试论我国集成电路布图设计的知识产权保护(上)论文

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时间:2018-07-06

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1、试论我国集成电路布图设计的知识产权保护(上)论文.freelaskWork),日本称之为电路布局(CircuitLayout),欧洲国家采用的是另一个英文单词Topography(拓朴图),而世界知识产权组织(WIPO)于1987年2月通过的《关于集成电路知识产权保护条约》(简称《WIPO条约》或《华盛顿条约》)中则采用了Layout-design(布图设计)一词。这些词语字面上的表示虽各不相同,但其真正的含义都是相同的,即指集成电路中各种元件的三维配置。许多人认为布图设计只是一种设计图,就象建筑工程设计图一样。事实上布图设计与建筑工程设计图这种一般的二维设计图是

2、不同的,它是一种有许多不同层面的三维设计,每一层面上又有许多复杂的电路布图装置图,而且最重要的是,真正可以用于实践的布图设计是经过了特殊的工艺按实物尺寸复制在玻璃板上,可以直接加工在芯片上的模本,即掩膜版。现在世界上虽已有一些更先进的模本技术,但是最终布图设计还是必须做成与集成电路产品实物一般大小的模本,才可算是完成了布图设计的制作。在生产过程中,这些模本是直接被“做”到产品中去成为产品的一部分,而不是象建筑设计图那样本身与实际的建造结果之间并无联系。一个小小的掩膜作品中所包含的电路设计图往往可以是几十张上千张甚至上万张。设计一组布图设计,需要付出巨大的创造性劳动

3、,它代表着芯片开发中的主要投资,可占其成本的50%以上。布图设计作为人类智力劳动的成果,具有知识产权客体的许多共性特征,应当成为知识产权法保护的对象,其特点主要表现在:(一)无形性。布图设计作为一种元件的“三维配置”,这种配置方式本身是无形的、抽象的,是人类智慧的体现,但它可以通过有形的载体表现出来而为人所感知。当它被制作成芯片时,表现为一定的构形;当它被制成掩膜版时,表现为一定的图形;当它被输入计算机时,则以一定的数据代码的方式存储在磁盘之中。(二)可复制性。布图设计具有可复制性,但其可复制性与一般著作权客体的可复制性不同。当布图设计的载体为掩膜版时,它以图形方

4、式存在,这时只要对全套掩膜版加以翻拍,即可复制出全部的布图设计。当布图设计以磁盘为载体时,同样可用通常的拷贝方法复制。当布图设计的载体为集成电路芯片时,它同样可以被复制,只是复制过程相对要复杂一些。复制者要先把芯片的塑料或陶瓷外壳打开,利用一台高分辨率的照相机,把顶上的金属联接层照下来,再用酸把这层金属腐蚀掉,对下面那层半导体材料照相,获得该层的掩膜作品。照完后利用相同的方法再照下一层,如此一步一步做下去,就可以得到这一芯片的全套掩膜,依靠这套掩膜就可以模仿生产该芯片。这种从集成电路成品着手,利用特殊技术手段了解其布图设计的方法被称为“反向工程”方法。这种方法虽需

5、一定的技术要求,但是比起原开发者漫长艰辛的开发过程,其所花费的时间和精力都只是后者的若干分之一。(三)表现形式的非任意性。布图设计是与集成电路的功能相对应的。布图设计的表现形式要受到电路参数、实物产品尺寸、工艺技术水平、半导体材料结构和杂质分布等技术因素和物理规律的限制,因此开发新的功能相同或相似的集成电路,其布图设计不得不遵循共同的技术原则和设计原则,有时还要采用相同的线宽,甚至采用相同的电路单元。这就造成了对布图设计侵权认定难度的加大,有关这一点,笔者将在后文论述。由以上特点可以看出,布图设计的无形性是知识产权客体的共性,可复制性是著作权客体的一个必要特征,表

6、现形式的非任意性则是工业产权客体的特性,因此,布图设计成为了一种兼有著作权和工业产权客体双重属性的特殊知识产权客体,很难在传统的知识产权法律保护体系中得到完善的保护。因此要想求取良好适当的法律保护模式,就必须突破传统的界限。针对布图设计自身的特征,制定出专门的单行法律加以保护,这是世界上大多数国家的共识。我国也正是采用了此种立法方式。二、我国集成电路布图设计知识产权保护的理论体系我国集成电路布图设计的知识产权保护体系是在传统知识产权法理论的基础上,借鉴国外的一些理论和实践建立起来的。这一理论体系的核心概念即布图设计专有权。(一)布图设计专有权的概念和要素1、概念布

7、图设计专有权就是布图设计的创作人或者其他权利人对布图设计所享有的权利,具体来说,就是指国家依据有关集成电路的法律规定,对于符合一定手续和条件的布图设计,授予其创作人或其他人在一定期间内对布图设计进行复制和商业利用的权利。布图设计专有权作为一种独立的知识产权,既不属于专利权,也不属于著作权。而且,布图设计专有权是以布图设计为权利客体的,权利人对与布图设计有关的集成电路或其中所含的信息并不享有权利。2、要素布图设计专有权的要素包括三个,即布图设计专有权的主体、客体和内容。(1)布图设计专有权的主体。布图设计专有权的主体,即布图设计权利人,是指依照集成电路布图设计保护法

8、的规定,对

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