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时间:2018-07-08
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1、玻璃减薄蚀刻液中氟硅酸的选择性脱除方法李凯华1晏乃强1*徐亚玲2黄源2瞿赞1刘志彪2(1.上海交通大学环境科学与工程学院,上海200240;2.杭州格林达化学公司,杭州311200)摘要光电玻璃减薄蚀刻液中氟硅酸(H2SiF6)的累积,是导致蚀刻液无法连续使用而转化为废液的主要原因。尝试对蚀刻废液中氟硅酸进行选择性脱除工艺,探索刻蚀液循环利用的有效处理方法。鉴于氟硅酸的碱金属盐具有溶解度较低的特点,研究考察了利用钠盐或钾盐为沉淀剂,将废液中的H2SiF6以氟硅酸盐的形式沉淀去除,为实现蚀刻液的循环利用提供可能。结果表明,KCl相比NaCl对H2SiF6处理
2、效果更好,但生成的K2SiF6的结晶颗粒过细,难以自然沉降,过滤效果较差;而Na2SiF6结晶沉降特性较好,且使用NaCl为沉淀剂具有价廉易得等特点,可作为氟硅酸的理想沉淀剂。H2SiF6去除率与碱金属盐H2SiF6摩尔计量比正相关,当摩尔计量比NaCl/H2SiF6=2,H2SiF6含量10%的模拟废液,其H2SiF6去除率可达到90%以上。关键词玻璃减薄刻蚀液H2SiF6选择性脱除沉淀剂中图分类号X703文献标识码A文章编号1673-9108(2014)03-1079-07Methodofselectiveremovaloffluosilicicaci
3、dfromusedglassthinningsolutionLiKaihua1YanNaiqiang1XuYaling2HuangYuan2QuZan1LiuZhibiao2(1.SchoolofEnvironmentalScienceandEngineering,ShanghaiJiaoTongUniversity,Shanghai200240,China;2.HangzhouGreendaChemicalCompanyLimited,Hangzhou311200,China)AbstractTheaccumulationoffluosilicicaci
4、d(H2SIF6)inthethinningprocessoftheelectronicgradeglassisoneofthemainreasonstocausethedegradationofthethinningsolutionandthedischargeofsuchkindofwastesolution.ThisstudywasconcentratedontheremovalofH2SiF6fromtheusedglassthinningsolutionwith-outdestroyingthebasicconstituentsofthesolu
5、tion.Basedonthecharacteristicoflowsolubilityofthealkalifluo-silicatesalts,sodiumsaltandpotassiumsaltweretentativelyemployedastheprecipitationagentstoreactwithH2SiF6andformNa2SiF6orK2SiF6sediment.ItwasfoundthatusingexcesssodiumorpotassiummetalsaltscouldremoveH2SiF6efficiently.Compa
6、rewithK2SiH6,theprecipitationpropertyofNa2SiF6particleismuchbetterandthesodiumsaltisalsoinexpensive.Therefore,sodiumchlorideappearedtobethepotentialcandida-turefortheremovalofH2SiF6fromtheusedglassthinningsolution.TheremovalefficiencyofH2SiF6wasover90%at2forthemoleratioofNaCl/H2Si
7、F6and10%ofH2SiF6concentrationinthesimulatesolution.Keywordsglassthinningsolution;H2SiF6;selectiveremoval;precipitationagent随着现代科技的发展,电子显示设备越来越趋向轻薄化,光电玻璃屏的厚度已从1996年的1.1mm降至目前0.5mm,在手机等便携式设备中应用反应如下[1]:4HF+SiO2→SiF4+2H2O(1)SiF4+2HF→H2SiF6(2)的玻璃厚度更下降至0.3mm以下。在显示玻璃屏的制作环节中,玻璃基板的减薄化处置是
8、确保该工艺完成的重要环节,玻璃减薄效果的好坏将直接影响产品的质量。
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