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1、XINYUUNIVERSITY毕业设计（论文）（2012届）题目等离子体化学气相沉积制备薄膜技术二级学院新能源科学与工程学院专业材料工程班级09材料工程班学号0903010010学生姓名程绍伟指导教师詹长军老师目录摘要IABSTRACTII第1章等离子体化学气相沉积的技术和基础11.1等离子的概念11.2等离子体的特性参数描述21.3等离子体的产生方法和原理3第2章等离子体化学气相沉积制备薄膜的过程42.1等离子体增强化学气相沉积的过程42.1.1等离子体内的化学反应72.1.2等离子化学气相沉
2、积制备DLC膜的研究9第3章PECVD的工艺流程以及生长表面的成膜反应113.1PECVD等离子体增强化学气相沉积的应用113.1.1生长表面的成膜反应133.1.2PECVD工艺流程和成膜的特点15结论18参考文献19致谢20等离子体化学气相沉积制备薄膜技术摘要介绍了等离子体化学气相沉积的技术和基础，PECVD技术原理、系统以及工艺流程，制备薄膜生长的过程，表面成膜在微电子、能源、光纤通讯、超导材料等尖端技术中,都占有重要的地位,在机械、建材等工业以及日用消费品制造业中都有广泛的应用。从材料种
3、类上来看,薄膜材料有金属、半导体和绝缘体,有单晶、多晶和非晶态,有无机和有机材料。薄膜的成膜方法很多。根据不同的材料,可以选用相应的成膜工艺。关键词：等离子体；PECVD；薄膜生长IPlasmachemicalvapordepositionthinfilmtechnologyAbstractIntroducedtheplasmachemicalvapordepositiontechnologyandfoundation,PECVDtechnologyprinciple,systemandproc
4、essflow,thepreparationofthegrowthofthinfilmsisprocess,thesurfacefilminmicroelectronics,energy,opticalfibercommunication,superconductingmaterialsintheadvancedtechnology,hasanimportantpositioninmachinery,buildingmaterialsindustryanddailyconsumergoodsin
5、themanufacturingindustryiswidelyused.Frommaterialspeciestosee,filmmaterialsaremetal,semiconductorsandinsulation,asinglecrystal,polycrystallineandamorphous,inorganicandorganicmaterials.Thefilmintofilmmanymethods.Accordingtothedifferentmaterial,canchoo
6、secorrespondingfilmtechnology.Keywords:plasma;PECVD;thinfilmgrowthI等离子体化学气相沉积制备薄膜技术第1章等离子体化学气相沉积的技术和基础1.1等离子的概念近代科学研究的结果表明，物质除了具有固态、液态和气态的这三种早为人们熟悉的形态之外，在一定的条件下，还可能具有更高能量的第四种形态——等离子体状态。例如通过加热、放电等手段，使气体分子离解和电离，当电离产生的带电粒子密度达到一定的数值时，物质的状态将发生新的变化，这时的电离气体
7、已经不再是原来的普通气体了。由于这种电离气体不管是部分电离还是完全电离，其中的正电荷总数始终和负电荷总数在数值上是相等的，于是人们将这种由电子、离子、原子、分子或者自由基团等粒子组成的电离气体称之为等离子体[1]。不管在组成上还是在性质上，等离子体不同于普通的气体。普通气体由电中性的分子或原子组成，而等离子体则是带电粒子和中性粒子的集合体。等离子体和普通气体在性质上更是存在本质的区别，首先，等离子体是一种导电流体，但是又能在与气体体积相比拟的宏观尺度内维持电中性；其次，气体分子间不存在净电磁力，
8、而等离子体中的带电粒子之间存在库仑力；再者，作为一个带电粒子体系，等离子体的运动行为会受到电磁场的影响和支配。因此，等离子体是完全不同于普通气体的一种新的物质聚集态。应当指出，并非任何的电离气体都是等离子体。众所周知，只要绝对温度不为零，任何气体中总存在有少量的分子和原子电离。严格地说来，只有当带电粒子地密度足够大，能够达到其建立的空间电荷足以限制其自身运动时，带电粒子才会对体系性质产生显著的影响，换言之，这样密度的电离气体才能够转变成等离子体。除此之外，等离子体的存在还有其特征的空间和时间限度
