器的不同分为盐酸鼓泡法、 氯化氢渗透法、 硫酸脱水法和分子筛吸附法四种方法；对实际工艺过程及钝化机理进行了讨论，指出实际工艺过程是由钝化系统和钝化硅表面两部分组成，因此钝化机理也分为系统钝化机理和 二氧化硅-硅系统钝化机理两部分；本节还指出了 氯化氢氧化应注意的问题，

2、为实际工艺应用打好了基础；本节还介绍了其它掺氯氧化工艺，并对生成膜更加优良的三氯乙烯氧化工艺进行了讨论。有关磷硅玻璃钝化法，介绍了磷硅玻璃结构及其钝化机理，指出：磷硅玻璃中的负离子结构对对钠离子有阻挡作用、对钠离子有固定作用 ，磷硅玻璃比二氧化硅高的多的对钠离子的溶解度（高100倍以上），使其有能从二氧化硅中提取钠离子的能力；讨论了磷硅玻璃的制备工艺，介绍了常用的磷蒸汽合金法、磷处理法和化学气相淀积法（CVD），并表明三种方法各有利弊；最后讨论了磷硅玻璃钝化的优缺点，给出了五条优点和三条缺点，为克服其缺点，建议采用多层介质结构。有关氮化硅钝化法，介绍了氮化硅制备工艺，给出了

3、几种可行的化学气相淀积法（CVD）制备氮化硅方法，包括常压化学气相淀积法（APCVD）、低压化学气相淀积法（LPCVD）和等离子体化学气相淀积法（PCVD）；介绍了CVD法制备氮化硅的常用硅化物和氮化剂，讨论了氮化硅制备的反应原理；讨论了氮化硅的性质，指出：氮化硅具有结构致密、表面呈疏水性；掩蔽能力强、应用场合广泛、工艺效果好；抗钠离子能力强（有很强的阻挡钠离子的能力、有提取钠离子的能力）；化学稳定性好；介电性能好；高温性能好六条较好的性质，也存在氮化硅-硅界面性质不好的特点，因此建议当使用氮化硅膜作为钝化膜时，应采用氮化硅-二氧化硅的双层介质结构。有关三氧化二铝钝化法，首

4、先介绍了三氧化二铝的性质，指出：三氧化二铝膜具有上述钝化膜所不具备的抗辐射能力强和具有负电荷效应两个特点，同时具有 结构致密、抗钠离子能力较强和化学稳定性好的优点，着使其在许多特殊器件制造中的到应用；讨论了三氧化二铝膜的制备，在可用方法中介绍了三氯化铝水解法、铝的有机化合物的热分解法、反应溅射法（直流反应溅射法、高频反应溅射法）、 真空电子束蒸发法和阳极氧化法五种方法；重点讨论了有关三氯化铝水解法的工艺内容，讨论了三氯化铝水解法制备三氧化二铝膜的设备及典型工艺条件、讨论了三氯化铝水解法制备三氧化二铝膜的化学反应原理；重点讨论了有关阳极氧化法的工艺内容，介绍了阳极氧化法制备三

5、氧化二铝膜的工艺方法，讨论了阳极氧化法制备三氧化二铝膜的工艺应用；最后指出：由于三氧化二铝-硅界面有载流子的交换，则在应用三氧化二铝膜作为钝化膜使用时须采用双层介质结构（三氧化二铝-二氧化硅）；三氧化二铝膜对钠离子无固定和提取的作用，则在制备三氧化二铝膜之前应对衬底进行除钠处理。有关器件制造中常用于表面保护的几种有机涂料，介绍了有机硅树脂、 硅橡胶和聚酰亚铵膜（PI）的应用，其中有机硅树脂和硅橡胶膜从工艺制备和性能上都差不多，硅橡胶工艺更简单一点；聚酰亚铵膜（PI）的应用性能更好，对其优点指出：除具有热稳定性好、耐高低温（应用温度从-200˚C至400˚C）；热膨胀系数小；

6、电绝缘性好；物理、化学性能稳定；较适于批量生产外，还具有负电荷效应和 较强的抗辐射能力等仅有三氧化二铝膜才具有的特性，这拓宽了聚酰亚铵膜（PI）的应用范围。课程难点：较成熟的各种表面钝化工艺的定义及含义。氯化氢氧化法中的氯化氢氧化工艺，氯化氢氧化工艺的四种工艺方法；氯化氢氧化工艺的实际工艺过程、工艺条件及工艺要求；氯化氢对系统进行处理和氯化氢氧化生成的含氯二氧化硅膜的钝化机理（系统钝化机理和二氧化硅-硅系统钝化机理）；有关其它掺氯氧化工艺，特别是生成膜更加优良的三氯乙烯氧化工艺的方法与原理。磷硅玻璃钝化法中的磷硅玻璃膜的制备工艺，常用的磷蒸汽合金法和磷处理法工艺过程、工艺条

7、件、工艺要求和工艺的利弊，有关化学气相淀积法（CVD）制备磷硅玻璃膜的的工艺过程、工艺条件、工艺要求和工艺的利弊；磷硅玻璃的结构及该结构的钝化机理，磷硅玻璃中的负离子结构对钠离子有阻挡作用的原理，磷硅玻璃中的负离子结构对钠离子有固定作用的原理 ，磷硅玻璃具有能从二氧化硅中提取钠离子的能力的原理；磷硅玻璃钝化的优缺点；为什么建议采用多层介质结构，多层介质结构的构成原理。氮化硅钝化法中的氮化硅膜制备工艺，几种可行的化学气相淀积法（CVD）制备氮化硅膜方法[包括常压化学气相淀积法（APCVD）、低压化学气相淀积法（LPC