2006高考理综试题化学部分(天津卷)

《2006高考理综试题化学部分(天津卷)》由会员上传分享，免费在线阅读，更多相关内容在教育资源-天天文库。

1、2006高考理综试题化学部分（天津卷）7.下列说法正确的是Ａ．用乙醇或ＣＣｌ4可提取碘水中的碘单质Ｂ．ＮａＣｌ和ＳｉＣ晶体熔化时，克服粒子间作用力的类型相同Ｃ．24Ｍｇ32Ｓ晶体中电子总数与中子总数之比为1∶1Ｄ．Ｈ2Ｓ和ＳｉＦ4分子中各原子最外层都满足8电子结构8.引起下列环境污染的原因不正确的是Ａ．重金属、农药和难分解有机物等会造成水体污染Ｂ．装饰材料中的甲醛、芳香烃及氡等会造成居室污染Ｃ．ＳＯ2、ＮＯ2或ＣＯ2都会导致酸雨的形成Ｄ．ＣＯ2和氟氯烃等物质的大量排放会造成温室效应的加剧9.下列说法正确的是Ａ．ⅠＡ族元素的金属性比ⅡＡ族元素的金属

2、性强Ｂ．ⅥＡ族元素的氢化物中，稳定性最好的其沸点也最高Ｃ．同周期非金属氧化物对应的水化物的酸性从左到右依次增强Ｄ．第三周期元素的离子半径从左到右逐渐减小10.下列关于电解质溶液的叙述正确的是Ａ．常温下，ｐＨ＝7的ＮＨ4Ｃｌ与氨水的混合溶液中离子浓度大小顺序为　ｃ（Ｃｌ－）＞ｃ（ＮＨ4+）＞ｃ（Ｈ＋）＞ｃ（ＯＨ－）Ｂ．将ｐＨ＝4的醋酸溶液稀释后，溶液中所有离子的浓度均降低Ｃ．中和ｐＨ与体积均相同的盐酸和醋酸溶液，消耗ＮａＯＨ的物质的量相同Ｄ．常温下，同浓度的Ｎａ2Ｓ与ＮａＨＳ溶液相比，Ｎａ2Ｓ溶液的ｐＨ大11.某温度下，体积一定的密闭容器中进行如下

3、可逆反应：　Ｘ（ｇ）＋Ｙ（ｇ）　　　　　Ｚ（ｇ）＋Ｗ（ｓ）；ΔＨ＞0下列叙述正确的是Ａ．加入少量Ｗ，逆反应速率增大Ｂ．当容器中气体压强不变时，反应达到平衡Ｃ．升高温度，平衡逆向移动Ｄ．平衡后加入Ｘ，上述反应的ΔＨ增大712.我国首创的海洋电池以铝板为负极，铂网为正极，海水为电解质溶液，空气中的氧气与铝反应产生电流。电池总反应为：4Ａｌ＋3Ｏ2＋6Ｈ2Ｏ＝4Ａｌ（ＯＨ）3，下列说法不正确的是Ａ．正极反应为：Ｏ2＋2Ｈ2Ｏ＋4ｅ－＝4ＯＨ－Ｂ．电池工作时，电流由铝电极沿导线流向铂电极Ｃ．以网状的铂为正极，可增大与氧气的接触面积Ｄ．该电池通常只需要更换

4、铝板就可继续使用13.已知反应：①101ｋＰａ时，2Ｃ（ｓ）＋Ｏ2（ｇ）＝2ＣＯ（ｇ）；ΔＨ＝－221ｋＪ／ｍｏｌ②稀溶液中，Ｈ＋（ａｑ）＋ＯＨ－（ａｑ）＝Ｈ2Ｏ（ｌ）；ΔＨ＝－57.3ｋＪ／ｍｏｌ下列结论正确的是Ａ．碳的燃烧热大于110.5ｋＪ／ｍｏｌＢ．①的反应热为221ｋＪ／ｍｏｌＣ．稀硫酸与稀ＮａＯＨ溶液反应的中和热为－57.3ｋＪ／ｍｏｌＤ．稀醋酸与稀ＮａＯＨ溶液反应生成1ｍｏｌ水，放出57.3ｋＪ热量26.（14分）中学化学中几种常见物质的转化关系如下：将Ｄ溶液滴入沸水中可得到以Ｆ为分散质的红褐色胶体。请回答下列问题：（1）红褐色胶体

5、Ｅ粒子直径大小的范围：　　　　　　　　　　　。（2）Ａ、Ｂ、Ｈ的化学式：Ａ　　　　　　，Ｂ　　　　　　，Ｈ　　　　　　　　。（3）①Ｈ2Ｏ2分子的电子式：　　　　　　　　　　　　　②写出Ｃ的酸性溶液与双氧水反应的离子方程式：　　　　　　　　　　　　　　　　　。（4）写出鉴定Ｅ中阳离子的实验方法和现象：　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（5）在Ｃ溶液中加入与Ｃ等物质的量的Ｎａ2Ｏ2，恰好使Ｃ转化为Ｆ，写出该反应的离子方程式：　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　

6、　　　　　　　。727.（19分）碱存在下，卤代烃与醇反应生成醚（Ｒ－Ｏ－Ｒ‘）：KOH室温Ｒ－Ｘ＋Ｒ‘ＯＨ　　　　　　　　Ｒ－Ｏ－Ｒ‘+HX化合物Ａ经下列四步反应可得到常用溶剂四氢呋喃，反应框图如下：请回答下列问题：（1）1ｍｏｌＡ和1ｍｏｌＨ2在一定条件下恰好反应，生成饱和一元醇Ｙ，Ｙ中碳元素的质量分数约为65％，则Ｙ的分子式为　　　　　　　　　　　Ａ分子中所含官能团的名称是　　　　　　　　　　　　　　，Ａ的结构简式为　　　　。（2）第①②步反应类型分别为①　　　　　　　　　②　　　　　　　　　　。（3）化合物Ｂ具有的化学性质（填写字母代号）

7、是　　　　　　　　　　ａ可发生氧化反应ｂ强酸或强碱条件下均可发生消去反应　ｃ可发生酯化反应ｄ催化条件下可发生加聚反应（4）写出Ｃ、Ｄ和Ｅ的结构简式：Ｃ　　　　　　　　　　　　　　，Ｄ和Ｅ　　　　　　　　　　　　　　　　　　。（5）写出化合物Ｃ与ＮａＯＨ水溶液反应的化学方程式：　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　。（6）写出四氢呋喃链状醚类的所有同分异构体的结构简式：　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　。28（19分）晶体硅是一种重要的非金属材料。制备纯硅的主要步骤如下：3

8、00℃①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅②粗硅与干燥ＨＣｌ气体反应制得ＳｉＨＣｌ3：Ｓｉ＋3ＨＣｌ　　　　ＳｉＨＣｌ3＋Ｈ2③ＳｉＨＣｌ3